Le tecniche di deposizione fisica da vapore (PVD) sono utilizzate per creare rivestimenti a film sottile in un ambiente sotto vuoto.
Quali sono i 5 metodi adottati nelle tecniche PVD?
1. Evaporazione ad arco catodico
L'evaporazione ad arco catodico prevede l'utilizzo di un arco elettrico ad alta potenza per far evaporare il materiale di rivestimento.
Questo processo ionizza quasi completamente il materiale.
Gli ioni metallici interagiscono con i gas reattivi nella camera a vuoto prima di colpire e aderire ai componenti sotto forma di un sottile rivestimento.
Questo metodo è particolarmente efficace per produrre rivestimenti densi e aderenti.
2. Sputtering con magnetron
Il magnetron sputtering utilizza un campo magnetico per aumentare la ionizzazione del gas nella camera a vuoto.
Il gas ionizzato bombarda quindi il materiale bersaglio, provocando l'espulsione di atomi che formano un film sottile sul substrato.
Questo metodo è versatile e può essere utilizzato con un'ampia gamma di materiali, compresi metalli, leghe e composti.
3. Evaporazione a fascio di elettroni
L'evaporazione a fascio di elettroni utilizza un fascio di elettroni per riscaldare e vaporizzare il materiale di destinazione.
Il materiale vaporizzato si condensa sul substrato formando un film sottile.
Questa tecnica è nota per la sua capacità di depositare rivestimenti di elevata purezza e viene spesso utilizzata in applicazioni che richiedono un controllo preciso dello spessore e della composizione del film.
4. Sputtering a fascio ionico
Lo sputtering a fascio ionico prevede l'utilizzo di un fascio di ioni per bombardare il materiale bersaglio.
Il bombardamento fa sì che il materiale bersaglio espella atomi che vengono poi depositati sul substrato.
Questo metodo è particolarmente utile per depositare film sottili con eccellente adesione e uniformità.
5. Ablazione laser
L'ablazione laser utilizza un laser ad alta potenza per vaporizzare il materiale bersaglio.
Le particelle vaporizzate si condensano sul substrato formando un film sottile.
Questa tecnica è spesso utilizzata per depositare materiali complessi, come ceramiche e compositi, difficili da depositare con altri metodi PVD.
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