Materiali di laboratorio
Obiettivo di sputtering di biossido di silicio (SiO2) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-SIO2
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Formula chimica
- SiO2
- Purezza
- 4N-5N
- Forma
- dischi / filo / blocco / polvere / piastre / bersagli a colonna / bersaglio a gradini / su misura
Spedizione:
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Richiedi il tuo preventivo ora! Lasciate un messaggio Ottieni un preventivo rapido Via WhatsappA prezzi ragionevoli, offriamo materiali di biossido di silicio (SiO2) specificamente progettati per uso di laboratorio. La nostra esperienza consiste nel produrre e personalizzare materiali di biossido di silicio (SiO2) di diversa purezza, forma e dimensione che soddisfano le vostre esigenze specifiche.
Forniamo un'ampia gamma di specifiche e dimensioni per bersagli sputtering (circolari, quadrati, tubolari, irregolari), materiali di rivestimento, cilindri, coni, particelle, lamine, polveri, polveri per stampa 3D, polveri nanometriche, vergelle, lingotti e blocchi, tra gli altri.
Dettagli
Informazioni sul biossido di silicio (SiO2)
Il biossido di silicio è una fonte di silicio altamente insolubile e termicamente stabile che trova applicazioni nelle industrie del vetro, dell'ottica e della ceramica. I composti di ossido, in generale, non sono conduttori di elettricità. Tuttavia, alcuni ossidi strutturati in perovskite sono elettronicamente conduttivi e sono utilizzati nel catodo delle celle a combustibile a ossido solido e nei sistemi di generazione di ossigeno. Questi composti contengono almeno un anione di ossigeno e un catione metallico, che li rende tipicamente insolubili in soluzioni acquose.
I composti di ossido metallico sono anidridi basiche e possono reagire con acidi e forti agenti riducenti in reazioni redox. Ciononostante, l'ossido di silicio è altamente stabile e utile nella produzione di strutture ceramiche, dalle ciotole di argilla all'elettronica avanzata e ai componenti strutturali leggeri nel settore aerospaziale e nelle applicazioni elettrochimiche, come le celle a combustibile, dove presenta una conducibilità ionica.
L'ossido di silicio è disponibile in varie forme, tra cui pellet, pezzi, polvere, bersagli per sputtering, compresse e nanopolveri. Produciamo biossido di silicio in molti gradi standard, tra cui Mil Spec, ACS, grado tecnico e reagente, grado alimentare, agricolo e farmaceutico, grado ottico, USP e EP/BP. Forniamo anche opzioni di confezionamento personalizzate per i nostri clienti.
Offriamo forme di biossido di silicio ad altissima purezza, elevata purezza, submicron e nanopolveri. Abbiamo anche un calcolatore di riferimento disponibile per convertire le unità di misura pertinenti.
Controllo qualità ingredienti
- Analisi della composizione della materia prima
- Attraverso l'utilizzo di apparecchiature quali ICP e GDMS, il contenuto di impurità metalliche viene rilevato e analizzato per garantire che soddisfi lo standard di purezza;
Le impurità non metalliche vengono rilevate da apparecchiature quali analizzatori di carbonio e zolfo, analizzatori di azoto e ossigeno. - Analisi di rilevamento difetti metallografici
- Il materiale target viene ispezionato utilizzando apparecchiature di rilevamento dei difetti per garantire che non vi siano difetti o fori di ritiro all'interno del prodotto;
Attraverso i test metallografici, viene analizzata la struttura interna dei grani del materiale target per garantire che i grani siano fini e densi. - Controllo dell'aspetto e delle dimensioni
- Le dimensioni del prodotto sono misurate utilizzando micrometri e calibri di precisione per garantire la conformità ai disegni;
La finitura superficiale e la pulizia del prodotto vengono misurate utilizzando un misuratore di pulizia della superficie.
Dimensioni target convenzionali dello sputtering
- Processo di preparazione
- pressatura isostatica a caldo, fusione sotto vuoto, ecc.
- Forma bersaglio sputtering
- sputtering piano bersaglio, bersaglio sputtering multi-arco, bersaglio sputtering a gradini, bersaglio sputtering a forma speciale
- Dimensione target sputtering rotondo
- Diametro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Spessore: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Le dimensioni possono essere personalizzate. - Dimensione target sputtering quadrato
- 50×50×3 mm / 100×100×4 mm / 300×300×5 mm, le dimensioni possono essere personalizzate
Forme metalliche disponibili
Dettagli forme metalliche
Produciamo quasi tutti i metalli elencati nella tavola periodica in un'ampia gamma di forme e purezze, nonché come misure e dimensioni standard. Possiamo anche produrre prodotti su misura per soddisfare le esigenze specifiche del cliente, come dimensioni, forma, superficie, composizione e altro. L'elenco seguente fornisce un esempio dei moduli che offriamo, ma non è esaustivo. Se hai bisogno di materiali di consumo per laboratorio, contattaci direttamente per richiedere un preventivo.
- Forme piatte/planari: cartone, pellicola, lamina, microfoglio, microfoglio, carta, lastra, nastro, foglio, striscia, Nastro, Wafer
- Forme preformate: Anodi, sfere, fasce, barre, barchette, bulloni, bricchette, catodi, cerchi, bobine, crogioli, cristalli, cubi, tazze, cilindri, dischi, elettrodi, fibre, filamenti , flange, griglie, lenti, mandrini, dadi, parti, prismi, dischi, anelli, aste, forme, scudi, manicotti, molle, quadrati, bersagli sputtering, bastoncini, tubi, rondelle, finestre, fili
- Microdimensioni: Perle, Pezzetti, Capsule, Trucioli, Monete, Polvere, Scaglie, Grani, Granuli, Micropolvere, Aghi, Particelle, Ciottoli, Pellet, Spilli, Pillole, Polvere, Trucioli, Pallini, Lumache, Sfere, Compresse < li>Macrodimensioni: Billette, Pezzi, Ritagli, Frammenti, Lingotti, Grumi, Nuggets, Pezzi, Tranciature, Rocce, Scarti, Segmenti, Torniture
- Porosi e Semiporosi: Tessuto, Schiuma, Garza, Nido d'ape, Rete, spugna, lana
- Nanoscala: nanoparticelle, nanopolveri, nanofogli, nanotubi, nanotubi, nanoprismi
- Altro: concentrato, inchiostro, pasta, precipitato, residuo, campioni, campioni
KinTek è specializzata nella produzione di materiali di elevata e ultra-purezza con un intervallo di purezza del 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e in alcuni casi, fino al 99,99999% (7N). I nostri materiali sono disponibili in qualità specifiche, tra cui UP/UHP, semiconduttori, elettronica, deposizione, fibra ottica e MBE. I nostri metalli, ossidi e composti di elevata purezza sono realizzati appositamente per soddisfare le rigorose esigenze delle applicazioni ad alta tecnologia e sono ideali per l'uso come droganti e materiali precursori per la deposizione di film sottili, la crescita dei cristalli di semiconduttori e la sintesi di nanomateriali. Questi materiali trovano impiego nella microelettronica avanzata, nelle celle solari, nelle celle a combustibile, nei materiali ottici e in altre applicazioni all'avanguardia.
Imballaggio
Utilizziamo il vuoto imballaggio per i nostri materiali ad elevata purezza e ogni materiale ha un imballaggio specifico su misura per le sue caratteristiche uniche. Ad esempio, il nostro target sputter Hf è contrassegnato ed etichettato esternamente per facilitare l'identificazione e il controllo di qualità efficienti. Facciamo molta attenzione a prevenire eventuali danni che potrebbero verificarsi durante lo stoccaggio o il trasporto.
FAQ
Cosa sono le piastre di quarzo ottico?
Cosa sono i materiali ad alta purezza?
Quali sono i principali tipi di lastre di quarzo ottico?
Quali sono le applicazioni delle lastre di quarzo ottico?
Quali sono i vantaggi dell'uso delle lastre di quarzo ottico?
Come vengono prodotte le lastre di quarzo ottico?
Cosa rende uniche le lastre di quarzo K9?
Qual è il ruolo delle lastre di quarzo ottico nelle telecomunicazioni?
Come contribuiscono le piastre di quarzo ottico alla ricerca di laboratorio?
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