La deposizione nelle nanotecnologie si riferisce al processo di creazione di strati sottili o spessi di una sostanza su una superficie solida, atomo per atomo o molecola per molecola. Questo processo dà luogo a un rivestimento che altera le proprietà della superficie del substrato, a seconda dell'applicazione prevista. Lo spessore di questi strati può variare da un singolo atomo (nanometro) a diversi millimetri, in base al metodo di deposizione e al materiale utilizzato.
Metodi di deposizione:
Le tecniche di deposizione variano notevolmente, includendo metodi come la spruzzatura, il rivestimento di rotazione, la placcatura e la deposizione sotto vuoto. La deposizione sotto vuoto, in particolare, ha applicazioni significative nelle nanotecnologie grazie alla sua capacità di produrre strati sottili uniformi su scala atomica. Questo metodo comprende la Physical Vapor Deposition (PVD) e la Chemical Vapor Deposition (CVD), che si differenziano per la fonte del vapore (fisica per la PVD e chimica per la CVD).Deposizione sotto vuoto nelle nanotecnologie:
La deposizione sotto vuoto, in particolare la PVD, è stata determinante per la crescita di nanofili e nanobelt. Il processo prevede tipicamente la sublimazione dei materiali di partenza in polvere ad alte temperature. Di solito si utilizzano polveri di ossido di elevata purezza e i gradienti di temperatura si ottengono facendo scorrere l'acqua di raffreddamento sul contenitore in più fasi. Questo metodo consente un controllo preciso dello spessore e dell'uniformità dello strato, fondamentale per le applicazioni su scala nanometrica.
Tecnologie di deposizione di film sottili:
La deposizione a film sottile è una tecnologia cruciale per la realizzazione di circuiti integrati ed è sempre più importante per le nanotecnologie. Questo processo prevede l'applicazione di un rivestimento sottile su una superficie convertendo il materiale di rivestimento da uno stato di vapore o dissolto utilizzando varie tecniche come l'elettricità, il calore elevato, le reazioni chimiche o l'evaporazione. Uno dei tipi più antichi e comuni di deposizione di film sottili è la galvanoplastica, in cui un oggetto bersaglio viene immerso in un bagno chimico contenente atomi di metallo disciolti e una corrente elettrica fa sì che questi atomi si depositino sul bersaglio.
