I rivestimenti per deposizione sono essenziali per diverse applicazioni e forniscono proprietà specifiche come la durata e la conduttività.
Esistono due tipi principali di rivestimenti per deposizione: la deposizione fisica da vapore (PVD) e la deposizione chimica da vapore (CVD).
Ciascuna categoria comprende varie tecniche adatte a specifiche applicazioni e proprietà dei materiali.
5 metodi chiave spiegati
1. Deposizione fisica da vapore (PVD)
Questo metodo prevede la deposizione di materiali su un substrato senza l'ausilio di reazioni chimiche.
Evaporazione termica o a fascio di elettroni
I materiali vengono riscaldati fino al punto di vaporizzazione e poi condensati sul substrato.
Sputtering con magnetron o fascio di ioni
Gli atomi vengono espulsi da un materiale bersaglio grazie al bombardamento di ioni e quindi depositati sul substrato.
Deposizione ad arco catodico
Un arco ad alta corrente vaporizza il materiale da un catodo, che poi si deposita sul substrato.
2. Deposizione chimica da vapore (CVD)
Si tratta di reazioni chimiche tra precursori gassosi per depositare un materiale solido su un substrato.
CVD standard
I gas reagiscono ad alte temperature per depositare un film sottile.
Deposizione chimica da vapore potenziata da plasma (PECVD)
Utilizza il plasma per potenziare la reazione chimica, consentendo temperature di deposizione più basse.
3. Sol-Gel
Una soluzione chimica che forma un rivestimento solido attraverso una reazione chimica.
4. Idrolisi a fiamma
Deposizione attraverso la decomposizione termica di un vapore chimico.
5. Deposizione elettrochimica e Deposizione elettrolitica
Comporta rispettivamente una riduzione elettrolitica o chimica senza elettricità.
Deposizione termica, al plasma e a freddo
Si tratta di spruzzare materiali su una superficie a varie temperature.
Ciascuno di questi metodi viene scelto in base alle proprietà desiderate del rivestimento, come la trasparenza, la durata, la conduttività elettrica o termica, e ai requisiti specifici del substrato e dell'applicazione.
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