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Materiali e materiali di laboratorio
KinTek offre una gamma di materiali di consumo per il laboratorio, tra cui materiali per l'evaporazione, target, metalli, parti per l'elettrochimica, nonché polveri, pellet, fili, strisce, lamine, piastre e altro ancora.
Materiali e materiali di laboratorio
Nichel Niobio Lega (NiNb) Sputtering Target / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-NiNb
Ferro in lega di nichel (FeNi) Obiettivo di sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-FeNi
Lega di manganese cobalto nichel (MnCoNi) Target di sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-MnCoNi
Bersaglio di sputtering di nitruro di boro (BN) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-BN
Bersaglio di sputtering di nitruro di alluminio (AlN) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-AlN
Bersaglio di sputtering del nitruro di silicio (Si3N4) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-Si3N4
Bersaglio / polvere / filo / blocco / granulo di nitruro di titanio (TiN) per sputtering
Numero articolo : LM-TiN
Bersaglio di sputtering del nitruro di tantalio (TaN) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-TaN
Target di sputtering di solfuro di zinco (ZnS) / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-ZnS
Target di sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo di solfuro di molibdeno (MoS2)
Numero articolo : LM-MoS2
Solfuro di stagno (SnS2) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-SnS2
Solfuro di tungsteno (WS2) Sputtering Target / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-WS2
Obiettivo di sputtering in solfuro di cadmio (CdS) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-CdS
Bersaglio/polvere/filo/blocco/granulo di carburo di boro (B4C) per sputtering
Numero articolo : LM-B4C
Carburo di afnio (HfC) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-HfC
Carburo di tungsteno (WC) Target sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-WC
Carburo di molibdeno (Mo2C) Target sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-Mo2C
Target di sputtering/polvere/filo/blocco/granulo di boruro di alluminio (AlB2)
Numero articolo : LM-AlB2
Bersaglio di sputtering in carburo di titanio (TiC) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-TiC
Carburo di boro (BC) bersaglio sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-BC
Bersaglio di sputtering in carburo di silicio (SiC) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-SiC
Titanato di litio (Li2TiO3) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-Li2TiO3
Tantalato di litio (LiTaO3) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-LiTaO3
Solfuro di antimonio (Sb2S3) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-Sb2S3
Seleniuro di indio (In2Se3) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-In2Se3
Seleniuro di indio (II) (InSe) Target di sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-InSe
Titanato di litio (LiTiO3) Target sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-IiTiO3
Cobalto di litio (LiCoO2) Target di sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-LiCoO2
Titanato di bario (BaTiO3) bersaglio sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-BaTiO3
Obiettivo di sputtering al fluoruro di lantanio (LaF3) / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Numero articolo : LM-LaF3
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