La deposizione fisica da vapore (PVD) è una tecnica versatile con un'ampia gamma di applicazioni in diversi settori.
6 applicazioni chiave del metodo di deposizione fisica da vapore (PVD)
Dispositivi a semiconduttore
La PVD è comunemente utilizzata nella produzione di dispositivi a semiconduttore.
Viene utilizzato per depositare film sottili di vari materiali su substrati di semiconduttori, come i wafer di silicio.
Questi film sottili servono a scopi quali l'isolamento, le barriere di diffusione e i contatti metallici.
Rivestimenti e filtri ottici
La PVD viene utilizzata per depositare film sottili di materiali con specifiche proprietà ottiche su componenti ottici.
Questi rivestimenti migliorano la riflettività, la trasmittanza e la durata delle superfici ottiche.
Sono utilizzati in applicazioni come rivestimenti antiriflesso, rivestimenti per specchi e filtri per la selezione delle lunghezze d'onda.
Utensili da taglio rivestiti
Il PVD viene utilizzato per applicare rivestimenti duri su utensili da taglio, come punte, frese e inserti.
Questi rivestimenti migliorano la resistenza all'usura e la durezza degli utensili da taglio.
Ciò si traduce in una maggiore durata dell'utensile e in migliori prestazioni di taglio.
Display decorativi
Il PVD viene utilizzato per depositare film altamente riflettenti su superfici, come vetro o plastica, a scopo decorativo.
Questi film creano una finitura a specchio e sono comunemente utilizzati in prodotti come smartphone, tablet e display automobilistici.Celle solariIl PVD è utilizzato nella produzione di celle solari.Viene utilizzato per depositare film sottili di materiali, come il silicio, sulla superficie della cella solare.Questi film sottili aumentano l'efficienza della cella solare migliorando l'assorbimento della luce e il trasporto degli elettroni.
