La tecnica di misurazione comunemente utilizzata per trovare lo spessore dei film sottili è l'ellissometria spettroscopica. L'ellissometria spettroscopica è un metodo non distruttivo e senza contatto che può misurare lo spessore di film trasparenti e semitrasparenti a uno o più strati. È ampiamente utilizzato in settori quali l'elettronica e i semiconduttori. Questo metodo consente di misurare simultaneamente lo spessore del film e le proprietà ottiche, come l'indice di rifrazione e il coefficiente di estinzione. L'intervallo di spessore in cui l'ellissometria spettroscopica è adatta è compreso tra 1nm e 1000nm. Tuttavia, non è in grado di misurare con precisione lo spessore dei film sottili basati su substrati trasparenti utilizzati in ottica. Anche altre tecniche, come la profilometria a stilo e l'interferometria, possono essere utilizzate per misurare meccanicamente lo spessore del film, ma richiedono la presenza di una scanalatura o di un gradino sulla superficie del film. È importante considerare fattori quali la trasparenza del materiale, le informazioni aggiuntive richieste e il budget a disposizione quando si sceglie una tecnica di misurazione dello spessore di un film sottile.
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