Il plasma a microonde offre numerosi vantaggi, soprattutto in processi come la deposizione chimica da vapore al plasma a microonde (MPCVD) e le tecniche di sputtering.
7 vantaggi del plasma a microonde
1. Efficienza energetica e funzionamento senza elettrodi
Il plasma a microonde è un processo senza elettrodi.
Ciò significa che non ha bisogno di elettrodi per generare il plasma.
Ciò elimina la formazione di una guaina di plasma attorno agli elettrodi, che può consumare energia nella CVD assistita da plasma a corrente diretta.
Questa natura electrode-less rende il processo più efficiente dal punto di vista energetico e riduce la complessità della configurazione.
2. Stabilità e riproducibilità
Il plasma non isotermico generato dalle microonde è altamente stabile e riproducibile.
Questa stabilità consente processi di deposizione continua che possono durare molte ore o addirittura giorni senza interruzioni.
Ciò è fondamentale per le applicazioni che richiedono produzioni su larga scala o di lunga durata.
3. Scalabilità e modularità
La disponibilità di alimentatori e applicatori a microonde da 1-2 KW facilita l'uso di unità modulari.
Il tasso di crescita dell'MPCVD è proporzionale alla potenza delle microonde.
Ciò significa che aumentando la potenza si può scalare il processo.
Questa scalabilità è vantaggiosa per espandere la produzione a substrati più grandi o a volumi più elevati.
4. Densità e controllo del plasma migliorati
L'uso del potenziamento del magnetron nei sistemi al plasma a microonde crea una scarica a tensione più bassa e corrente più elevata rispetto ai metodi di sputtering standard.Ciò si traduce in una maggiore densità di specie ionizzate, che porta a uno sputtering più rapido del materiale target.I moderni alimentatori utilizzati in questi sistemi offrono un elevato grado di stabilità e controllo. Ciò rende i processi di plasma e rivestimento facili da regolare e scalabili fino a dimensioni molto grandi.
