Il processo di sputtering nel SEM prevede l'applicazione di un rivestimento sottilissimo di metallo elettricamente conduttore su campioni non conduttori o scarsamente conduttori. Questa tecnica è fondamentale per prevenire la carica del campione dovuta all'accumulo di campi elettrici statici e per migliorare la rilevazione degli elettroni secondari, migliorando così il rapporto segnale/rumore nell'imaging al SEM.
Spiegazione dettagliata:
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Scopo del rivestimento sputter:
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Il rivestimento sputter viene utilizzato principalmente per preparare campioni non conduttivi per la microscopia elettronica a scansione (SEM). Nel SEM, il campione deve essere elettricamente conduttivo per consentire il flusso di elettroni senza causare cariche elettriche. I materiali non conduttivi, come i campioni biologici, le ceramiche o i polimeri, possono accumulare campi elettrici statici quando sono esposti al fascio di elettroni, distorcendo l'immagine e danneggiando il campione. Rivestendo questi campioni con un sottile strato di metallo (tipicamente oro, oro/palladio, platino, argento, cromo o iridio), la superficie diventa conduttiva, impedendo l'accumulo di cariche e garantendo un'immagine chiara e non distorta.Meccanismo dello sputtering:
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- Il processo di sputtering prevede il posizionamento del campione in una macchina sputtering, che è una camera sigillata. All'interno di questa camera, particelle energetiche (di solito ioni) vengono accelerate e dirette verso un materiale target (il metallo da depositare). L'impatto di queste particelle espelle gli atomi dalla superficie del bersaglio. Questi atomi espulsi attraversano la camera e si depositano sul campione, formando un film sottile. Questo metodo è particolarmente efficace per rivestire superfici complesse e tridimensionali, il che lo rende ideale per il SEM, dove i campioni possono avere geometrie intricate.Vantaggi del rivestimento sputter per il SEM:
- Prevenzione della carica: Rendendo la superficie conduttiva, il rivestimento sputter impedisce l'accumulo di cariche sul campione, che altrimenti interferirebbero con il fascio di elettroni e distorcerebbero l'immagine.
- Miglioramento del rapporto segnale/rumore: Il rivestimento metallico aumenta l'emissione di elettroni secondari dalla superficie del campione quando viene colpito dal fascio di elettroni. Questo aumento dell'emissione di elettroni secondari aumenta il rapporto segnale/rumore, migliorando la qualità e la chiarezza delle immagini SEM.
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Preservazione dell'integrità del campione: Lo sputtering è un processo a bassa temperatura, il che significa che può essere utilizzato su materiali sensibili al calore senza causare danni termici. Questo è particolarmente importante per i campioni biologici, che possono essere conservati nel loro stato naturale mentre vengono preparati per il SEM.
Specifiche tecniche:
