I vantaggi dello sputtering a fascio ionico (IBS) includono:
1. Pressione di camera più bassa: il plasma nell'IBS è alloggiato all'interno della sorgente ionica, consentendo una pressione di camera molto più bassa rispetto allo sputtering magnetronico tradizionale. Ciò riduce il livello di contaminazione del film.
2. Legame energetico ottimale: Lo sputtering a fascio ionico utilizza un'energia di adesione circa 100 volte superiore a quella del rivestimento sotto vuoto. Ciò garantisce una qualità superiore e un forte legame anche dopo la deposizione della superficie.
3. Versatilità: L'IBS consente la deposizione di qualsiasi materiale. Le caratteristiche di sputtering dei diversi materiali sono minori rispetto all'evaporazione, rendendo più facile lo sputtering di materiali con punti di fusione elevati. Inoltre, i materiali composti da leghe e target possono essere sputati per formare un film con lo stesso rapporto del componente target.
4. Controllo di precisione: Lo sputtering a fascio ionico offre un controllo preciso su vari parametri come la velocità di sputtering del target, l'angolo di incidenza, l'energia degli ioni, la densità di corrente degli ioni e il flusso di ioni. Ciò consente di ottenere film depositati lisci, densi e compatti con una precisione eccellente.
5. Uniformità: lo sputtering a fascio ionico garantisce un'elevata uniformità dei film depositati. Il fascio di ioni può essere focalizzato e scansionato con precisione, consentendo una deposizione uniforme sul substrato. Inoltre, è possibile controllare l'energia, le dimensioni e la direzione del fascio di ioni, garantendo un film uniforme senza collisioni.
Nonostante questi vantaggi, lo sputtering a fascio ionico presenta anche alcune limitazioni. L'area bersaglio del bombardamento è relativamente piccola, il che comporta un tasso di deposizione generalmente basso. Potrebbe non essere adatto per depositare film di grande superficie e di spessore uniforme. Inoltre, il dispositivo di sputtering può essere complesso e i costi operativi dell'apparecchiatura tendono a essere più elevati rispetto ad altre tecniche di deposizione.
Nel complesso, lo sputtering a fascio ionico è una tecnica valida per ottenere una deposizione di film sottili di alta qualità con un controllo preciso e un'uniformità. Trova ampie applicazioni in diversi settori industriali.
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