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Obiettivo di sputtering di elevata purezza in ossido di magnesio (MgO) / polvere / filo / blocco / granulo

Materiali di laboratorio

Obiettivo di sputtering di elevata purezza in ossido di magnesio (MgO) / polvere / filo / blocco / granulo

Numero articolo : LM-MgO

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Formula chimica
MgO
Purezza
4N
Forma
dischi / filo / blocco / polvere / piastre / bersagli a colonna / bersaglio a gradini / su misura
ISO & CE icon

Spedizione:

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Offriamo materiali di ossido di magnesio (MgO) di alta qualità, progettati specificamente per l'uso in laboratorio. Siamo orgogliosi della nostra esperienza nel produrre e personalizzare materiali di ossido di magnesio (MgO) di diversa purezza, forma e dimensione per soddisfare le vostre esigenze specifiche.

Offriamo un'ampia scelta di specifiche e dimensioni per i nostri prodotti, tra cui bersagli per sputtering (circolari, quadrati, tubolari, irregolari), materiali di rivestimento, cilindri, coni, particelle, lamine, polveri, polveri per stampa 3D, polveri nanometriche, vergelle, lingotti e blocchi. Qualunque siano le vostre esigenze, siamo certi di avere il prodotto perfetto per voi.

Dettagli

Bersaglio di sputtering in ossido di magnesio (MgO)
Obiettivo di sputtering in ossido di magnesio (MgO)

Informazioni sull'ossido di magnesio (MgO)

L'ossido di magnesio è una fonte di magnesio altamente insolubile e termicamente stabile. Grazie alle sue proprietà, è comunemente utilizzato in applicazioni di vetro, ottica e ceramica. L'ossido di magnesio è una polvere bianca e igroscopica che in presenza di acqua forma idrossido di magnesio. Storicamente era conosciuto come magnesia alba, che significa "minerale bianco della Magnesia".

I composti di ossido non sono generalmente conduttori di elettricità. Tuttavia, gli ossidi strutturati in perovskite fanno eccezione e trovano applicazione nei catodi delle celle a combustibile a ossido solido e nei sistemi di generazione di ossigeno. I composti ossidici contengono almeno un anione di ossigeno e un catione metallico. Sono tipicamente insolubili in acqua, il che li rende stabili e utili nelle strutture ceramiche. Dalla produzione di ciotole di argilla all'elettronica avanzata e ai componenti strutturali leggeri nelle applicazioni aerospaziali ed elettrochimiche, i composti di ossido metallico hanno usi versatili.

L'ossido di magnesio è un'anidride basica che può reagire con acidi e forti agenti riducenti nelle reazioni redox. Inoltre, l'ossido di magnesio è disponibile in pellet, pezzi, polvere, bersagli sputtering, compresse e nanopolveri presso i nostri impianti di produzione su scala nanometrica. È generalmente disponibile nella maggior parte dei volumi e può essere ottenuto in forme di altissima purezza, elevata purezza, submicron e nanopolveri.

Controllo qualità ingredienti

Analisi della composizione della materia prima
Attraverso l'utilizzo di apparecchiature quali ICP e GDMS, il contenuto di impurità metalliche viene rilevato e analizzato per garantire che soddisfi lo standard di purezza;

Le impurità non metalliche vengono rilevate da apparecchiature quali analizzatori di carbonio e zolfo, analizzatori di azoto e ossigeno.
Analisi di rilevamento difetti metallografici
Il materiale target viene ispezionato utilizzando apparecchiature di rilevamento dei difetti per garantire che non vi siano difetti o fori di ritiro all'interno del prodotto;

Attraverso i test metallografici, viene analizzata la struttura interna dei grani del materiale target per garantire che i grani siano fini e densi.
Controllo dell'aspetto e delle dimensioni
Le dimensioni del prodotto sono misurate utilizzando micrometri e calibri di precisione per garantire la conformità ai disegni;

La finitura superficiale e la pulizia del prodotto vengono misurate utilizzando un misuratore di pulizia della superficie.

Dimensioni target convenzionali dello sputtering

Processo di preparazione
pressatura isostatica a caldo, fusione sotto vuoto, ecc.
Forma bersaglio sputtering
sputtering piano bersaglio, bersaglio sputtering multi-arco, bersaglio sputtering a gradini, bersaglio sputtering a forma speciale
Dimensione target sputtering rotondo
Diametro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Spessore: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Le dimensioni possono essere personalizzate.
Dimensione target sputtering quadrato
50×50×3 mm / 100×100×4 mm / 300×300×5 mm, le dimensioni possono essere personalizzate

Forme metalliche disponibili

Dettagli forme metalliche

Produciamo quasi tutti i metalli elencati nella tavola periodica in un'ampia gamma di forme e purezze, nonché come misure e dimensioni standard. Possiamo anche produrre prodotti su misura per soddisfare le esigenze specifiche del cliente, come dimensioni, forma, superficie, composizione e altro. L'elenco seguente fornisce un esempio dei moduli che offriamo, ma non è esaustivo. Se hai bisogno di materiali di consumo per laboratorio, contattaci direttamente per richiedere un preventivo.

  • Forme piatte/planari: cartone, pellicola, lamina, microfoglio, microfoglio, carta, lastra, nastro, foglio, striscia, Nastro, Wafer
  • Forme preformate: Anodi, sfere, fasce, barre, barchette, bulloni, bricchette, catodi, cerchi, bobine, crogioli, cristalli, cubi, tazze, cilindri, dischi, elettrodi, fibre, filamenti , flange, griglie, lenti, mandrini, dadi, parti, prismi, dischi, anelli, aste, forme, scudi, manicotti, molle, quadrati, bersagli sputtering, bastoncini, tubi, rondelle, finestre, fili
  • Microdimensioni: Perle, Pezzetti, Capsule, Trucioli, Monete, Polvere, Scaglie, Grani, Granuli, Micropolvere, Aghi, Particelle, Ciottoli, Pellet, Spilli, Pillole, Polvere, Trucioli, Pallini, Lumache, Sfere, Compresse
  • < li>Macrodimensioni: Billette, Pezzi, Ritagli, Frammenti, Lingotti, Grumi, Nuggets, Pezzi, Tranciature, Rocce, Scarti, Segmenti, Torniture
  • Porosi e Semiporosi: Tessuto, Schiuma, Garza, Nido d'ape, Rete, spugna, lana
  • Nanoscala: nanoparticelle, nanopolveri, nanofogli, nanotubi, nanotubi, nanoprismi
  • Altro: concentrato, inchiostro, pasta, precipitato, residuo, campioni, campioni

KinTek è specializzata nella produzione di materiali di elevata e ultra-purezza con un intervallo di purezza del 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e in alcuni casi, fino al 99,99999% (7N). I nostri materiali sono disponibili in qualità specifiche, tra cui UP/UHP, semiconduttori, elettronica, deposizione, fibra ottica e MBE. I nostri metalli, ossidi e composti di elevata purezza sono realizzati appositamente per soddisfare le rigorose esigenze delle applicazioni ad alta tecnologia e sono ideali per l'uso come droganti e materiali precursori per la deposizione di film sottili, la crescita dei cristalli di semiconduttori e la sintesi di nanomateriali. Questi materiali trovano impiego nella microelettronica avanzata, nelle celle solari, nelle celle a combustibile, nei materiali ottici e in altre applicazioni all'avanguardia.

Imballaggio

Utilizziamo il vuoto imballaggio per i nostri materiali ad elevata purezza e ogni materiale ha un imballaggio specifico su misura per le sue caratteristiche uniche. Ad esempio, il nostro target sputter Hf è contrassegnato ed etichettato esternamente per facilitare l'identificazione e il controllo di qualità efficienti. Facciamo molta attenzione a prevenire eventuali danni che potrebbero verificarsi durante lo stoccaggio o il trasporto.

Visualizza altre domande frequenti per questo prodotto

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