I rivestimenti PVD TiN sono convenzionalmente applicati a temperature comprese tra 400 e 500°C (da 750 a 930°F).
I processi PVD si basano sul bombardamento di ioni anziché sulle alte temperature come forza motrice.
Il substrato da rivestire viene posto in una camera a vuoto e riscaldato a temperatura.
Il materiale di rivestimento Ti viene vaporizzato e un gas reattivo come l'N2 viene introdotto e ionizzato.
Gli atomi di titanio vaporizzati reagiscono quindi con l'azoto ionizzato per formare il composto TiN che si deposita sul substrato per formare il rivestimento.
Rispetto ai processi CVD, i processi PVD operano a temperature molto più basse.
Le temperature di lavorazione CVD sono in genere comprese tra 850 e 1100°C (1550-2000ºF).
I rivestimenti PVD sono adatti agli acciai con temperature di rinvenimento più elevate.
I rivestimenti PVD hanno uno spessore più sottile, di circa 3-5μm, e temperature di lavorazione inferiori, di circa 500°C.
Ciò rende i rivestimenti PVD adatti a una gamma più ampia di substrati e applicazioni, soprattutto per i materiali di base sensibili a intervalli di temperatura più elevati.
I rivestimenti PVD hanno anche il vantaggio di mantenere tolleranze strette e di ridurre al minimo la distorsione sulla maggior parte dei materiali.
Al contrario, i rivestimenti CVD hanno requisiti di resistenza alle temperature più elevati e sono tipicamente utilizzati su leghe dure come il carburo cementato, a causa delle elevate temperature di lavorazione (800-1000°C).
In generale, la scelta tra rivestimenti TiN PVD e CVD dipende dalla temperatura di utilizzo finale del componente.
Le temperature di utilizzo più elevate possono rendere i metodi di rivestimento CVD più desiderabili, mentre i rivestimenti PVD sono più versatili e adatti a una gamma più ampia di substrati e applicazioni.
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