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Obiettivo di sputtering di elevata purezza in ossido di cromo (Cr2O3) / polvere / filo / blocco / granulo

Materiali di laboratorio

Obiettivo di sputtering di elevata purezza in ossido di cromo (Cr2O3) / polvere / filo / blocco / granulo

Numero articolo : LM-Cr2O3

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Formula chimica
Cr2O3
Purezza
4N
Forma
dischi / filo / blocco / polvere / piastre / bersagli a colonna / bersaglio a gradini / su misura
ISO & CE icon

Spedizione:

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Offriamo materiali di ossido di cromo (Cr2O3) per uso di laboratorio a prezzi accessibili. La nostra specializzazione consiste nel produrre e personalizzare materiali di ossido di cromo (Cr2O3) di diversa purezza, forma e dimensione per soddisfare le vostre esigenze specifiche.

Offriamo un'ampia gamma di specifiche e dimensioni per varie applicazioni come bersagli per sputtering (circolari, quadrati, tubolari, irregolari), materiali di rivestimento, cilindri, coni, particelle, lamine, polveri, polveri per stampa 3D, polveri nanometriche, vergelle, lingotti e blocchi, tra gli altri.

Dettagli

Particelle di ossido di cromo (Cr2O3)
Particelle di ossido di cromo (Cr2O3)
Ossido di cromo (Cr2O3) in particelle
Particelle di ossido di cromo (Cr2O3)
Ossido di cromo (Cr2O3) particelle
Particelle di ossido di cromo (Cr2O3)

Informazioni sull'ossido di cromo (Cr2O3)

L'ossido di cromo (III) è una fonte di cromo altamente insolubile e termicamente stabile che trova applicazione in diversi settori industriali, quali vetro, ottica e ceramica. Questo solido verde e igroscopico si trova in natura come il raro minerale eskolaite.

I composti di ossido, in generale, non sono conduttori di elettricità. Tuttavia, alcuni ossidi con struttura a perovskite sono elettronicamente conduttivi, il che li rende utili nel catodo delle celle a combustibile a ossido solido e nei sistemi di generazione di ossigeno. Questi composti contengono almeno un anione di ossigeno e un catione metallico. Sono tipicamente insolubili in soluzioni acquose, il che li rende estremamente stabili e utili nelle strutture ceramiche, dalle semplici ciotole di argilla all'elettronica avanzata e ai componenti strutturali leggeri nelle applicazioni aerospaziali ed elettrochimiche.

La polvere di ossido di cromo (Cr2O3) di elevata purezza (99,999%) trova applicazione nelle celle a combustibile, dove presenta una conduttività ionica. I composti di ossido di metallo sono anidridi basiche, il che significa che possono reagire con acidi e forti agenti riducenti nelle reazioni redox. L'ossido di cromo è disponibile anche in pellet, pezzi, polvere, bersagli per sputtering, compresse e nanopolveri. In genere è immediatamente disponibile nella maggior parte dei volumi e si possono prendere in considerazione le forme submicroniche e di nanopolveri ad alta purezza.

Controllo qualità ingredienti

Analisi della composizione della materia prima
Attraverso l'utilizzo di apparecchiature quali ICP e GDMS, il contenuto di impurità metalliche viene rilevato e analizzato per garantire che soddisfi lo standard di purezza;

Le impurità non metalliche vengono rilevate da apparecchiature quali analizzatori di carbonio e zolfo, analizzatori di azoto e ossigeno.
Analisi di rilevamento difetti metallografici
Il materiale target viene ispezionato utilizzando apparecchiature di rilevamento dei difetti per garantire che non vi siano difetti o fori di ritiro all'interno del prodotto;

Attraverso i test metallografici, viene analizzata la struttura interna dei grani del materiale target per garantire che i grani siano fini e densi.
Controllo dell'aspetto e delle dimensioni
Le dimensioni del prodotto sono misurate utilizzando micrometri e calibri di precisione per garantire la conformità ai disegni;

La finitura superficiale e la pulizia del prodotto vengono misurate utilizzando un misuratore di pulizia della superficie.

Dimensioni target convenzionali dello sputtering

Processo di preparazione
pressatura isostatica a caldo, fusione sotto vuoto, ecc.
Forma bersaglio sputtering
sputtering piano bersaglio, bersaglio sputtering multi-arco, bersaglio sputtering a gradini, bersaglio sputtering a forma speciale
Dimensione target sputtering rotondo
Diametro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Spessore: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Le dimensioni possono essere personalizzate.
Dimensione target sputtering quadrato
50×50×3 mm / 100×100×4 mm / 300×300×5 mm, le dimensioni possono essere personalizzate

Forme metalliche disponibili

Dettagli forme metalliche

Produciamo quasi tutti i metalli elencati nella tavola periodica in un'ampia gamma di forme e purezze, nonché come misure e dimensioni standard. Possiamo anche produrre prodotti su misura per soddisfare le esigenze specifiche del cliente, come dimensioni, forma, superficie, composizione e altro. L'elenco seguente fornisce un esempio dei moduli che offriamo, ma non è esaustivo. Se hai bisogno di materiali di consumo per laboratorio, contattaci direttamente per richiedere un preventivo.

  • Forme piatte/planari: cartone, pellicola, lamina, microfoglio, microfoglio, carta, lastra, nastro, foglio, striscia, Nastro, Wafer
  • Forme preformate: Anodi, sfere, fasce, barre, barchette, bulloni, bricchette, catodi, cerchi, bobine, crogioli, cristalli, cubi, tazze, cilindri, dischi, elettrodi, fibre, filamenti , flange, griglie, lenti, mandrini, dadi, parti, prismi, dischi, anelli, aste, forme, scudi, manicotti, molle, quadrati, bersagli sputtering, bastoncini, tubi, rondelle, finestre, fili
  • Microdimensioni: Perle, Pezzetti, Capsule, Trucioli, Monete, Polvere, Scaglie, Grani, Granuli, Micropolvere, Aghi, Particelle, Ciottoli, Pellet, Spilli, Pillole, Polvere, Trucioli, Pallini, Lumache, Sfere, Compresse
  • < li>Macrodimensioni: Billette, Pezzi, Ritagli, Frammenti, Lingotti, Grumi, Nuggets, Pezzi, Tranciature, Rocce, Scarti, Segmenti, Torniture
  • Porosi e Semiporosi: Tessuto, Schiuma, Garza, Nido d'ape, Rete, spugna, lana
  • Nanoscala: nanoparticelle, nanopolveri, nanofogli, nanotubi, nanotubi, nanoprismi
  • Altro: concentrato, inchiostro, pasta, precipitato, residuo, campioni, campioni

KinTek è specializzata nella produzione di materiali di elevata e ultra-purezza con un intervallo di purezza del 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e in alcuni casi, fino al 99,99999% (7N). I nostri materiali sono disponibili in qualità specifiche, tra cui UP/UHP, semiconduttori, elettronica, deposizione, fibra ottica e MBE. I nostri metalli, ossidi e composti di elevata purezza sono realizzati appositamente per soddisfare le rigorose esigenze delle applicazioni ad alta tecnologia e sono ideali per l'uso come droganti e materiali precursori per la deposizione di film sottili, la crescita dei cristalli di semiconduttori e la sintesi di nanomateriali. Questi materiali trovano impiego nella microelettronica avanzata, nelle celle solari, nelle celle a combustibile, nei materiali ottici e in altre applicazioni all'avanguardia.

Imballaggio

Utilizziamo il vuoto imballaggio per i nostri materiali ad elevata purezza e ogni materiale ha un imballaggio specifico su misura per le sue caratteristiche uniche. Ad esempio, il nostro target sputter Hf è contrassegnato ed etichettato esternamente per facilitare l'identificazione e il controllo di qualità efficienti. Facciamo molta attenzione a prevenire eventuali danni che potrebbero verificarsi durante lo stoccaggio o il trasporto.

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KINTEK's Chromium Oxide materials have exceeded our expectations in terms of quality and consistency. We highly recommend them for your laboratory needs.

Dr. Elvin Alomar

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I've been using KINTEK's Chromium Oxide sputtering targets for my research for years, and they've always been reliable and produced excellent results. Highly recommended!

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KINTEK's Chromium Oxide powders have been instrumental in our battery research. Their high purity and fine grain size have enabled us to achieve remarkable results. Keep up the great work!

Dr. Hugo Silva

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We've been using KINTEK's Chromium Oxide blocks for our ceramic applications, and we've been thoroughly impressed with their durability and thermal stability. Highly satisfied!

Dr. Fatima Patel

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KINTEK's Chromium Oxide granules have been a game-changer for our material science research. Their uniform size and high purity have enabled us to obtain highly accurate and reproducible data. Thank you, KINTEK!

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We've been using KINTEK's Chromium Oxide wires for our electronics applications, and they've been performing exceptionally well. Their high conductivity and resistance to corrosion have been crucial for our success. Highly recommended!

Dr. Maria Garcia

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KINTEK's Chromium Oxide ingots have been a valuable addition to our laboratory. Their high purity and fine grain structure have enabled us to achieve superior results in our research. Thank you, KINTEK!

Dr. Pedro Mendes

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I've been using KINTEK's Chromium Oxide sputtering targets for my thin-film research, and I'm consistently impressed with their performance. They produce high-quality films with excellent uniformity and adhesion. Highly recommended!

Dr. Carla Costa

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We've been using KINTEK's Chromium Oxide particles for our catalysis research, and we've been very satisfied with the results. Their high surface area and chemical purity have enabled us to achieve high catalytic activity and selectivity. Thank you, KINTEK!

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Dr. Benjamin Miller

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