Articoli
Tecnologia a film sottile regolata con precisione: Deposizione chimica da vapore (CVD) nelle celle solari al calcogenuro
8 mesi faEsplora il ruolo della CVD nel migliorare le prestazioni e la scalabilità delle celle solari a base di calcogenuri, con particolare attenzione ai suoi vantaggi e alle sue applicazioni.
Ulteriori informazioni
Linee guida per la preparazione dei campioni per diversi strumenti analitici
8 mesi faIstruzioni dettagliate per la preparazione dei campioni per NMR, MS, Cromatografia, IR, UV, ICP, Termogravimetria, XRD, TEM, SEM e altri strumenti.
Ulteriori informazioni
Spettrometro a fluorescenza a raggi X: Metodo di compressione della polvere per la preparazione del campione
8 mesi faQuesto articolo tratta il metodo di compressione delle polveri nell'analisi spettrale XRF, concentrandosi sulle tecniche di preparazione del campione e sulle attrezzature.
Ulteriori informazioni
Preparazione dei campioni XRD: Una guida completa
9 mesi faFasi e requisiti dettagliati per la preparazione dei campioni per gli esperimenti di diffrazione di raggi X.
Ulteriori informazioni
Preparazione e manipolazione del campione in spettroscopia infrarossa
9 mesi faGuida dettagliata alla preparazione e alla manipolazione di campioni solidi, liquidi e gassosi per la spettroscopia infrarossa.
Ulteriori informazioni
Preparazione del campione in microscopia elettronica a trasmissione: Dalle basi alle abilità pratiche
9 mesi faGuida dettagliata sulla preparazione dei campioni TEM, che comprende le tecniche di pulizia, smerigliatura, lucidatura, fissazione e copertura.
Ulteriori informazioni
Sei tecniche di preparazione del campione per la spettroscopia infrarossa
9 mesi faUna panoramica dei vari metodi di preparazione dei campioni per l'analisi spettrale all'infrarosso.
Ulteriori informazioni
Spettroscopia infrarossa in situ: Principi, requisiti del campione e metodi di preparazione
9 mesi faUna panoramica dei principi, dei requisiti dei campioni e dei metodi di preparazione per la spettroscopia infrarossa in situ.
Ulteriori informazioni
Preparazione e meccanismo di crescita dei film sottili di diamante mediante deposizione chimica da vapore
9 mesi faQuesto articolo esplora i metodi di preparazione e i meccanismi di crescita dei film sottili di diamante mediante deposizione chimica da vapore (CVD), evidenziando le sfide e le potenziali applicazioni.
Ulteriori informazioni
Applicazioni avanzate dei diamanti coltivati nei semiconduttori e nella produzione di alta gamma
9 mesi faDiscute l'uso dei diamanti coltivati nei semiconduttori, nella dissipazione del calore e nella produzione avanzata.
Ulteriori informazioni
Prospettive di mercato e applicazioni dei diamanti CVD
9 mesi faEsplora le proprietà uniche dei diamanti CVD, i loro metodi di preparazione e le diverse applicazioni in vari campi.
Ulteriori informazioni
Applicazioni del diamante monocristallino MPCVD nei settori dei semiconduttori e dei display ottici
9 mesi faQuesto articolo illustra le applicazioni del diamante monocristallino MPCVD nei settori dei semiconduttori e dei display ottici, evidenziando le sue proprietà superiori e il suo potenziale impatto su vari settori industriali.
Ulteriori informazioni
Progressi nella deposizione di vapore chimico al plasma a microonde per la preparazione di diamanti monocristallini di grandi dimensioni
9 mesi faQuesto articolo illustra i progressi e le sfide nella preparazione di diamanti monocristallini di grandi dimensioni utilizzando tecniche di deposizione di vapore chimico al plasma a microonde (MPCVD).
Ulteriori informazioni
Applicazione del rivestimento sottovuoto su vetro architettonico
9 mesi faUno sguardo approfondito ai metodi e ai vantaggi del rivestimento sottovuoto del vetro architettonico, con particolare attenzione all'efficienza energetica, all'estetica e alla durata.
Ulteriori informazioni
Fattori che influenzano l'adesione dei film sputati da magnetron
9 mesi faUn'analisi approfondita dei fattori chiave che influenzano l'adesione dei film preparati con la tecnologia magnetron sputtering.
Ulteriori informazioni
Rivestimento simile al diamante (DLC) e sue applicazioni
9 mesi faEsplora le proprietà e le diverse applicazioni dei rivestimenti in carbonio simile al diamante (DLC).
Ulteriori informazioni
Comprendere e prevenire l'avvelenamento del target di sputtering con magnetrone
9 mesi faDiscute il fenomeno dell'avvelenamento del bersaglio nello sputtering magnetronico, le cause, gli effetti e le misure preventive.
Ulteriori informazioni
Impatto di diverse alimentazioni sulla morfologia del film sputterato
9 mesi faQuesto articolo analizza il modo in cui le diverse alimentazioni influiscono sulla morfologia degli strati di film sputtered, concentrandosi sulle alimentazioni in corrente continua, PDC e RF.
Ulteriori informazioni
Analisi della grave ablazione nella regione centrale di bersagli ceramici nella tecnica di sputtering a magnetronite
9 mesi faQuesto articolo illustra le cause e le soluzioni per una grave ablazione nella regione centrale dei target ceramici durante lo sputtering magnetronico.
Ulteriori informazioni
Misurazione della forza di distacco degli strati di film sputtered
9 mesi faUna guida approfondita sulla definizione, i metodi di misurazione, i fattori di influenza e le apparecchiature utilizzate per valutare la resistenza alla pelatura degli strati di film sputtered.
Ulteriori informazioni
Controllo della tolleranza di spessore del film nel rivestimento per sputtering magnetronico
9 mesi faDiscute i metodi per garantire la tolleranza dello spessore del film nel rivestimento per sputtering magnetronico per ottenere prestazioni ottimali del materiale.
Ulteriori informazioni
Rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni: Vantaggi, svantaggi e applicazioni
9 mesi faUno sguardo approfondito ai pro e ai contro del rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni e alle sue varie applicazioni nelle industrie.
Ulteriori informazioni
Sfide e soluzioni per la deposizione di film di TiN con l'alimentazione in corrente alternata
9 mesi faDiscute le difficoltà di crescita del film di TiN in corrente alternata e propone soluzioni come lo sputtering in corrente continua e la corrente continua pulsata.
Ulteriori informazioni
Panoramica completa dei processi di rivestimento PVD
9 mesi faUno sguardo approfondito ai principi, ai tipi, alle applicazioni dei gas e agli usi pratici dei processi di rivestimento PVD.
Ulteriori informazioni
Progettazione di sistemi a film sottile: Principi, considerazioni e applicazioni pratiche
9 mesi faUn'esplorazione approfondita dei principi di progettazione dei sistemi a film sottile, delle considerazioni tecnologiche e delle applicazioni pratiche in vari campi.
Ulteriori informazioni
Problemi di sputtering con magnetron: Perché si verifica un bagliore ma non viene depositato alcun film
9 mesi faAnalisi dei fattori che causano l'assenza di deposizione del film nonostante il bagliore nello sputtering magnetronico.
Ulteriori informazioni
Fattori che influenzano l'uniformità del magnetron sputtering
9 mesi faDiscute i fattori chiave che influenzano l'uniformità della deposizione di film sottili nello sputtering magnetronico, compresi i parametri delle apparecchiature, la potenza di sputtering, la pressione del gas, la configurazione del campo magnetico, le proprietà del substrato e altro ancora.
Ulteriori informazioni
Selezione dei materiali di rivestimento sottovuoto: Fattori e considerazioni chiave
9 mesi faLinee guida per la scelta dei giusti materiali di rivestimento sotto vuoto in base all'applicazione, alle proprietà del materiale, ai metodi di deposizione, all'economicità, alla compatibilità con il substrato e alla sicurezza.
Ulteriori informazioni
Sfide nell'ottenimento della scarica a bagliore con bersagli di renio nello sputtering magnetronico
9 mesi faEsplora le ragioni per cui i target di renio faticano a brillare durante lo sputtering magnetronico e offre suggerimenti per l'ottimizzazione.
Ulteriori informazioni
Parametri che influenzano l'effetto di sputtering nel processo di sputtering a magnetronite
9 mesi faI parametri chiave che influenzano l'effetto dello sputtering nel magnetron sputtering, tra cui la pressione dell'aria, la potenza, la distanza del target, il tipo di substrato e altro ancora.
Ulteriori informazioni