Il rivestimento elettronico, noto anche come rivestimento del fascio di elettroni, è un processo utilizzato nella microscopia elettronica per applicare un sottile strato di materiale conduttore su un campione. Questo rivestimento è necessario per evitare che il campione si carichi quando viene esposto a un fascio di elettroni ad alta energia.
Nella microscopia elettronica, i materiali non conduttivi tendono ad accumulare cariche elettriche quando vengono esposti a un fascio di elettroni. Questi effetti di carica possono portare ad aberrazioni dell'immagine e alla degradazione termo-radiativa, con conseguente rimozione del materiale dal campione. Per ovviare a questi problemi, si applica un rivestimento conduttivo alla superficie del campione.
Esistono due metodi comunemente utilizzati per il rivestimento elettronico: Il rivestimento a fascio elettronico e il rivestimento sputter.
Il rivestimento a fascio elettronico prevede la focalizzazione degli elettroni sul materiale bersaglio, che viene riscaldato ed evaporato. Questo processo rimuove le particelle cariche dal fascio di elettroni, ottenendo un fascio a bassa carica che colpisce il campione. Riducendo il calore e l'impatto delle particelle cariche sul campione, il rivestimento E-Beam aiuta a minimizzare gli effetti di carica.
Il rivestimento sputter, invece, utilizza un processo chiamato sputtering al plasma. In condizioni di scarica a bagliore, si verifica un bombardamento di ioni sul catodo, con conseguente erosione del materiale catodico. Gli atomi sputati si depositano quindi sulla superficie del campione e della camera di lavoro, formando un rivestimento del materiale originale del catodo. Il rivestimento sputter fornisce un film sottile elettricamente conduttivo sul campione, che inibisce la carica, riduce il danno termico e migliora l'emissione di elettroni secondari.
La scelta del materiale di rivestimento dipende dall'applicazione specifica. Sebbene i rivestimenti metallici, come la lega oro/palladio, siano comunemente utilizzati per la loro conduttività e per il miglioramento del rapporto segnale/rumore, potrebbero non essere adatti alla spettroscopia a raggi X. Nella spettroscopia a raggi X, si preferisce un rivestimento in carbonio per la sua minima interferenza con l'imaging e le sue forti proprietà elettriche.
I rivestimenti in carbonio presentano numerosi vantaggi nella microscopia elettronica. Sono amorfi e molto efficaci nel prevenire i meccanismi di carica che causano il deterioramento della superficie del materiale. I rivestimenti di carbonio facilitano anche l'imaging efficiente di materiale biologico. Sono particolarmente utili per preparare campioni non conduttivi per la spettroscopia a raggi X a dispersione di energia (EDS).
Oltre alla microscopia elettronica, la tecnologia di rivestimento a fascio di elettroni è utilizzata anche in altre applicazioni, come la conversione di rivestimenti liquidi in pellicole solide e polimerizzate. I rivestimenti EB offrono un'eccellente adesione, elevata brillantezza, resistenza ai graffi e all'abrasione e sono rispettosi dell'ambiente. Trovano impiego in diversi mercati e applicazioni, tra cui flexo/anilox, rotocalco, ink-train e roller coat.
In generale, il rivestimento elettronico è un processo cruciale nella microscopia elettronica per ridurre al minimo gli effetti di carica e migliorare la qualità di imaging dei campioni non conduttivi. Comporta l'applicazione di un sottile strato conduttivo utilizzando tecniche come il rivestimento E-Beam o lo sputter coating, con la scelta del materiale di rivestimento che dipende dai requisiti specifici dell'applicazione.
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