Prodotti Materiali e materiali di laboratorio Materiali di laboratorio Obiettivo di sputtering di zirconio (Zr) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Attiva/disattiva categorie
Obiettivo di sputtering di zirconio (Zr) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Materiali di laboratorio

Obiettivo di sputtering di zirconio (Zr) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Numero articolo : LM-ZR

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Formula chimica
Zr
Purezza
4N
Forma
dischi / filo / blocco / polvere / piastre / bersagli a colonna / bersaglio a gradini / su misura
ISO & CE icon

Spedizione:

Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.

Forniamo materiali di zirconio (Zr) di qualità da laboratorio a prezzi accessibili, su misura per le vostre esigenze specifiche. La nostra esperienza consiste nel produrre materiali di zirconio (Zr) di diversa purezza, forma e dimensione.

La nostra gamma di prodotti comprende bersagli per sputtering (circolari, quadrati, tubolari, irregolari), materiali di rivestimento, cilindri, coni, particelle, lamine, polveri, polveri per stampa 3D, polveri nanometriche, vergelle, lingotti, blocchi e altro ancora, disponibili in diverse specifiche e dimensioni.

Dettagli

Bersaglio sputtering di zirconio (Zr)
Bersaglio sputtering in zirconio (Zr)
Bersaglio sputtering di zirconio (Zr)
Bersaglio sputtering di zirconio (Zr)
Foglio di zirconio (Zr)
Foglio di zirconio (Zr)
Polvere di zirconio (Zr)
Polvere di zirconio (Zr)
Blocco di zirconio (Zr)
Blocco di zirconio (Zr)
Particelle di zirconio (Zr)
Particelle di zirconio (Zr)
Particelle di zirconio (Zr)
Particelle di zirconio (Zr)
Particelle di zirconio (Zr)
Particelle di zirconio (Zr)
Blocco di spugna di zirconio (Zr)
Blocco di spugna di zirconio (Zr)
Blocco di zirconio (Zr)
Blocco di zirconio (Zr)

Informazioni sullo zirconio (Zr)

Lo zirconio è un materiale ampiamente utilizzato nel campo della scienza dei materiali, sia come refrattario che come opacizzante. Quando viene riscaldato, lo zirconio subisce un processo di trasformazione di fase che produce zirconia stabilizzata, un prezioso materiale refrattario.

Oltre che come materiale refrattario, lo zirconio viene utilizzato anche come agente legante grazie alla sua forte resistenza alla corrosione. Lo zirconio è disponibile in una gamma di purezza che va dal 99% al 99,999% (da grado ACS a purezza ultraelevata) ed è disponibile in varie forme, tra cui pellet, bacchette, fili e granuli per il materiale di partenza dell'evaporazione.

Le nanoparticelle e le nanopolveri di zirconio offrono un'area superficiale ultraelevata e gli ossidi di zirconio sono disponibili in varie forme, come polvere e pellet densi, per l'utilizzo in applicazioni come il rivestimento ottico e i rivestimenti a film sottile. Tuttavia, gli ossidi tendono a essere insolubili e i fluoruri sono un'altra forma insolubile che può essere utilizzata in metallurgia, nella deposizione chimica e fisica da vapore e in alcuni rivestimenti ottici.

Sono disponibili anche forme solubili di zirconio, tra cui il cloruro, il nitrato e l'acetato di zirconio, che possono essere prodotte come soluzioni a stechiometrie specifiche.

Controllo qualità ingredienti

Analisi della composizione della materia prima
Attraverso l'utilizzo di apparecchiature quali ICP e GDMS, il contenuto di impurità metalliche viene rilevato e analizzato per garantire che soddisfi lo standard di purezza;

Le impurità non metalliche vengono rilevate da apparecchiature quali analizzatori di carbonio e zolfo, analizzatori di azoto e ossigeno.
Analisi di rilevamento difetti metallografici
Il materiale target viene ispezionato utilizzando apparecchiature di rilevamento dei difetti per garantire che non vi siano difetti o fori di ritiro all'interno del prodotto;

Attraverso i test metallografici, viene analizzata la struttura interna dei grani del materiale target per garantire che i grani siano fini e densi.
Controllo dell'aspetto e delle dimensioni
Le dimensioni del prodotto sono misurate utilizzando micrometri e calibri di precisione per garantire la conformità ai disegni;

La finitura superficiale e la pulizia del prodotto vengono misurate utilizzando un misuratore di pulizia della superficie.

Dimensioni target convenzionali dello sputtering

Processo di preparazione
pressatura isostatica a caldo, fusione sotto vuoto, ecc.
Forma bersaglio sputtering
sputtering piano bersaglio, bersaglio sputtering multi-arco, bersaglio sputtering a gradini, bersaglio sputtering a forma speciale
Dimensione target sputtering rotondo
Diametro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Spessore: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Le dimensioni possono essere personalizzate.
Dimensione target sputtering quadrato
50×50×3 mm / 100×100×4 mm / 300×300×5 mm, le dimensioni possono essere personalizzate

Forme metalliche disponibili

Dettagli forme metalliche

Produciamo quasi tutti i metalli elencati nella tavola periodica in un'ampia gamma di forme e purezze, nonché come misure e dimensioni standard. Possiamo anche produrre prodotti su misura per soddisfare le esigenze specifiche del cliente, come dimensioni, forma, superficie, composizione e altro. L'elenco seguente fornisce un esempio dei moduli che offriamo, ma non è esaustivo. Se hai bisogno di materiali di consumo per laboratorio, contattaci direttamente per richiedere un preventivo.

  • Forme piatte/planari: cartone, pellicola, lamina, microfoglio, microfoglio, carta, lastra, nastro, foglio, striscia, Nastro, Wafer
  • Forme preformate: Anodi, sfere, fasce, barre, barchette, bulloni, bricchette, catodi, cerchi, bobine, crogioli, cristalli, cubi, tazze, cilindri, dischi, elettrodi, fibre, filamenti , flange, griglie, lenti, mandrini, dadi, parti, prismi, dischi, anelli, aste, forme, scudi, manicotti, molle, quadrati, bersagli sputtering, bastoncini, tubi, rondelle, finestre, fili
  • Microdimensioni: Perle, Pezzetti, Capsule, Trucioli, Monete, Polvere, Scaglie, Grani, Granuli, Micropolvere, Aghi, Particelle, Ciottoli, Pellet, Spilli, Pillole, Polvere, Trucioli, Pallini, Lumache, Sfere, Compresse
  • < li>Macrodimensioni: Billette, Pezzi, Ritagli, Frammenti, Lingotti, Grumi, Nuggets, Pezzi, Tranciature, Rocce, Scarti, Segmenti, Torniture
  • Porosi e Semiporosi: Tessuto, Schiuma, Garza, Nido d'ape, Rete, spugna, lana
  • Nanoscala: nanoparticelle, nanopolveri, nanofogli, nanotubi, nanotubi, nanoprismi
  • Altro: concentrato, inchiostro, pasta, precipitato, residuo, campioni, campioni

KinTek è specializzata nella produzione di materiali di elevata e ultra-purezza con un intervallo di purezza del 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e in alcuni casi, fino al 99,99999% (7N). I nostri materiali sono disponibili in qualità specifiche, tra cui UP/UHP, semiconduttori, elettronica, deposizione, fibra ottica e MBE. I nostri metalli, ossidi e composti di elevata purezza sono realizzati appositamente per soddisfare le rigorose esigenze delle applicazioni ad alta tecnologia e sono ideali per l'uso come droganti e materiali precursori per la deposizione di film sottili, la crescita dei cristalli di semiconduttori e la sintesi di nanomateriali. Questi materiali trovano impiego nella microelettronica avanzata, nelle celle solari, nelle celle a combustibile, nei materiali ottici e in altre applicazioni all'avanguardia.

Imballaggio

Utilizziamo il vuoto imballaggio per i nostri materiali ad elevata purezza e ogni materiale ha un imballaggio specifico su misura per le sue caratteristiche uniche. Ad esempio, il nostro target sputter Hf è contrassegnato ed etichettato esternamente per facilitare l'identificazione e il controllo di qualità efficienti. Facciamo molta attenzione a prevenire eventuali danni che potrebbero verificarsi durante lo stoccaggio o il trasporto.

FAQ

Che cos'è un bersaglio sputtering?

Un bersaglio sputtering è un materiale utilizzato nel processo di deposizione sputtering, che prevede la frantumazione del materiale bersaglio in minuscole particelle che formano uno spray e rivestono un substrato, come un wafer di silicio. I target di sputtering sono in genere elementi metallici o leghe, anche se sono disponibili alcuni target in ceramica. Sono disponibili in una varietà di dimensioni e forme, con alcuni produttori che creano bersagli segmentati per le apparecchiature di sputtering più grandi. I bersagli sputtering hanno un'ampia gamma di applicazioni in campi quali la microelettronica, le celle solari a film sottile, l'optoelettronica e i rivestimenti decorativi, grazie alla loro capacità di depositare film sottili con elevata precisione e uniformità.

Come vengono prodotti i bersagli sputtering?

I target sputtering sono realizzati con una serie di processi produttivi che dipendono dalle proprietà del materiale del target e dalla sua applicazione. Questi includono la fusione e la laminazione sotto vuoto, la pressatura a caldo, il processo speciale di sinterizzazione, la pressatura a caldo sotto vuoto e i metodi di forgiatura. La maggior parte dei materiali dei target di sputtering può essere fabbricata in un'ampia gamma di forme e dimensioni; le forme circolari o rettangolari sono le più comuni. I target sono solitamente realizzati con elementi o leghe metalliche, ma possono essere utilizzati anche target ceramici. Sono disponibili anche bersagli sputtering composti, realizzati con una varietà di composti tra cui ossidi, nitruri, boruri, solfuri, seleniuri, tellururi, carburi, cristalli e miscele composite.

A cosa servono i target sputtering?

I bersagli sputtering sono utilizzati in un processo chiamato sputtering per depositare film sottili di un materiale su un substrato utilizzando ioni per bombardare il bersaglio. Questi bersagli hanno un'ampia gamma di applicazioni in vari campi, tra cui la microelettronica, le celle solari a film sottile, l'optoelettronica e i rivestimenti decorativi. Consentono la deposizione di film sottili di materiali su una varietà di substrati con elevata precisione e uniformità, rendendoli uno strumento ideale per la produzione di prodotti di precisione. I target sputtering sono disponibili in varie forme e dimensioni e possono essere specializzati per soddisfare i requisiti specifici dell'applicazione.

Cosa sono i target sputtering per l'elettronica?

I bersagli sputtering per l'elettronica sono dischi o fogli sottili di materiali come alluminio, rame e titanio che vengono utilizzati per depositare film sottili su wafer di silicio per creare dispositivi elettronici come transistor, diodi e circuiti integrati. Questi target sono utilizzati in un processo chiamato sputtering, in cui gli atomi del materiale target vengono fisicamente espulsi dalla superficie e depositati su un substrato bombardando il target con ioni. I target di sputtering per l'elettronica sono essenziali nella produzione di microelettronica e in genere richiedono un'elevata precisione e uniformità per garantire dispositivi di qualità.

Qual è la durata di un target di sputtering?

La durata di un bersaglio sputtering dipende da fattori quali la composizione del materiale, la purezza e l'applicazione specifica per cui viene utilizzato. In genere, i target possono durare da alcune centinaia a qualche migliaio di ore di sputtering, ma la durata può variare notevolmente a seconda delle condizioni specifiche di ogni ciclo. Anche una corretta manipolazione e manutenzione può prolungare la durata di un target. Inoltre, l'uso di bersagli sputtering rotanti può aumentare i tempi di esecuzione e ridurre l'insorgenza di difetti, rendendoli un'opzione più conveniente per i processi ad alto volume.
Visualizza altre domande frequenti per questo prodotto

4.9

out of

5

KINTEK's Zirconium materials are top-notch in quality. Our research team highly appreciates the purity and consistency of their products.

Dr. Karolina Jakubowska

4.7

out of

5

As a lab manager, I prioritize value for money. KINTEK's Zirconium products offer excellent performance at a competitive price.

Ms. Ayesha Sanusi

4.8

out of

5

KINTEK's Zirconium materials have been instrumental in our lab's groundbreaking research. Their high purity enables us to achieve accurate and reliable results.

Mr. Marko Vukovic

4.6

out of

5

The durability of KINTEK's Zirconium products is remarkable. We've been using them for years, and they continue to perform exceptionally.

Mrs. Hanako Kobayashi

4.9

out of

5

KINTEK's commitment to technological advancement is evident in their Zirconium materials. They are always pushing the boundaries of innovation.

Mr. Tomas Kovar

4.7

out of

5

Exceptional speed of delivery from KINTEK. We received our order of Zirconium materials within days, allowing us to proceed with our experiments promptly.

Ms. Olivia Dubois

4.8

out of

5

KINTEK's Zirconium materials have enabled us to produce high-quality coatings with precise control over thickness and uniformity.

Mr. Lucas Silva

4.6

out of

5

The purity of KINTEK's Zirconium materials is unmatched. Our research team has achieved remarkable results using their products.

Ms. Emma Andersson

4.9

out of

5

KINTEK's Zirconium materials are a game-changer for our lab. They have improved the accuracy and repeatability of our experiments significantly.

Mr. Nikolai Petrov

4.7

out of

5

KINTEK's Zirconium products are a cost-effective solution for our research needs. Their competitive pricing allows us to maximize our budget.

Ms. Maria Garcia

4.8

out of

5

The quality of KINTEK's Zirconium materials is impeccable. Our team has been consistently impressed with their performance.

Mr. Chen Li

4.6

out of

5

KINTEK's Zirconium materials have enabled us to explore new and exciting research avenues. Their products have been a valuable asset to our lab.

Ms. Sophie Meyer

4.9

out of

5

KINTEK's Zirconium materials are a testament to their commitment to excellence. We highly recommend their products to researchers seeking the highest quality.

Mr. Jakub Novak

4.7

out of

5

KINTEK's Zirconium materials have exceeded our expectations. Their exceptional purity and consistency have been instrumental in our successful experiments.

Ms. Isabella Rossi

4.8

out of

5

KINTEK's Zirconium materials have revolutionized our research. Their advanced properties have enabled us to achieve groundbreaking results.

Mr. Alexander Ivanov

4.6

out of

5

KINTEK's Zirconium materials are the gold standard in our lab. Their reliability and performance have been unmatched.

Ms. Laura Martinez

4.9

out of

5

KINTEK's Zirconium materials are a true game-changer. They have transformed our research capabilities and enabled us to push the boundaries of science.

Mr. Javier Fernandez

PDF - Obiettivo di sputtering di zirconio (Zr) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Scarica

Catalogo di Materiali Di Laboratorio

Scarica

Catalogo di Bersagli Di Sputtering

Scarica

RICHIEDI UN PREVENTIVO

Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!

Prodotti correlati

Obiettivo di sputtering di elevata purezza in ossido di zirconio (ZrO2) / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering di elevata purezza in ossido di zirconio (ZrO2) / polvere / filo / blocco / granulo

Ottenete materiali di ossido di zirconio (ZrO2) di alta qualità su misura per le vostre esigenze. Offriamo una varietà di forme e dimensioni, tra cui bersagli per sputtering, polveri e altro ancora, a prezzi accessibili.

Obiettivo di sputtering in lega di zirconio e argento (ZrAg) / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering in lega di zirconio e argento (ZrAg) / polvere / filo / blocco / granulo

Scoprite i materiali in lega di zirconio e argento (ZrAg) a prezzi accessibili per uso di laboratorio. Le nostre soluzioni su misura soddisfano le vostre esigenze specifiche con purezza, forme e dimensioni diverse. Trovate bersagli per sputtering, rivestimenti, particelle, polveri e altro ancora.

Obiettivo di sputtering di zinco (Zn) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering di zinco (Zn) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Trovate materiali di zinco (Zn) di alta qualità per uso di laboratorio a prezzi accessibili. I nostri esperti producono e personalizzano materiali di diversa purezza, forma e dimensione per soddisfare le vostre esigenze. Sfogliate la nostra gamma di bersagli per sputtering, materiali di rivestimento e altro ancora.

Obiettivo di sputtering in lega di zirconio e silicio (ZrSi) / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering in lega di zirconio e silicio (ZrSi) / polvere / filo / blocco / granulo

Scoprite i nostri materiali in lega di zirconio e silicio (ZrSi) per uso di laboratorio a prezzi accessibili. Produciamo materiali su misura per soddisfare le vostre esigenze specifiche, offrendo un'ampia gamma di specifiche e dimensioni per target di sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora.

Obiettivo di sputtering in lega di rame e zirconio (CuZr) / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering in lega di rame e zirconio (CuZr) / polvere / filo / blocco / granulo

Scoprite la nostra gamma di materiali in lega di rame e zirconio a prezzi accessibili, su misura per le vostre esigenze specifiche. Sfogliate la nostra selezione di bersagli per sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora.

Obiettivo di sputtering di elevata purezza in ossido di zinco (ZnO) / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering di elevata purezza in ossido di zinco (ZnO) / polvere / filo / blocco / granulo

Trovate materiali di ossido di zinco (ZnO) di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio a prezzi vantaggiosi. Il nostro team di esperti produce materiali su misura in varie purezza, forme e dimensioni, tra cui bersagli per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora. Acquista ora!

Target di sputtering di solfuro di zinco (ZnS) / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Target di sputtering di solfuro di zinco (ZnS) / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Ottenete materiali di solfuro di zinco (ZnS) a prezzi accessibili per le vostre esigenze di laboratorio. Produciamo e personalizziamo materiali ZnS di diversa purezza, forma e dimensione. Scegliete tra un'ampia gamma di target per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora.

Barretta di ceramica di zirconio - lavorazione di precisione dell'ittrio stabilizzato

Barretta di ceramica di zirconio - lavorazione di precisione dell'ittrio stabilizzato

Le barre di ceramica di zirconia sono preparate mediante pressatura isostatica e la formazione di uno strato ceramico uniforme, denso e liscio e di uno strato di transizione avviene ad alta temperatura e ad alta velocità.

Obiettivo di sputtering di afnio (Hf) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering di afnio (Hf) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Ottenete materiali di afnio (Hf) di alta qualità su misura per le vostre esigenze di laboratorio a prezzi ragionevoli. Trovate varie forme e dimensioni per bersagli di sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora. Ordinate ora.

Piastra in ceramica di zirconio - stabilizzata con ittrio lavorata con precisione

Piastra in ceramica di zirconio - stabilizzata con ittrio lavorata con precisione

La zirconia stabilizzata con ittrio ha le caratteristiche di elevata durezza e resistenza alle alte temperature ed è diventata un materiale importante nel campo dei refrattari e delle ceramiche speciali.

Guarnizione in ceramica di zirconio - isolante

Guarnizione in ceramica di zirconio - isolante

La guarnizione ceramica isolante in zirconio ha un elevato punto di fusione, un'alta resistività, un basso coefficiente di espansione termica e altre proprietà che la rendono un importante materiale resistente alle alte temperature, un materiale isolante in ceramica e un materiale di protezione solare in ceramica.

Tungsteno di elevata purezza (W) Sputtering Target / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Tungsteno di elevata purezza (W) Sputtering Target / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Trovate materiali di tungsteno (W) di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio a prezzi accessibili. Offriamo purezza, forme e dimensioni personalizzate di bersagli per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora.

Bersaglio di sputtering di seleniuro di zinco (ZnSe) / polvere / filo / blocco / granulo

Bersaglio di sputtering di seleniuro di zinco (ZnSe) / polvere / filo / blocco / granulo

Siete alla ricerca di materiali in seleniuro di zinco (ZnSe) per il vostro laboratorio? I nostri prezzi convenienti e le opzioni sapientemente personalizzate ci rendono la scelta perfetta. Esplorate oggi stesso la nostra ampia gamma di specifiche e dimensioni!

Sfera in ceramica di zirconio - Lavorazione di precisione

Sfera in ceramica di zirconio - Lavorazione di precisione

Le sfere in ceramica di zirconio hanno caratteristiche di elevata resistenza, elevata durezza, livello di usura PPM, elevata tenacità alla frattura, buona resistenza all'usura ed elevato peso specifico.

Obiettivo sputtering di cromo (Cr) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo sputtering di cromo (Cr) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Ottenete materiali al cromo a prezzi accessibili per le vostre esigenze di laboratorio. Produciamo forme e dimensioni personalizzate, tra cui bersagli per sputtering, lamine, polveri e altro ancora. Contattateci oggi stesso.

Allumina Zirconia Pezzi di forma speciale Elaborazione di piastre ceramiche su misura

Allumina Zirconia Pezzi di forma speciale Elaborazione di piastre ceramiche su misura

Le ceramiche di allumina hanno una buona conducibilità elettrica, resistenza meccanica e resistenza alle alte temperature, mentre le ceramiche di zirconio sono note per la loro elevata resistenza e tenacità e sono ampiamente utilizzate.

Articoli correlati

Le 5 principali caratteristiche di un forno di sinterizzazione di zirconio di alta qualità

Le 5 principali caratteristiche di un forno di sinterizzazione di zirconio di alta qualità

Investire in un forno di sinterizzazione di alta qualità è fondamentale per i laboratori odontotecnici che vogliono produrre restauri in zirconia di alta qualità in modo costante.

Scopri di più
Pressatura isostatica a freddo: Una panoramica e le sue applicazioni industriali

Pressatura isostatica a freddo: Una panoramica e le sue applicazioni industriali

La pressatura isostatica a freddo (CIP) è un metodo di lavorazione dei materiali che utilizza la pressione dei liquidi per compattare le polveri. È simile alla lavorazione degli stampi metallici e si basa sulla legge di Pascal.

Scopri di più
Panoramica completa dei materiali ceramici di zirconia

Panoramica completa dei materiali ceramici di zirconia

Un'esplorazione dettagliata delle ceramiche a base di zirconio, tra cui proprietà, storia, preparazione, stampaggio, sinterizzazione e applicazioni.

Scopri di più
Precauzioni per la preparazione di strati di film di zirconato di piombo (PZT) mediante sputtering con magnetronio

Precauzioni per la preparazione di strati di film di zirconato di piombo (PZT) mediante sputtering con magnetronio

Linee guida e precauzioni per la preparazione di strati di film PZT mediante sputtering magnetronico.

Scopri di più
Ricerca sulla ceramica zirconia nel restauro dentale

Ricerca sulla ceramica zirconia nel restauro dentale

Esplora le proprietà, la preparazione e i vantaggi della ceramica di zirconio nel restauro dentale.

Scopri di più
Obiettivi di sputtering PVD e pressatura isostatica a caldo: Parte 2

Obiettivi di sputtering PVD e pressatura isostatica a caldo: Parte 2

Questo articolo tratta la produzione e l'ottimizzazione dei target di sputtering PVD, concentrandosi su tecniche come la pressatura isostatica a caldo e il trattamento termico ad alta pressione.

Scopri di più
Comprendere e prevenire l'avvelenamento del target di sputtering con magnetrone

Comprendere e prevenire l'avvelenamento del target di sputtering con magnetrone

Discute il fenomeno dell'avvelenamento del bersaglio nello sputtering magnetronico, le cause, gli effetti e le misure preventive.

Scopri di più