Articoli
Progressi nella deposizione di vapore chimico al plasma a microonde per la preparazione di diamanti monocristallini di grandi dimensioni
6 mesi faQuesto articolo illustra i progressi e le sfide nella preparazione di diamanti monocristallini di grandi dimensioni utilizzando tecniche di deposizione di vapore chimico al plasma a microonde (MPCVD).
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Applicazione del rivestimento sottovuoto su vetro architettonico
6 mesi faUno sguardo approfondito ai metodi e ai vantaggi del rivestimento sottovuoto del vetro architettonico, con particolare attenzione all'efficienza energetica, all'estetica e alla durata.
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Fattori che influenzano l'adesione dei film sputati da magnetron
6 mesi faUn'analisi approfondita dei fattori chiave che influenzano l'adesione dei film preparati con la tecnologia magnetron sputtering.
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Rivestimento simile al diamante (DLC) e sue applicazioni
6 mesi faEsplora le proprietà e le diverse applicazioni dei rivestimenti in carbonio simile al diamante (DLC).
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Comprendere e prevenire l'avvelenamento del target di sputtering con magnetrone
6 mesi faDiscute il fenomeno dell'avvelenamento del bersaglio nello sputtering magnetronico, le cause, gli effetti e le misure preventive.
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Impatto di diverse alimentazioni sulla morfologia del film sputterato
6 mesi faQuesto articolo analizza il modo in cui le diverse alimentazioni influiscono sulla morfologia degli strati di film sputtered, concentrandosi sulle alimentazioni in corrente continua, PDC e RF.
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Analisi della grave ablazione nella regione centrale di bersagli ceramici nella tecnica di sputtering a magnetronite
6 mesi faQuesto articolo illustra le cause e le soluzioni per una grave ablazione nella regione centrale dei target ceramici durante lo sputtering magnetronico.
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Misurazione della forza di distacco degli strati di film sputtered
6 mesi faUna guida approfondita sulla definizione, i metodi di misurazione, i fattori di influenza e le apparecchiature utilizzate per valutare la resistenza alla pelatura degli strati di film sputtered.
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Controllo della tolleranza di spessore del film nel rivestimento per sputtering magnetronico
6 mesi faDiscute i metodi per garantire la tolleranza dello spessore del film nel rivestimento per sputtering magnetronico per ottenere prestazioni ottimali del materiale.
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Rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni: Vantaggi, svantaggi e applicazioni
6 mesi faUno sguardo approfondito ai pro e ai contro del rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni e alle sue varie applicazioni nelle industrie.
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Sfide e soluzioni per la deposizione di film di TiN con l'alimentazione in corrente alternata
6 mesi faDiscute le difficoltà di crescita del film di TiN in corrente alternata e propone soluzioni come lo sputtering in corrente continua e la corrente continua pulsata.
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Panoramica completa dei processi di rivestimento PVD
6 mesi faUno sguardo approfondito ai principi, ai tipi, alle applicazioni dei gas e agli usi pratici dei processi di rivestimento PVD.
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Progettazione di sistemi a film sottile: Principi, considerazioni e applicazioni pratiche
6 mesi faUn'esplorazione approfondita dei principi di progettazione dei sistemi a film sottile, delle considerazioni tecnologiche e delle applicazioni pratiche in vari campi.
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Problemi di sputtering con magnetron: Perché si verifica un bagliore ma non viene depositato alcun film
6 mesi faAnalisi dei fattori che causano l'assenza di deposizione del film nonostante il bagliore nello sputtering magnetronico.
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Fattori che influenzano l'uniformità del magnetron sputtering
6 mesi faDiscute i fattori chiave che influenzano l'uniformità della deposizione di film sottili nello sputtering magnetronico, compresi i parametri delle apparecchiature, la potenza di sputtering, la pressione del gas, la configurazione del campo magnetico, le proprietà del substrato e altro ancora.
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Selezione dei materiali di rivestimento sottovuoto: Fattori e considerazioni chiave
6 mesi faLinee guida per la scelta dei giusti materiali di rivestimento sotto vuoto in base all'applicazione, alle proprietà del materiale, ai metodi di deposizione, all'economicità, alla compatibilità con il substrato e alla sicurezza.
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Sfide nell'ottenimento della scarica a bagliore con bersagli di renio nello sputtering magnetronico
6 mesi faEsplora le ragioni per cui i target di renio faticano a brillare durante lo sputtering magnetronico e offre suggerimenti per l'ottimizzazione.
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Parametri che influenzano l'effetto di sputtering nel processo di sputtering a magnetronite
6 mesi faI parametri chiave che influenzano l'effetto dello sputtering nel magnetron sputtering, tra cui la pressione dell'aria, la potenza, la distanza del target, il tipo di substrato e altro ancora.
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Controllo del colore e applicazioni dei film di ossido di silicio evaporato
6 mesi faEsplorazione della variazione di colore, dei metodi di controllo e delle applicazioni pratiche dei film sottili di ossido di silicio.
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Precauzioni per la preparazione di strati di film di zirconato di piombo (PZT) mediante sputtering con magnetronio
6 mesi faLinee guida e precauzioni per la preparazione di strati di film PZT mediante sputtering magnetronico.
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Considerazioni per il rivestimento evaporativo su substrati flessibili
6 mesi faFattori chiave per il successo del rivestimento evaporativo su materiali flessibili, garantendo qualità e prestazioni.
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Tipi di alimentatori di bias nello sputtering di magnetron e loro scopi
6 mesi faPanoramica dei tipi di alimentazione di polarizzazione nello sputtering magnetronico e del loro ruolo nel migliorare l'adesione e la densità del film.
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Comprendere le differenze e gli usi dello sputtering DC, MF e RF nella preparazione di film sottili
6 mesi faQuesto articolo spiega le distinzioni e le applicazioni delle tecniche di sputtering DC, MF e RF nella preparazione di film sottili.
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Scintillamento del materiale target durante il rivestimento con sputtering di magnetron: Cause e soluzioni
6 mesi faSpiega perché il materiale di destinazione fa scintille durante lo sputtering magnetronico e offre soluzioni per prevenirle.
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Conoscere la tecnologia di deposizione sputtering
6 mesi faUno sguardo approfondito alla tecnologia di deposizione sputtering, ai suoi meccanismi, ai tipi e alle applicazioni.
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Tecnologia di deposizione da vapore chimico (CVD) a film sottile
6 mesi faPanoramica della tecnologia CVD, dei suoi principi, tipi, applicazioni, caratteristiche del processo e vantaggi.
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Processi di deposizione di film sottili nella produzione di semiconduttori
6 mesi faUna panoramica delle tecniche di deposizione di film sottili, con particolare attenzione ai processi di deposizione chimica da vapore (CVD) e di deposizione fisica da vapore (PVD) nella produzione di semiconduttori.
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Panoramica completa delle tecnologie di deposizione da vapore chimico (CVD)
6 mesi faQuesto articolo illustra le varie tecnologie CVD utilizzate nelle industrie dei semiconduttori e della deposizione di film sottili.
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Il diamante coltivato MPCVD rivoluziona il settore
6 mesi faEsplora l'impatto dei diamanti coltivati MPCVD su vari settori industriali e le strategie per la riduzione dei costi e il miglioramento dell'efficienza.
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Scelta di un dispositivo MPCVD ad alte prestazioni
6 mesi faConsiderazioni chiave per la selezione di un dispositivo MPCVD per la crescita del diamante.
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