Parti per la deposizione di film sottili
Crogiolo in rame privo di ossigeno per rivestimento a evaporazione a fascio elettronico e barchetta di evaporazione
Numero articolo : KMS06
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Material
- Rame privo di ossigeno
- Specification
- 35-50*17-25mm
Spedizione:
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Introduzione
Il crogiolo in rame privo di ossigeno per rivestimento a evaporazione a fascio elettronico è un tipo di attrezzatura di laboratorio utilizzata per la deposizione di film sottili. Utilizza un fascio elettronico per vaporizzare un materiale, che viene poi depositato su un substrato. Questo processo viene utilizzato per creare film sottili di metalli, dielettrici e altri materiali.
Il crogiolo in rame privo di ossigeno per rivestimento a evaporazione a fascio elettronico è realizzato in rame privo di ossigeno, che ha un'elevata conducibilità termica ed è resistente all'ossidazione. Ciò lo rende ideale per l'uso in applicazioni ad alta temperatura. Il crogiolo è anche raffreddato ad acqua per evitare il surriscaldamento.
Il crogiolo in rame privo di ossigeno per rivestimento a evaporazione a fascio elettronico è un'attrezzatura versatile che può essere utilizzata per una varietà di applicazioni. È comunemente utilizzato nell'industria dei semiconduttori, ma può anche essere utilizzato in altri settori, come l'industria ottica e medica.
Applicazione
Il rivestimento a evaporazione a fascio elettronico si riferisce al processo di utilizzo di fasci elettronici per evaporare materiali nel processo di deposizione di film sottili, e quindi condensarli sul substrato per formare un film sottile. Quando si utilizzano tecniche di evaporazione a fascio elettronico, utilizzare crogioli in rame privo di ossigeno per mantenere un ambiente privo di ossigeno o a basso contenuto di ossigeno per ridurre al minimo il rischio di contaminazione da ossigeno durante l'evaporazione. Ciò contribuisce a garantire che vengano depositati film di alta qualità senza reazioni chimiche o ossidazioni indesiderate. I crogioli in rame privo di ossigeno sono spesso preferiti quando si maneggiano materiali sensibili o si depositano film sottili in cui è richiesta un'elevata purezza.
- Industria dei semiconduttori: produzione di circuiti integrati, dispositivi a semiconduttore e microelettronica.
- Ottica e fotonica: rivestimenti e film ottici per lenti, specchi, filtri, guide d'onda e altri componenti ottici.
- Energia solare: l'evaporazione a fascio elettronico viene utilizzata per realizzare celle solari a film sottile come le celle solari CIGS (rame indio gallio selenide) e CdTe (cadmio tellururo).
- Tecnologia dei display: l'evaporazione a fascio elettronico viene utilizzata per produrre film sottili per vari tipi di display, tra cui LCD (Liquid Crystal Display), OLED (Organic Light Emitting Diode) e tecnologie microdisplay.
- Produzione di sensori ed elettronica: l'evaporazione a fascio elettronico viene utilizzata per produrre film sottili per sensori, elettronica e circuiti integrati.
Specifiche tecniche
| Diametro esterno e altezza | 35*17mm | 40*17mm | 45*22mm | 50*25mm |
I crogioli che mostriamo sono disponibili in diverse dimensioni e dimensioni personalizzate sono disponibili su richiesta.
Caratteristiche
Il crogiolo in rame privo di ossigeno per rivestimento a evaporazione a fascio elettronico è dotato di un focolare a quattro tasche che può contenere fino a quattro materiali sorgente, consentendo la deposizione sequenziale di quattro strati di materiale senza interrompere il vuoto. Ciò semplifica l'applicazione di diversi strati di rivestimento da diversi materiali target, adattandosi facilmente a una varietà di tecniche di mascheratura lift-off.
Il crogiolo è raffreddato ad acqua per evitare che si riscaldi tramite energia termica, e il riscaldamento diretto dei materiali sorgente elimina il rischio di danni termici al substrato. Ciò rende l'evaporazione E-Beam ideale per applicazioni in cui le alte temperature e la resistenza all'usura sono fondamentali, come nei settori aerospaziale, automobilistico e degli utensili da taglio.
L'evaporazione E-Beam viene utilizzata anche per film sottili ottici che vanno dall'ottica laser, ai pannelli solari, agli occhiali e al vetro architettonico per conferire loro le qualità conduttive, riflettenti e trasmissive desiderate.
FAQ
Che Cos'è La Deposizione Fisica Da Vapore (PVD)?
Che Cos'è Lo Sputtering Magnetronico?
Quali Sono I Metodi Utilizzati Per Depositare Film Sottili?
Perché Lo Sputtering Magnetronico?
Cosa Sono Le Apparecchiature Per La Deposizione Di Film Sottili?
Quali Sono I Vantaggi Dell'uso Delle Barche Di Evaporazione?
Quali Sono I Materiali Più Comuni Utilizzati Per I Crogioli Di Evaporazione?
Quali Sono I Materiali Utilizzati Nella Deposizione Di Film Sottili?
La deposizione di film sottili utilizza comunemente metalli, ossidi e composti come materiali, ciascuno con vantaggi e svantaggi unici. I metalli sono preferiti per la loro durata e facilità di deposizione, ma sono relativamente costosi. Gli ossidi sono molto durevoli, resistono alle alte temperature e possono essere depositati a basse temperature, ma possono essere fragili e difficili da lavorare. I composti offrono resistenza e durata, possono essere depositati a basse temperature e personalizzati per esibire proprietà specifiche.
La scelta del materiale per un rivestimento a film sottile dipende dai requisiti dell'applicazione. I metalli sono ideali per la conduzione termica ed elettrica, mentre gli ossidi sono efficaci per offrire protezione. I composti possono essere personalizzati per soddisfare esigenze specifiche. In definitiva, il materiale migliore per un particolare progetto dipenderà dalle esigenze specifiche dell'applicazione.
Che Cos'è La Tecnologia Di Deposizione A Film Sottile?
Qual è La Durata Tipica Di Una Barca Di Evaporazione?
Quali Sono I Vantaggi Dell'uso Dei Crogioli Evaporativi?
Quali Sono I Metodi Per Ottenere Una Deposizione Ottimale Di Film Sottili?
Per ottenere film sottili con proprietà desiderabili, sono essenziali target di sputtering e materiali di evaporazione di alta qualità. La qualità di questi materiali può essere influenzata da vari fattori, come la purezza, la dimensione dei grani e le condizioni della superficie.
La purezza dei target di sputtering o dei materiali di evaporazione svolge un ruolo cruciale, poiché le impurità possono causare difetti nel film sottile risultante. Anche la dimensione dei grani influisce sulla qualità del film sottile, con grani più grandi che portano a proprietà scadenti. Inoltre, le condizioni della superficie sono cruciali, poiché le superfici ruvide possono causare difetti nel film.
Per ottenere bersagli di sputtering e materiali di evaporazione della massima qualità, è fondamentale selezionare materiali che possiedano un'elevata purezza, una piccola dimensione dei grani e superfici lisce.
Usi Della Deposizione A Film Sottile
Film sottili a base di ossido di zinco
I film sottili di zinco trovano applicazione in diversi settori, come quello termico, ottico, magnetico ed elettrico, ma il loro impiego principale è nei rivestimenti e nei dispositivi a semiconduttore.
Resistenze a film sottile
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Film sottili magnetici
I film sottili magnetici sono utilizzati nell'elettronica, nella memorizzazione dei dati, nell'identificazione a radiofrequenza, nei dispositivi a microonde, nei display, nei circuiti e nell'optoelettronica come componenti chiave.
Film sottili ottici
I rivestimenti ottici e l'optoelettronica sono applicazioni standard dei film sottili ottici. L'epitassia a fascio molecolare può produrre dispositivi optoelettronici a film sottile (semiconduttori), dove i film epitassiali sono depositati un atomo alla volta sul substrato.
Film sottili polimerici
I film sottili polimerici sono utilizzati nei chip di memoria, nelle celle solari e nei dispositivi elettronici. Le tecniche di deposizione chimica (CVD) offrono un controllo preciso dei rivestimenti di film polimerici, compresi la conformità e lo spessore del rivestimento.
Batterie a film sottile
Le batterie a film sottile alimentano dispositivi elettronici come i dispositivi medici impiantabili, e la batteria agli ioni di litio è progredita in modo significativo grazie all'uso di film sottili.
Rivestimenti a film sottile
I rivestimenti a film sottile migliorano le caratteristiche chimiche e meccaniche dei materiali di destinazione in varie industrie e campi tecnologici. Rivestimenti antiriflesso, rivestimenti anti-ultravioletti o anti-infrarossi, rivestimenti antigraffio e polarizzazione delle lenti sono alcuni esempi comuni.
Celle solari a film sottile
Le celle solari a film sottile sono essenziali per l'industria dell'energia solare, in quanto consentono la produzione di elettricità pulita e relativamente economica. I sistemi fotovoltaici e l'energia termica sono le due principali tecnologie applicabili.
Quali Sono I Vantaggi Dell'utilizzo Di Apparecchiature Per La Deposizione Di Film Sottili?
Le Barche Di Evaporazione Possono Essere Riutilizzate?
Come Devono Essere Maneggiati E Mantenuti I Crogioli Di Evaporazione?
Fattori E Parametri Che Influenzano La Deposizione Di Film Sottili
Rapidità di deposizione:
La velocità di produzione del film, tipicamente misurata in spessore diviso per il tempo, è fondamentale per selezionare una tecnologia adatta all'applicazione. Per i film sottili è sufficiente una velocità di deposizione moderata, mentre per i film spessi è necessaria una velocità di deposizione rapida. È importante trovare un equilibrio tra velocità e controllo preciso dello spessore del film.
Uniformità:
La consistenza del film sul substrato è nota come uniformità, che di solito si riferisce allo spessore del film ma può anche riguardare altre proprietà come l'indice di rifrazione. È importante avere una buona comprensione dell'applicazione per evitare di sotto- o sovra-specificare l'uniformità.
Capacità di riempimento:
La capacità di riempimento o copertura del gradino si riferisce a quanto il processo di deposizione copre la topografia del substrato. Il metodo di deposizione utilizzato (ad esempio, CVD, PVD, IBD o ALD) ha un impatto significativo sulla copertura dei gradini e sul riempimento.
Caratteristiche del film:
Le caratteristiche del film dipendono dai requisiti dell'applicazione, che possono essere classificati come fotonici, ottici, elettronici, meccanici o chimici. La maggior parte dei film deve soddisfare i requisiti di più di una categoria.
Temperatura di processo:
Le caratteristiche del film sono significativamente influenzate dalla temperatura di processo, che può essere limitata dall'applicazione.
Danni:
Ogni tecnologia di deposizione ha il potenziale di danneggiare il materiale su cui viene depositato, con caratteristiche più piccole che sono più suscettibili ai danni di processo. L'inquinamento, le radiazioni UV e il bombardamento ionico sono tra le potenziali fonti di danno. È fondamentale comprendere i limiti dei materiali e degli strumenti.
Quali Sono I Fattori Da Considerare Nella Scelta Di Un'apparecchiatura Per La Deposizione Di Film Sottili?
Come Si Sceglie Il Materiale Appropriato Per La Barca Di Evaporazione?
Quali Sono Le Considerazioni Sulla Sicurezza Associate Al Funzionamento Delle Apparecchiature Di Deposizione Di Film Sottili?
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