Lo sputtering a fascio ionico (IBS) è una tecnica di deposizione di film sottili ad alta precisione che trova applicazione in diversi campi, tra cui l'ottica di precisione, la produzione di semiconduttori e la creazione di film di nitruro. Il processo prevede la focalizzazione di un fascio di ioni su un materiale target, che viene poi spruzzato su un substrato, ottenendo film densi e di alta qualità.
Ottica di precisione:
Lo sputtering a fascio ionico è fondamentale nella produzione di ottiche di precisione. Consente la deposizione di film sottili con uniformità e densità eccezionali, essenziali per applicazioni come lenti e rivestimenti di barre laser. Il controllo preciso offerto dall'IBS consente ai produttori di ottenere una precisione su scala atomica nella rimozione e nella deposizione degli strati superficiali, migliorando le proprietà ottiche dei componenti.Produzione di semiconduttori:
Nell'industria dei semiconduttori, l'IBS svolge un ruolo fondamentale nella deposizione di film critici per le prestazioni dei dispositivi. La tecnica viene utilizzata per depositare film con stechiometria controllata, che possono migliorare le proprietà elettriche e meccaniche dei materiali semiconduttori. Ad esempio, l'uso di ioni O2+ e Ar+ durante la deposizione può modificare le proprietà del film, come la densità e la struttura cristallina, migliorando la funzionalità complessiva del dispositivo.
Pellicole di nitruro:
L'IBS viene impiegata anche per la creazione di pellicole di nitruro, essenziali in varie applicazioni industriali per la loro durezza e resistenza all'usura. Il processo consente di controllare con precisione le proprietà dei film, come lo spessore e la composizione, che sono fondamentali per ottenere le caratteristiche prestazionali desiderate in applicazioni che vanno dai rivestimenti resistenti all'usura ai dispositivi elettronici.Altre applicazioni:
Oltre a queste, l'IBS è utilizzata nella microscopia elettronica di campo, nella diffrazione elettronica a bassa energia e nell'analisi Auger, dove la creazione di una superficie pulita e ben definita è fondamentale. La capacità della tecnica di depositare film ad alta energia cinetica aumenta anche la forza di adesione dei rivestimenti, rendendola ideale per le applicazioni che richiedono una forte adesione e durata.
