L'apparecchiatura MOCVD è uno strumento specializzato utilizzato per la deposizione di materiali sottili a cristallo singolo.
È utilizzato principalmente nella produzione di semiconduttori composti.
Il processo funziona attraverso l'epitassia in fase di vapore, utilizzando composti metallo-organici e idruri come materiali di partenza.
Che cos'è l'apparecchiatura MOCVD? 4 punti chiave da comprendere
1. Materiali di partenza e processo
La MOCVD utilizza composti organici di elementi del gruppo III e II.
Utilizza anche idruri di elementi del gruppo V e VI.
Questi materiali vengono introdotti nella camera di reazione dove subiscono una decomposizione termica.
La decomposizione porta alla deposizione di vari semiconduttori composti Ⅲ-V e Ⅱ-VI e delle loro soluzioni solide multistrato come sottili materiali a cristallo singolo sul substrato.
2. Metodologia e funzionalità
Il processo MOCVD prevede l'uso di composti metallo-organici come precursori.
Questi precursori vengono introdotti nella camera di reazione.
Vengono decomposti termicamente o attivati con altri mezzi, come il plasma o la luce.
Il centro metallico reagisce con altre molecole precursori o con il substrato per formare il materiale desiderato.
I ligandi organici vengono rilasciati come sottoprodotti.
Questo metodo consente un controllo preciso della composizione e dei livelli di drogaggio dei film depositati.
È particolarmente utile per le applicazioni che richiedono alta precisione e qualità.
3. Applicazione e controllo
La MOCVD è ampiamente utilizzata nella produzione di dispositivi come i LED ad alta luminosità (HBLED) e altri dispositivi a semiconduttore composto.
Il processo è controllato da strumenti avanzati che monitorano e regolano parametri come la temperatura del wafer carrier/slot, lo spessore del film, lo stress del film/curvatura del wafer e le misure della superficie.
Questo feedback in tempo reale garantisce un'elevata produttività e riproducibilità, fondamentali per le applicazioni industriali.
4. Caratteristiche tecniche
A differenza di altre tecniche CVD, MOCVD introduce i reagenti attraverso un gorgogliatore.
Il gorgogliatore fa passare il gas di trasporto attraverso un liquido metallorganico riscaldato.
Questo metodo garantisce che la concentrazione della fonte di MO sia controllata e riproducibile.
Questo metodo migliora l'efficienza e l'affidabilità del processo di deposizione.
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