Forno CVD e PECVD
Sistema di apparecchiature per deposizione chimica da vapore CVD Forno a tubo PECVD con gassificatore a liquido Macchina PECVD
Numero articolo : KT-PE12
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Temperatura massima
- 1200 ℃
- Temperatura di lavoro costante
- 1100 ℃
- Diametro del tubo del forno
- 60 mm
- Lunghezza della zona di riscaldamento
- 1x450 mm
- Velocità di riscaldamento
- 0-20 ℃/min
- Distanza di scorrimento
- 600mm
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Introduzione
La macchina PECVD con gassificatore a liquido e forno a tubo scorrevole PECVD è un sistema versatile e ad alte prestazioni progettato per un'ampia gamma di applicazioni di deposizione di film sottili. È dotato di una sorgente al plasma RF da 500 W, un forno estraibile, un controllo preciso del flusso di gas e una stazione per vuoto. Il sistema offre vantaggi quali l'abbinamento automatico del plasma, il riscaldamento e il raffreddamento ad alta velocità, il controllo della temperatura programmabile e un'interfaccia user-friendly. È ampiamente utilizzato in ambienti di ricerca e produzione per la deposizione di film sottili in vari settori, tra cui elettronica, semiconduttori e ottica.
Applicazioni
La macchina PECVD con gassificatore a liquido e forno a tubo scorrevole PECVD trova applicazione in:
- Deposizione chimica da vapore (CVD)
- Deposizione chimica da vapore potenziata da plasma (PECVD)
- Deposizione di film sottili
- Fabbricazione di celle solari
- Processamento di semiconduttori
- Nanotecnologia
- Scienza dei materiali
- Ricerca e sviluppo
Disponibili diversi sistemi CVD con temperature e configurazioni diverse
Principio
La macchina PECVD con gassificatore a liquido e forno a tubo scorrevole PECVD utilizza plasma a bassa temperatura per generare una scarica luminosa nel catodo della camera di processo (vassoio del campione). La scarica luminosa (o un'altra fonte di calore) aumenta la temperatura del campione a un livello predeterminato. Quindi, vengono introdotti quantitativi controllati di gas di processo, che subiscono reazioni chimiche e al plasma per formare un film solido sulla superficie del campione.
Caratteristiche
La macchina PECVD con gassificatore a liquido e forno a tubo scorrevole PECVD offre numerosi vantaggi agli utenti:
- Generazione di potenza migliorata per wafer di celle solari: l'innovativa struttura a barca in grafite migliora significativamente la potenza di uscita delle celle solari.
- Eliminazione della differenza di colore nelle celle PECVD tubolari: questa apparecchiatura affronta efficacemente il problema della variazione di colore nelle celle PECVD tubolari.
- Ampio intervallo di potenza di uscita (5-500 W): la sorgente di abbinamento automatico del plasma RF fornisce una gamma versatile di potenza di uscita, garantendo prestazioni ottimali per varie applicazioni.
- Riscaldamento e raffreddamento ad alta velocità: il sistema di scorrimento della camera del forno consente un rapido riscaldamento e raffreddamento, riducendo i tempi di elaborazione. La circolazione forzata ausiliaria dell'aria accelera ulteriormente la velocità di raffreddamento.
- Movimento di scorrimento automatizzato: la funzione di movimento di scorrimento opzionale consente il funzionamento automatico, migliorando l'efficienza e riducendo l'intervento manuale.
- Controllo preciso della temperatura: il controllo della temperatura programmabile PID garantisce una regolazione accurata della temperatura, supportando il controllo remoto e centralizzato per una maggiore comodità.
- Controllo del flussometro di massa MFC ad alta precisione: il flussometro di massa MFC controlla con precisione i gas sorgente, garantendo un'alimentazione di gas stabile e costante.
- Stazione per vuoto versatile: la flangia per vuoto in acciaio inossidabile con più porte di adattamento ospita varie configurazioni di stazioni per pompe per vuoto, garantendo un alto grado di vuoto.
- Interfaccia user-friendly: il controller con touchscreen TFT da 7 pollici CTF Pro semplifica l'impostazione dei programmi e consente una facile analisi dei dati storici.
Vantaggi
- Sorgente di abbinamento automatico del plasma RF, ampio intervallo di potenza di uscita da 5 a 500 W con uscita stabile
- Sistema di scorrimento della camera del forno per riscaldamento ad alta velocità e raffreddamento di breve durata, sono disponibili raffreddamento rapido ausiliario e movimento di scorrimento automatico
- Controllo della temperatura programmabile PID, eccellente precisione di controllo e supporto per il controllo remoto e centralizzato
- Controllo del flussometro di massa MFC ad alta precisione, pre-miscelazione dei gas sorgente e velocità di alimentazione del gas stabile
- Flangia per vuoto in acciaio inossidabile con varie porte di adattamento per soddisfare diverse configurazioni di stazioni per pompe per vuoto, buona tenuta e alto grado di vuoto
- CTF Pro utilizza un controller con touchscreen TFT da 7 pollici, impostazione del programma più user-friendly e analisi dei dati storici
Vantaggio di sicurezza
- Il forno a tubo Kindle Tech dispone di protezione da sovracorrente e funzione di allarme di sovratemperatura, il forno spegnerà automaticamente l'alimentazione
- Il forno integra la funzione di rilevamento della termocoppia, il forno smetterà di riscaldarsi e l'allarme si attiverà una volta rilevato un guasto o un malfunzionamento
- PE Pro supporta la funzione di riavvio in caso di interruzione di corrente, il forno riprenderà il programma di riscaldamento del forno quando l'alimentazione viene ripristinata dopo un guasto
Specifiche tecniche
| Modello forno | KT-PE12-60 |
| Temperatura max. | 1200℃ |
| Temperatura di lavoro costante | 1100℃ |
| Materiale del tubo del forno | Quarzo ad alta purezza |
| Diametro del tubo del forno | 60 mm |
| Lunghezza zona di riscaldamento | 1x450 mm |
| Materiale della camera | Fibra di allumina giapponese |
| Elemento riscaldante | Bobina di filo Cr2Al2Mo2 |
| Velocità di riscaldamento | 0-20℃/min |
| Termocoppia | Integrata tipo K |
| Controller di temperatura | Controller digitale PID/Controller touchscreen PID |
| Precisione del controllo della temperatura | ±1℃ |
| Distanza di scorrimento | 600 mm |
| Unità al plasma RF | |
| Potenza di uscita | Da 5 a 500 W regolabile con stabilità ± 1% |
| Frequenza RF | 13,56 MHz ± 0,005% di stabilità |
| Potenza riflessa | Max. 350 W |
| Abbinamento | Automatico |
| Rumore | <50 dB |
| Raffreddamento | Raffreddamento ad aria. |
| Unità di controllo preciso del gas | |
| Flussometro | Flussometro di massa MFC |
| Canali gas | 4 canali |
| Portata | MFC1: 0-5 SCCM O2 MFC2: 0-20 SCCM CH4 MFC3: 0-100 SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| Linearità | ±0,5% F.S. |
| Ripetibilità | ±0,2% F.S. |
| Tubazioni e valvole | Acciaio inossidabile |
| Pressione massima di esercizio | 0,45 MPa |
| Controller flussometro | Controller a manopola digitale/Controller touchscreen |
| Unità vuoto standard (opzionale) | |
| Pompa per vuoto | Pompa per vuoto a palette rotanti |
| Portata della pompa | 4 L/S |
| Bocchetta di aspirazione del vuoto | KF25 |
| Manometro | Manometro Pirani/Resistenza al silicio |
| Pressione nominale di vuoto | 10 Pa |
| Unità ad alto vuoto (opzionale) | |
| Pompa per vuoto | Pompa a palette rotanti + Pompa molecolare |
| Portata della pompa | 4 L/S + 110 L/S |
| Bocchetta di aspirazione del vuoto | KF25 |
| Manometro | Manometro composto |
| Pressione nominale di vuoto | 6x10-4 Pa |
| Le specifiche e le configurazioni sopra riportate possono essere personalizzate | |
Pacchetto standard
| N. | Descrizione | Quantità |
| 1 | Forno | 1 |
| 2 | Tubo di quarzo | 1 |
| 3 | Flangia per vuoto | 2 |
| 4 | Blocco termico del tubo | 2 |
| 5 | Gancio per blocco termico del tubo | 1 |
| 6 | Guanto resistente al calore | 1 |
| 7 | Sorgente al plasma RF | 1 |
| 8 | Controllo preciso del gas | 1 |
| 9 | Unità vuoto | 1 |
| 10 | Manuale di istruzioni | 1 |
Configurazione opzionale
- Rilevamento e monitoraggio dei gas nel tubo, come H2, O2 e così via
- Monitoraggio e registrazione indipendenti della temperatura del forno
- Porta di comunicazione RS 485 per controllo remoto PC ed esportazione dati
- Controllo della portata dei gas di inserzione, come flussometro di massa e flussometro a galleggiante
- Controller di temperatura touchscreen con funzioni versatili e user-friendly
- Configurazioni di stazioni per pompe ad alto vuoto, come pompa per vuoto a palette, pompa molecolare, pompa a diffusione
Avvertenze
La sicurezza dell'operatore è la questione più importante! Si prega di utilizzare l'apparecchiatura con cautele. Lavorare con gas infiammabili, esplosivi o tossici è molto complicato pericoloso, gli operatori devono prendere tutte le precauzioni necessarie prima di avviare il attrezzatura. Lavorare con pressione positiva all'interno dei reattori o delle camere lo è pericoloso, l'operatore deve rispettare rigorosamente le procedure di sicurezza. Extra è necessario prestare attenzione anche quando si opera con materiali reattivi all'aria, soprattutto sotto vuoto. Una perdita può far entrare aria nell'apparecchio e causare a si verifichi una reazione violenta.
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FAQ
Che Cos'è Il Metodo PECVD?
Che Cos'è L'Mpcvd?
A Cosa Serve La PECVD?
Che Cos'è La Macchina Mpcvd?
Quali Sono I Vantaggi Della PECVD?
Quali Sono I Vantaggi Dell'Mpcvd?
Qual è La Differenza Tra ALD E PECVD?
I Diamanti CVD Sono Veri O Falsi?
Qual è La Differenza Tra PECVD E Sputtering?
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