Il gas utilizzato nel processo di sputtering è tipicamente un gas inerte, con l'argon come scelta più comune ed economica. A seconda dei requisiti specifici del processo di sputtering e del peso atomico del materiale di destinazione, vengono utilizzati anche altri gas inerti come kripton, xenon, neon e azoto. La scelta del gas è cruciale per un trasferimento efficiente della quantità di moto: i gas più leggeri, come il neon, sono preferiti per lo sputtering di elementi leggeri, mentre i gas più pesanti, come il kripton o lo xenon, sono utilizzati per gli elementi pesanti. Inoltre, i gas reattivi come l'ossigeno e l'azoto possono essere utilizzati insieme ai gas inerti per depositare film sottili di ossidi, nitruri e altri composti. La scelta del gas di sputtering può influenzare in modo significativo la velocità di deposizione e la qualità del film o del rivestimento sul substrato.
Scoprite la precisione e la versatilità dei gas di sputtering di KINTEK SOLUTION, progettati per migliorare l'efficienza del processo e la qualità del film. Dall'argon standard del settore alle miscele specializzate di kripton e neon, la nostra gamma di gas inerti e reattivi garantisce prestazioni di sputtering ottimali per qualsiasi materiale di destinazione. Migliorate oggi stesso le vostre capacità di sputtering con la selezione di gas di qualità superiore e l'esperienza di KINTEK SOLUTION nel settore.
