Lo sputtering a fascio ionico è un metodo utilizzato per creare film sottili. Consiste nell'utilizzare uno strumento speciale chiamato sorgente ionica per sparare minuscole particelle chiamate ioni su un materiale bersaglio. Questi ioni fanno fuoriuscire pezzi del materiale bersaglio, che poi atterrano su una superficie per formare un film sottile. Il risultato di questo processo è una pellicola molto densa e di alta qualità.
Qual è il processo di sputtering a fascio ionico? (4 fasi chiave spiegate)
1. Generazione del fascio di ioni
Una sorgente ionica crea un fascio di ioni. Questi ioni sono solitamente costituiti da un gas inerte come l'argon. Hanno tutti lo stesso livello energetico e viaggiano in un percorso rettilineo e stretto.
2. Impatto degli ioni sul bersaglio
Il fascio di ioni viene indirizzato verso un materiale bersaglio, che può essere un metallo o un dielettrico. Gli ioni ad alta energia colpiscono il bersaglio e fanno cadere atomi o molecole a causa del trasferimento di energia.
3. Deposizione sul substrato
Il materiale eliminato dal bersaglio viaggia attraverso il vuoto e finisce su un substrato. Si forma così un film sottile sulla superficie del substrato.
4. Controllo e precisione
L'energia e la direzione del fascio di ioni possono essere controllate con precisione. Ciò consente di creare film molto uniformi e densi, importanti per le applicazioni di alta precisione.
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