La camera di deposizione richiede un alto vuoto soprattutto per garantire la purezza e la qualità dei film depositati.
Ciò si ottiene riducendo al minimo la pressione del gas per aumentare il percorso libero medio degli atomi vaporizzati, riducendo i livelli di contaminazione e migliorando il controllo sulla composizione della fase del gas e del vapore.
Perché la camera di deposizione è ad alto vuoto? 4 ragioni chiave spiegate
1. Aumento del percorso libero medio
In un ambiente ad alto vuoto, la pressione del gas è notevolmente ridotta.
Ciò aumenta il percorso libero medio degli atomi vaporizzati.
Questi atomi percorrono distanze maggiori senza entrare in collisione con altre molecole di gas.
Questo aspetto è fondamentale perché impedisce la nucleazione di fuliggine nel vapore.
Garantisce che gli atomi raggiungano il substrato senza dispersioni.
Questo porta a una deposizione più uniforme e di alta qualità.
2. Riduzione dei livelli di contaminazione
Le condizioni di alto vuoto riducono drasticamente la presenza di gas di fondo nella camera.
Questi gas sono potenziali fonti di contaminazione.
Ciò è particolarmente importante per le applicazioni sensibili all'ossigeno e all'umidità.
Ad esempio, i dispositivi organici ad emissione di luce e il fotovoltaico organico.
Anche tracce di questi gas possono spegnere le specie funzionali attive.
Mantenendo un vuoto compreso tra 10^-6 e 10^-9 Torr, la purezza dei film evaporati è notevolmente migliorata.
3. Maggiore controllo sulla composizione delle fasi di gas e vapore
L'ambiente ad alto vuoto consente ai tecnici di controllare con precisione la composizione delle fasi di gas e vapore.
Questo controllo è essenziale per la creazione di film sottili specializzati.
Ad esempio, quelli utilizzati nei rivestimenti ottici.
La composizione chimica del film deve essere esatta.
4. Superfici pulite per una migliore adesione
Il vuoto spinto garantisce anche la pulizia delle superfici all'interno della camera.
Questa pulizia è fondamentale.
Permette agli atomi evaporati di aderire meglio al substrato.
Formando uno strato stabile e uniforme.
Senza un vuoto elevato, gli atomi evaporati potrebbero non aderire bene.
Questo potrebbe portare a una deposizione instabile o non uniforme.
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