Quando si tratta di misurare lo spessore dei film sottili, una tecnica spicca: l'ellissometria spettroscopica.
Quale delle seguenti tecniche di misurazione è comunemente usata per trovare lo spessore dei film sottili? (4 metodi chiave esplorati)
1. Ellissometria spettroscopica
L'ellissometria spettroscopica è un metodo non distruttivo e senza contatto.
Può misurare lo spessore di film trasparenti e semitrasparenti a uno o più strati.
Questo metodo è ampiamente utilizzato in settori quali l'elettronica e i semiconduttori.
Consente di misurare contemporaneamente lo spessore del film e le proprietà ottiche, come l'indice di rifrazione e il coefficiente di estinzione.
L'intervallo di spessore adatto per l'ellissometria spettroscopica è compreso tra 1nm e 1000nm.
Tuttavia, non è in grado di misurare con precisione lo spessore di film sottili su substrati trasparenti utilizzati in ottica.
2. Profilometria a stilo
La profilometria a stilo è un'altra tecnica che può essere utilizzata per misurare meccanicamente lo spessore dei film.
Richiede la presenza di un solco o di un gradino sulla superficie del film.
3. Interferometria
Anche l'interferometria è un metodo che può essere utilizzato per misurare lo spessore del film.
Come la profilometria a stilo, richiede caratteristiche specifiche della superficie per funzionare efficacemente.
4. Altre tecniche
Per le applicazioni che coinvolgono substrati trasparenti utilizzati nell'ottica, si possono esplorare altri metodi come XRR, SEM trasversale e TEM trasversale.
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