Lo sputtering a fascio ionico (IBS) è una tecnica sofisticata utilizzata in vari settori industriali per la deposizione di film sottili di alta qualità.
Quali sono i 5 vantaggi principali dello sputtering a fascio ionico?
1. Pressione della camera più bassa
Il plasma nell'IBS è alloggiato all'interno della sorgente ionica.
Ciò consente una pressione in camera molto più bassa rispetto allo sputtering magnetronico tradizionale.
Questa riduzione della pressione abbassa notevolmente il livello di contaminazione del film.
2. Legame energetico ottimale
Lo sputtering a fascio ionico utilizza un'energia di legame circa 100 volte superiore a quella del rivestimento sotto vuoto.
Ciò garantisce una qualità superiore e un forte legame anche dopo la deposizione della superficie.
3. Versatilità
L'IBS consente la deposizione di qualsiasi materiale.
Le caratteristiche di sputtering dei diversi materiali sono minori rispetto all'evaporazione.
Ciò rende più facile lo sputtering di materiali con punti di fusione elevati.
Inoltre, è possibile spruzzare leghe e composti target per formare un film con lo stesso rapporto del componente target.
4. Controllo di precisione
Lo sputtering a fascio ionico offre un controllo preciso su vari parametri.
Questi includono la velocità di sputtering del target, l'angolo di incidenza, l'energia degli ioni, la densità di corrente degli ioni e il flusso di ioni.
