Nello sputtering, il bersaglio è la sorgente di materiale solido utilizzata per creare rivestimenti di film sottile su un substrato.Viene bombardato da ioni ad alta energia in una camera a vuoto, provocando l'espulsione di atomi dalla sua superficie.Questi atomi si depositano poi sul substrato, formando un film sottile.I target sono tipicamente piatti o cilindrici e realizzati con il materiale di rivestimento desiderato, come l'oro o altri metalli.La superficie del bersaglio è più grande dell'area da spruzzare per evitare lo sputtering involontario e, nel tempo, sviluppa scanalature o "piste" dovute al processo di sputtering.Il termine "bersaglio" deriva dall'analogia con un bersaglio da tiro, che viene bombardato da ioni o elettroni.
Punti chiave spiegati:
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Definizione di bersaglio sputtering:
- Il bersaglio è un pezzo solido di materiale che serve come fonte per la deposizione di film sottili nel processo di sputtering.
- Viene bombardato da ioni ad alta energia, che provocano l'espulsione di atomi e il loro deposito su un substrato.
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Ruolo nel processo di sputtering:
- Il target è la materia prima del processo di rivestimento sotto vuoto.
- Viene posto in una camera a vuoto, dove un gas inerte (ad esempio, argon) viene ionizzato per creare un plasma.
- Gli ioni vengono accelerati verso il bersaglio, liberando gli atomi che poi si condensano sul substrato.
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Caratteristiche fisiche dei bersagli:
- I target sono tipicamente di forma piatta o cilindrica.
- Devono essere sufficientemente grandi per evitare lo sputtering involontario di cuscinetti metallici o altri componenti.
- La superficie del bersaglio è sempre più grande dell'area effettivamente spruzzata per garantire una deposizione uniforme.
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Composizione del materiale:
- I target sono fatti del materiale destinato alla deposizione, come oro, alluminio o altri metalli.
- Ad esempio, i target in oro sono dischi di oro puro utilizzati per depositare l'oro sui substrati.
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Usura e usura degli obiettivi:
- Con il tempo, i target sviluppano scanalature più profonde o aree in cui lo sputtering è predominante, note come "tracce di corsa".
- Questo modello di usura indica le regioni in cui il bersaglio è stato bombardato più pesantemente.
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Origine del termine "bersaglio":
- Il termine "bersaglio" deriva dall'analogia con un bersaglio da tiro.
- Nello sputtering, il materiale viene bombardato da un fascio di elettroni o ioni, in modo simile a come si spara a un bersaglio.
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Meccanica del processo:
- Il plasma di argon viene acceso nella camera a vuoto e gli ioni di argon vengono accelerati verso il bersaglio con carica negativa.
- L'elevata energia cinetica degli ioni fa sì che gli atomi del bersaglio vengano espulsi e diffusi nella camera.
- Questi atomi si condensano poi come film sottile sul substrato.
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Importanza nella deposizione di film sottili:
- La composizione e la qualità del target influenzano direttamente le proprietà del film sottile depositato.
- L'uniformità, la purezza e la consistenza del materiale del target sono fondamentali per ottenere rivestimenti di alta qualità.
Comprendendo questi punti chiave, si può apprezzare il ruolo critico del target nel processo di sputtering e il suo impatto sulla qualità dei rivestimenti di film sottile.
Tabella riassuntiva:
| Aspetto chiave | Dettagli |
|---|---|
| Definizione | Sorgente di materiale solido per la deposizione di film sottili nello sputtering. |
| Ruolo | Materia prima bombardata da ioni per espellere gli atomi per il rivestimento del substrato. |
| Forma | Piana o cilindrica, di dimensioni maggiori rispetto all'area di sputtering. |
| Materiali | Oro, alluminio o altri metalli utilizzati per la deposizione. |
| Usura e lacerazione | Nel corso del tempo, a causa del bombardamento ionico, si formano scanalature o "piste". |
| Meccanica del processo | Il plasma di argon ionizza, accelera gli ioni per espellere gli atomi del bersaglio sul substrato. |
| Importanza | La qualità del target ha un impatto diretto sull'uniformità e sulle prestazioni del film sottile. |
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