Lo sputtering in corrente continua pulsato è generalmente considerato migliore dello sputtering in corrente continua per alcune applicazioni, in particolare nello sputtering reattivo e quando si tratta di isolanti. Ciò è dovuto alla capacità di mitigare i danni da scarica d'arco e al maggiore controllo sulle proprietà del film.
Attenuazione dei danni da scarica d'arco:
Lo sputtering DC pulsato è particolarmente vantaggioso nello sputtering ionico reattivo, dove il rischio di scarica d'arco è elevato. La scarica ad arco si verifica a causa dell'accumulo di carica sul bersaglio, che può essere dannoso sia per il film sottile che per l'alimentazione. Lo sputtering CC pulsato aiuta a gestire questo problema scaricando periodicamente la carica accumulata, evitando così l'accumulo che porta alle scariche ad arco. Ciò rende il processo più stabile e meno dannoso per le apparecchiature e i film depositati.Maggiore controllo sulle proprietà del film:
Lo sputtering a corrente continua pulsata consente di controllare meglio varie proprietà del film, come lo spessore, l'uniformità, la forza di adesione, lo stress, la struttura dei grani e le proprietà ottiche o elettriche. Ciò è fondamentale nelle applicazioni in cui è necessario un controllo preciso delle caratteristiche del film. La natura pulsata dell'alimentazione consente un ambiente più controllato per la deposizione dei materiali, che porta a film di qualità superiore.
Vantaggi nella deposizione di materiali isolanti:
Il tradizionale sputtering in corrente continua ha dei limiti quando si tratta di depositare materiali isolanti a causa dell'accumulo di carica sul bersaglio. Lo sputtering DC pulsato, insieme a progressi come l'High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS), supera queste limitazioni fornendo un metodo per depositare efficacemente i materiali isolanti. Ciò è particolarmente importante nello sviluppo di materiali e rivestimenti avanzati in cui le proprietà isolanti sono essenziali.
