Il processo di sputtering prevede l'utilizzo di gas specifici per garantire una deposizione efficiente ed efficace dei materiali su un substrato.
5 gas chiave spiegati
1. Argon
L'argon è il gas più comune ed economico utilizzato nel processo di sputtering.
2. Kripton
Il kripton è utilizzato per lo sputtering di elementi pesanti grazie al suo peso atomico maggiore.
3. Xenon
Lo xeno, come il kripton, è scelto per la sua capacità di spruzzare efficacemente i materiali pesanti.
4. Neon
Il neon è preferito per lo sputtering di elementi leggeri grazie al suo peso atomico più leggero.
5. Gas reattivi (ossigeno e azoto)
I gas reattivi come l'ossigeno e l'azoto sono utilizzati in combinazione con i gas inerti per depositare film sottili di ossidi, nitruri e altri composti.
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