Conoscenza Qual è la storia del magnetron sputtering?
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Squadra tecnologica · Kintek Solution

Aggiornato 1 settimana fa

Qual è la storia del magnetron sputtering?

La storia del magnetron sputtering affonda le sue radici nella metà del XIX secolo, con le prime osservazioni dei fenomeni di sputtering. Tuttavia, è stato solo a metà del XX secolo che lo sputtering è diventato commercialmente rilevante, in particolare con lo sviluppo dello sputtering a diodi negli anni '40. Il vero progresso della tecnologia di sputtering è arrivato con l'introduzione dello sputtering a magnetron negli anni '70. Il vero progresso nella tecnologia dello sputtering è avvenuto con l'introduzione del magnetron sputtering negli anni '70, che ha migliorato significativamente l'efficienza e l'applicabilità del processo.

Primi sviluppi (1850-1940):

Lo sputtering è stato osservato per la prima volta negli anni '50 del XIX secolo, quando è stato utilizzato per la deposizione di metalli refrattari che non potevano essere depositati mediante evaporazione termica. Il processo prevedeva l'utilizzo di una scarica elettrica per depositare film metallici su un catodo freddo. Questa prima forma di sputtering era limitata e non ampiamente adottata a causa della sua bassa efficienza e dei costi elevati.Rilevanza commerciale e sputtering a diodi (anni '40-'60):

Gli anni '40 videro l'introduzione dello sputtering a diodi, che iniziò a trovare applicazioni commerciali come processo di rivestimento. Nonostante la sua adozione iniziale, lo sputtering a diodi si scontrava ancora con le difficoltà dovute ai bassi tassi di deposizione e ai costi elevati, limitandone l'uso diffuso.

Introduzione del Magnetron Sputtering (anni '70):

La vera svolta nella tecnologia dello sputtering si ebbe a metà degli anni '70 con lo sviluppo del magnetron sputtering. Questa tecnica prevedeva l'uso di un campo magnetico chiuso sulla superficie del bersaglio, che migliorava l'efficienza della generazione del plasma aumentando la probabilità di collisioni tra elettroni e atomi di argon in prossimità della superficie del bersaglio. Questa innovazione ha aumentato significativamente i tassi di deposizione e ridotto i costi, rendendo lo sputtering magnetronico un metodo preferito per varie applicazioni in settori quali la microelettronica e il vetro architettonico.

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