Conoscenza Qual è lo spessore del rivestimento sputter dell'oro?
Avatar dell'autore

Squadra tecnologica · Kintek Solution

Aggiornato 1 settimana fa

Qual è lo spessore del rivestimento sputter dell'oro?

Lo spessore del rivestimento sputter dell'oro varia tipicamente da 2 a 20 nm per le applicazioni SEM. Questo rivestimento ultrasottile viene applicato a campioni non conduttori o scarsamente conduttori per prevenire la carica e migliorare il rapporto segnale/rumore aumentando l'emissione di elettroni secondari.

Spiegazione dettagliata:

  1. Scopo e applicazione:

  2. Il rivestimento in oro viene utilizzato principalmente nella microscopia elettronica a scansione (SEM) per rivestire campioni non conduttivi o scarsamente conduttivi. Questo rivestimento è essenziale perché impedisce l'accumulo di campi elettrici statici sul campione, che potrebbero altrimenti interferire con il processo di imaging. Inoltre, il rivestimento metallico aumenta l'emissione di elettroni secondari dalla superficie del campione, migliorando la visibilità e la chiarezza delle immagini acquisite dal SEM.Gamma di spessori:

    • I materiali di riferimento indicano che lo spessore tipico dei film d'oro sputtered per il SEM è compreso tra 2 e 20 nm. Questo intervallo è stato scelto per garantire che il rivestimento sia abbastanza sottile da non oscurare i dettagli del campione, ma abbastanza spesso da fornire un'adeguata conduttività elettrica e un'emissione di elettroni secondari.
    • Esempi e tecniche specifiche:
  3. In un esempio, un wafer da 6 pollici è stato rivestito con 3 nm di oro/palladio (Au/Pd) utilizzando uno Sputter Coater SC7640. Le impostazioni utilizzate erano 800 V e 12 mA con gas argon e un vuoto di 0,004 bar. Il rivestimento è risultato uniforme su tutto il wafer.Un altro esempio riguarda la deposizione di un film di platino di 2 nm su un film di Formvar rivestito di carbonio, sempre utilizzando lo Sputter Coater SC7640. Le impostazioni erano 800 V e 10 mA con gas argon e un vuoto di 0,004 bar.

  4. Dettagli tecnici e formule:

Lo spessore del rivestimento Au/Pd può essere calcolato con la formula:

[ Th = 7,5 I t ]

Prodotti correlati

oro di elevata purezza (Au) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo

oro di elevata purezza (Au) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo

Cercate materiali in oro (Au) di alta qualità da utilizzare in laboratorio? Non cercate oltre! Offriamo prezzi competitivi e siamo specializzati nella produzione e nella personalizzazione di materiali in oro (Au) di varie purezza, forme e dimensioni per soddisfare le vostre esigenze specifiche.

Lastre metalliche di elevata purezza - Oro / Platino / rame / ferro ecc...

Lastre metalliche di elevata purezza - Oro / Platino / rame / ferro ecc...

Elevate i vostri esperimenti con le nostre lamiere ad alta purezza. Oro, platino, rame, ferro e altro ancora. Perfetta per l'elettrochimica e altri campi.

Elettrodo a foglio d'oro

Elettrodo a foglio d'oro

Scoprite elettrodi in lamina d'oro di alta qualità per esperimenti elettrochimici sicuri e duraturi. Scegliete tra i modelli completi o personalizzateli per soddisfare le vostre esigenze specifiche.

Rivestimento diamantato CVD

Rivestimento diamantato CVD

Rivestimento diamantato CVD: Conducibilità termica, qualità dei cristalli e adesione superiori per utensili da taglio, attrito e applicazioni acustiche

Bersaglio di sputtering di cobalto (Co) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Bersaglio di sputtering di cobalto (Co) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Ottenete materiali di cobalto (Co) a prezzi accessibili per uso di laboratorio, su misura per le vostre esigenze specifiche. La nostra gamma comprende bersagli per sputtering, polveri, lamine e altro ancora. Contattateci oggi stesso per soluzioni personalizzate!

Bersaglio di sputtering in cobalto tellururo (CoTe) / polvere / filo / blocco / granulo

Bersaglio di sputtering in cobalto tellururo (CoTe) / polvere / filo / blocco / granulo

Procuratevi materiali in Tellururo di Cobalto di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio a prezzi ragionevoli. Offriamo forme, dimensioni e purezza personalizzate, compresi bersagli per sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora.

Obiettivo di sputtering in lega di rame e zirconio (CuZr) / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering in lega di rame e zirconio (CuZr) / polvere / filo / blocco / granulo

Scoprite la nostra gamma di materiali in lega di rame e zirconio a prezzi accessibili, su misura per le vostre esigenze specifiche. Sfogliate la nostra selezione di bersagli per sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora.

Rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni / doratura / crogiolo di tungsteno / crogiolo di molibdeno

Rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni / doratura / crogiolo di tungsteno / crogiolo di molibdeno

Questi crogioli fungono da contenitori per il materiale d'oro evaporato dal fascio di evaporazione elettronica, dirigendo al contempo il fascio di elettroni per una deposizione precisa.

Platino (Pt) di elevata purezza Target sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Platino (Pt) di elevata purezza Target sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Obiettivi, polveri, fili, blocchi e granuli di platino (Pt) di elevata purezza a prezzi accessibili. Su misura per le vostre esigenze specifiche, con diverse dimensioni e forme disponibili per varie applicazioni.

Obiettivo di sputtering d'argento (Ag) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering d'argento (Ag) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Cercate materiali d'argento (Ag) a prezzi accessibili per le vostre esigenze di laboratorio? I nostri esperti sono specializzati nella produzione di materiali di diversa purezza, forma e dimensione per soddisfare le vostre esigenze specifiche.

Obiettivo di sputtering in alluminio (Al) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering in alluminio (Al) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Procuratevi materiali in alluminio (Al) di alta qualità per uso di laboratorio a prezzi accessibili. Offriamo soluzioni personalizzate che comprendono target per sputtering, polveri, lamine, lingotti e altro ancora per soddisfare le vostre esigenze specifiche. Ordinate ora!

Obiettivo di sputtering di germanio (Ge) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering di germanio (Ge) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Ottenete materiali d'oro di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio a prezzi accessibili. I nostri materiali d'oro personalizzati sono disponibili in varie forme, dimensioni e purezza per soddisfare le vostre esigenze specifiche. Esplorate la nostra gamma di target per sputtering, materiali di rivestimento, lamine, polveri e altro ancora.

Obiettivo di sputtering di zinco (Zn) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering di zinco (Zn) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Trovate materiali di zinco (Zn) di alta qualità per uso di laboratorio a prezzi accessibili. I nostri esperti producono e personalizzano materiali di diversa purezza, forma e dimensione per soddisfare le vostre esigenze. Sfogliate la nostra gamma di bersagli per sputtering, materiali di rivestimento e altro ancora.

Attrezzatura per il rivestimento di nano-diamante HFCVD con stampo di trafilatura

Attrezzatura per il rivestimento di nano-diamante HFCVD con stampo di trafilatura

Lo stampo di trafilatura con rivestimento composito di nano-diamante utilizza il carburo cementato (WC-Co) come substrato e utilizza il metodo della fase di vapore chimico (in breve, il metodo CVD) per rivestire il diamante convenzionale e il rivestimento composito di nano-diamante sulla superficie del foro interno dello stampo.


Lascia il tuo messaggio