La deposizione fisica da vapore (PVD) è un metodo utilizzato per creare film sottili.
Consiste nel trasformare un materiale solido in un vapore.
Questo vapore viene poi trasportato in un'area a bassa pressione.
Infine, il vapore si condensa su un substrato per formare un film sottile.
Questo processo avviene solitamente in condizioni di vuoto.
5 punti chiave da conoscere sulla deposizione fisica da vapore (PVD)
1. Fasi del processo
Il processo prevede diverse fasi.
Innanzitutto, il materiale di partenza viene gassificato.
Successivamente, il vapore viene trasportato.
Infine, si condensa sul substrato.
2. Condizioni di vuoto
La PVD viene generalmente eseguita in condizioni di vuoto.
Ciò contribuisce a mantenere la purezza e la qualità del film sottile.
3. Ampio uso industriale
La PVD è utilizzata in diversi settori industriali.
Produce rivestimenti duri e resistenti alla corrosione.
Questi rivestimenti hanno un'elevata tolleranza alle temperature e una forte adesione.
4. Metodi PVD comuni
I metodi PVD più comuni sono lo sputtering e l'evaporazione.
Questi metodi differiscono dalla deposizione chimica da vapore (CVD).
La PVD coinvolge processi fisici piuttosto che chimici.
5. Rispetto dell'ambiente
La PVD è considerata ecologica.
Non comporta l'uso di sostanze chimiche pericolose.
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