La deposizione termica, nota anche come evaporazione termica, è una tecnica utilizzata nella deposizione fisica di vapore (PVD).
Consiste nel riscaldare un materiale fino al suo punto di evaporazione in un ambiente ad alto vuoto.
Questo provoca la vaporizzazione del materiale e il successivo deposito di un film sottile su un substrato.
Questo metodo è noto per la sua semplicità, l'elevata velocità di deposizione e l'efficiente utilizzo del materiale.
È ampiamente utilizzato in settori quali l'ottica, l'elettronica e le celle solari.
Che cos'è il metodo di deposizione termica? 5 punti chiave da capire
1. Meccanismo della deposizione termica
Il processo inizia con il posizionamento del materiale target all'interno di una sorgente di evaporazione.
Questa sorgente può essere una barca, una bobina o un cestello.
La sorgente viene quindi riscaldata facendovi passare una corrente elettrica.
In questo modo il materiale raggiunge il suo punto di evaporazione grazie alla resistenza elettrica della sorgente.
Questo metodo di riscaldamento viene spesso definito evaporazione resistiva.
Una volta evaporato, le molecole del materiale si muovono nel vuoto e si condensano sulla superficie di un substrato.
Si forma così un film sottile.
Questo metodo è versatile e può essere utilizzato per depositare un'ampia gamma di materiali.
Tra questi, metalli come alluminio, argento, nichel, cromo e magnesio.
2. Applicazioni della deposizione termica
L'evaporazione termica è ampiamente utilizzata nella produzione di vari componenti.
Tra questi, gli strati di legame metallico nelle celle solari, i transistor a film sottile, i wafer di semiconduttori e gli OLED a base di carbonio.
Il film prodotto può essere un singolo componente o può prevedere la co-deposizione di diversi materiali.
Ciò dipende dai requisiti specifici dell'applicazione.
3. Vantaggi e miglioramenti
Uno dei vantaggi principali dell'evaporazione termica è l'elevata velocità di deposizione e l'uso efficiente dei materiali.
Questo metodo è stato ulteriormente migliorato con tecnologie come la deposizione E-Beam.
Ciò consente di produrre rivestimenti di alta qualità con un elevato grado di precisione.
L'evaporazione termica è particolarmente efficace per depositare strati metallici elettricamente conduttivi sui dispositivi.
Questi includono celle solari, display OLED e transistor a film sottile.
4. Confronto con altri metodi di deposizione
Sebbene l'evaporazione termica sia un metodo comune, esistono altre tecniche di deposizione.
Una di queste è la deposizione per sputtering, che utilizza il plasma per trasferire ioni da un materiale target a un substrato.
Ogni metodo ha i suoi vantaggi e viene scelto in base alle esigenze specifiche dell'applicazione.
5. Sintesi
La deposizione termica è un metodo fondamentale e ampiamente utilizzato nel processo PVD.
Offre un approccio semplice alla deposizione di film sottili con un'elevata efficienza e versatilità in diversi settori.
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