L'ossido di indio-stagno (ITO) è un materiale ampiamente utilizzato in varie applicazioni high-tech grazie alla sua combinazione unica di conduttività e trasparenza. Tuttavia, presenta diversi svantaggi che spingono alla ricerca di alternative più sostenibili ed economiche.
Quali sono gli svantaggi dell'ITO? 4 sfide chiave spiegate
1. Limiti di costo e di fornitura
L'ITO è costoso soprattutto a causa dell'elevato costo dell'indio, un metallo raro.
La rarità dell'indio e la crescente domanda di ITO in applicazioni come touch screen, display e celle solari hanno sollevato preoccupazioni sulla sostenibilità del suo approvvigionamento.
Ciò ha portato alla ricerca di materiali alternativi in grado di offrire proprietà simili a costi inferiori.
2. Basso tasso di utilizzo dei target planari
Il tipo di target ITO più comunemente utilizzato nello sputtering è il target planare.
Tuttavia, questi target hanno un tasso di utilizzo relativamente basso, il che significa che una parte significativa del materiale del target viene sprecata durante il processo di sputtering.
Questa inefficienza non solo aumenta il costo dei film ITO, ma contribuisce anche allo spreco di materiale.
I produttori stanno studiando nuovi tipi di target di sputtering, come i target rotanti, per migliorare i tassi di utilizzo e ridurre gli sprechi.
3. Necessità di materiali alternativi
Date le sfide legate al costo e alla fornitura dell'ITO, cresce l'esigenza di trovare ossidi conduttori trasparenti (TCO) alternativi che possano eguagliare la conduttività e la trasparenza dell'ITO senza dipendere dall'indio.
Questa ricerca è fondamentale per la sostenibilità a lungo termine delle industrie che si affidano fortemente ai TCO, come i settori dell'elettronica e delle energie rinnovabili.
4. Sfide tecnologiche con i substrati
Sebbene l'ITO possa essere depositato a basse temperature, il che lo rende adatto a una varietà di substrati, ci sono ancora delle sfide quando si ha a che fare con substrati che hanno bassi punti di fusione o sono fatti di polimeri.
Per risolvere questi problemi e ampliare l'applicabilità dei film conduttivi trasparenti al di là dei substrati tradizionali, si stanno studiando nuove tecnologie di fabbricazione dei semiconduttori, come la deposizione in aerosol a temperatura ambiente.
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