Prodotti Materiali e materiali di laboratorio Materiali di laboratorio Obiettivo di sputtering in lega di rame e zirconio (CuZr) / polvere / filo / blocco / granulo
Attiva/disattiva categorie
Obiettivo di sputtering in lega di rame e zirconio (CuZr) / polvere / filo / blocco / granulo

Materiali di laboratorio

Obiettivo di sputtering in lega di rame e zirconio (CuZr) / polvere / filo / blocco / granulo

Numero articolo : LM-CuZr

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Formula chimica
CuZr
Purezza
2N5
Rapporto comunemente usato
Cu:Zr=1:1 at% / Cu:Zr=1:2 at%
Forma
dischi / filo / blocco / polvere / piastre / bersagli a colonna / bersaglio a gradini / su misura
ISO & CE icon

Spedizione:

Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.

A prezzi accessibili, offriamo materiali in lega di rame e zirconio (CuZr) per uso di laboratorio. La nostra specialità consiste nel produrre e personalizzare i materiali in lega di rame e zirconio (CuZr) in varie purezza, forme e dimensioni per soddisfare le vostre esigenze specifiche.

Offriamo una vasta gamma di specifiche e dimensioni per i target di sputtering (tra cui forme circolari, quadrate, tubolari e irregolari), materiali di rivestimento, cilindri, coni, particelle, lamine, polveri, polveri per la stampa 3D, polveri nanometriche, vergelle, lingotti e blocchi, tra gli altri.

Dettagli

Target di sputtering in lega di rame e zirconio (CuZr)
Target di sputtering in lega di rame e zirconio (CuZr)

Informazioni sulla lega di rame e zirconio (CuZr)

Il rame zirconio è un materiale versatile che può essere prodotto in varie forme, tra cui barre, lingotti, nastri, fili, pallini, fogli e lamine.

Per le applicazioni che richiedono forme ad altissima purezza, sono disponibili anche polveri metalliche, polveri submicroniche e materiali in scala nanometrica. Questi materiali sono ideali per i processi di deposizione di film sottili e possono essere utilizzati come target per applicazioni di deposizione di vapore chimico (CVD) e fisico (PVD).

Inoltre, sono disponibili anche pellet di rame-zirconio da utilizzare nei processi CVD e PVD, per offrire a ricercatori e scienziati dei materiali ancora più opzioni per personalizzare le applicazioni in base alle loro esigenze specifiche.

Controllo qualità ingredienti

Analisi della composizione della materia prima
Attraverso l'utilizzo di apparecchiature quali ICP e GDMS, il contenuto di impurità metalliche viene rilevato e analizzato per garantire che soddisfi lo standard di purezza;

Le impurità non metalliche vengono rilevate da apparecchiature quali analizzatori di carbonio e zolfo, analizzatori di azoto e ossigeno.
Analisi di rilevamento difetti metallografici
Il materiale target viene ispezionato utilizzando apparecchiature di rilevamento dei difetti per garantire che non vi siano difetti o fori di ritiro all'interno del prodotto;

Attraverso i test metallografici, viene analizzata la struttura interna dei grani del materiale target per garantire che i grani siano fini e densi.
Controllo dell'aspetto e delle dimensioni
Le dimensioni del prodotto sono misurate utilizzando micrometri e calibri di precisione per garantire la conformità ai disegni;

La finitura superficiale e la pulizia del prodotto vengono misurate utilizzando un misuratore di pulizia della superficie.

Dimensioni target convenzionali dello sputtering

Processo di preparazione
pressatura isostatica a caldo, fusione sotto vuoto, ecc.
Forma bersaglio sputtering
sputtering piano bersaglio, bersaglio sputtering multi-arco, bersaglio sputtering a gradini, bersaglio sputtering a forma speciale
Dimensione target sputtering rotondo
Diametro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Spessore: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Le dimensioni possono essere personalizzate.
Dimensione target sputtering quadrato
50×50×3 mm / 100×100×4 mm / 300×300×5 mm, le dimensioni possono essere personalizzate

Forme metalliche disponibili

Dettagli forme metalliche

Produciamo quasi tutti i metalli elencati nella tavola periodica in un'ampia gamma di forme e purezze, nonché come misure e dimensioni standard. Possiamo anche produrre prodotti su misura per soddisfare le esigenze specifiche del cliente, come dimensioni, forma, superficie, composizione e altro. L'elenco seguente fornisce un esempio dei moduli che offriamo, ma non è esaustivo. Se hai bisogno di materiali di consumo per laboratorio, contattaci direttamente per richiedere un preventivo.

  • Forme piatte/planari: cartone, pellicola, lamina, microfoglio, microfoglio, carta, lastra, nastro, foglio, striscia, Nastro, Wafer
  • Forme preformate: Anodi, sfere, fasce, barre, barchette, bulloni, bricchette, catodi, cerchi, bobine, crogioli, cristalli, cubi, tazze, cilindri, dischi, elettrodi, fibre, filamenti , flange, griglie, lenti, mandrini, dadi, parti, prismi, dischi, anelli, aste, forme, scudi, manicotti, molle, quadrati, bersagli sputtering, bastoncini, tubi, rondelle, finestre, fili
  • Microdimensioni: Perle, Pezzetti, Capsule, Trucioli, Monete, Polvere, Scaglie, Grani, Granuli, Micropolvere, Aghi, Particelle, Ciottoli, Pellet, Spilli, Pillole, Polvere, Trucioli, Pallini, Lumache, Sfere, Compresse
  • < li>Macrodimensioni: Billette, Pezzi, Ritagli, Frammenti, Lingotti, Grumi, Nuggets, Pezzi, Tranciature, Rocce, Scarti, Segmenti, Torniture
  • Porosi e Semiporosi: Tessuto, Schiuma, Garza, Nido d'ape, Rete, spugna, lana
  • Nanoscala: nanoparticelle, nanopolveri, nanofogli, nanotubi, nanotubi, nanoprismi
  • Altro: concentrato, inchiostro, pasta, precipitato, residuo, campioni, campioni

KinTek è specializzata nella produzione di materiali di elevata e ultra-purezza con un intervallo di purezza del 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e in alcuni casi, fino al 99,99999% (7N). I nostri materiali sono disponibili in qualità specifiche, tra cui UP/UHP, semiconduttori, elettronica, deposizione, fibra ottica e MBE. I nostri metalli, ossidi e composti di elevata purezza sono realizzati appositamente per soddisfare le rigorose esigenze delle applicazioni ad alta tecnologia e sono ideali per l'uso come droganti e materiali precursori per la deposizione di film sottili, la crescita dei cristalli di semiconduttori e la sintesi di nanomateriali. Questi materiali trovano impiego nella microelettronica avanzata, nelle celle solari, nelle celle a combustibile, nei materiali ottici e in altre applicazioni all'avanguardia.

Imballaggio

Utilizziamo il vuoto imballaggio per i nostri materiali ad elevata purezza e ogni materiale ha un imballaggio specifico su misura per le sue caratteristiche uniche. Ad esempio, il nostro target sputter Hf è contrassegnato ed etichettato esternamente per facilitare l'identificazione e il controllo di qualità efficienti. Facciamo molta attenzione a prevenire eventuali danni che potrebbero verificarsi durante lo stoccaggio o il trasporto.

FAQ

Che cos'è un bersaglio sputtering?

Un bersaglio sputtering è un materiale utilizzato nel processo di deposizione sputtering, che prevede la frantumazione del materiale bersaglio in minuscole particelle che formano uno spray e rivestono un substrato, come un wafer di silicio. I target di sputtering sono in genere elementi metallici o leghe, anche se sono disponibili alcuni target in ceramica. Sono disponibili in una varietà di dimensioni e forme, con alcuni produttori che creano bersagli segmentati per le apparecchiature di sputtering più grandi. I bersagli sputtering hanno un'ampia gamma di applicazioni in campi quali la microelettronica, le celle solari a film sottile, l'optoelettronica e i rivestimenti decorativi, grazie alla loro capacità di depositare film sottili con elevata precisione e uniformità.

Come vengono prodotti i bersagli sputtering?

I target sputtering sono realizzati con una serie di processi produttivi che dipendono dalle proprietà del materiale del target e dalla sua applicazione. Questi includono la fusione e la laminazione sotto vuoto, la pressatura a caldo, il processo speciale di sinterizzazione, la pressatura a caldo sotto vuoto e i metodi di forgiatura. La maggior parte dei materiali dei target di sputtering può essere fabbricata in un'ampia gamma di forme e dimensioni; le forme circolari o rettangolari sono le più comuni. I target sono solitamente realizzati con elementi o leghe metalliche, ma possono essere utilizzati anche target ceramici. Sono disponibili anche bersagli sputtering composti, realizzati con una varietà di composti tra cui ossidi, nitruri, boruri, solfuri, seleniuri, tellururi, carburi, cristalli e miscele composite.

A cosa servono i target sputtering?

I bersagli sputtering sono utilizzati in un processo chiamato sputtering per depositare film sottili di un materiale su un substrato utilizzando ioni per bombardare il bersaglio. Questi bersagli hanno un'ampia gamma di applicazioni in vari campi, tra cui la microelettronica, le celle solari a film sottile, l'optoelettronica e i rivestimenti decorativi. Consentono la deposizione di film sottili di materiali su una varietà di substrati con elevata precisione e uniformità, rendendoli uno strumento ideale per la produzione di prodotti di precisione. I target sputtering sono disponibili in varie forme e dimensioni e possono essere specializzati per soddisfare i requisiti specifici dell'applicazione.

Cosa sono i target sputtering per l'elettronica?

I bersagli sputtering per l'elettronica sono dischi o fogli sottili di materiali come alluminio, rame e titanio che vengono utilizzati per depositare film sottili su wafer di silicio per creare dispositivi elettronici come transistor, diodi e circuiti integrati. Questi target sono utilizzati in un processo chiamato sputtering, in cui gli atomi del materiale target vengono fisicamente espulsi dalla superficie e depositati su un substrato bombardando il target con ioni. I target di sputtering per l'elettronica sono essenziali nella produzione di microelettronica e in genere richiedono un'elevata precisione e uniformità per garantire dispositivi di qualità.

Qual è la durata di un target di sputtering?

La durata di un bersaglio sputtering dipende da fattori quali la composizione del materiale, la purezza e l'applicazione specifica per cui viene utilizzato. In genere, i target possono durare da alcune centinaia a qualche migliaio di ore di sputtering, ma la durata può variare notevolmente a seconda delle condizioni specifiche di ogni ciclo. Anche una corretta manipolazione e manutenzione può prolungare la durata di un target. Inoltre, l'uso di bersagli sputtering rotanti può aumentare i tempi di esecuzione e ridurre l'insorgenza di difetti, rendendoli un'opzione più conveniente per i processi ad alto volume.
Visualizza altre domande frequenti per questo prodotto

4.8

out of

5

Excellent quality and fast delivery. I highly recommend this product.

Alvaro Duarte

4.9

out of

5

The Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target is an excellent product. It is durable and produces high-quality results.

Caroline Moreau

4.7

out of

5

I am very satisfied with the Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target. It is a great value for money and has met all my expectations.

Hassan Patel

4.8

out of

5

The Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target is a top-notch product. It is easy to use and produces consistent results.

Maria Rodriguez

4.9

out of

5

I highly recommend the Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target. It is a reliable and efficient product.

Oliver Chen

4.7

out of

5

The Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target is a game-changer. It has significantly improved the quality of my work.

Sophia Ahmed

4.8

out of

5

I am very impressed with the Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target. It is a well-made product that is worth every penny.

Victor Kim

4.9

out of

5

The Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target is a must-have for any laboratory. It is a versatile and high-quality product.

Isabella Garcia

4.7

out of

5

I am extremely satisfied with the Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target. It is a durable and reliable product.

Lucas Brown

4.8

out of

5

The Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target is a great investment. It has saved me both time and money.

Mia Johnson

4.9

out of

5

The Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target is a top-notch product. I highly recommend it to anyone in the market for a sputtering target.

Noah Garcia

4.7

out of

5

I am very happy with the Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target. It is a well-made and durable product.

Olivia Patel

4.8

out of

5

The Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target is a great addition to my laboratory. It is a reliable and efficient product.

Sophia Ahmed

4.9

out of

5

I am very impressed with the Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target. It is a well-made product that is worth every penny.

Victor Kim

4.7

out of

5

I am extremely satisfied with the Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target. It is a durable and reliable product.

Isabella Garcia

4.8

out of

5

The Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target is a great investment. It has saved me both time and money.

Lucas Brown

4.9

out of

5

The Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target is a top-notch product. I highly recommend it to anyone in the market for a sputtering target.

Mia Johnson

4.7

out of

5

I am very happy with the Copper Zirconium Alloy (CuZr) Sputtering Target. It is a well-made and durable product.

Noah Garcia

PDF - Obiettivo di sputtering in lega di rame e zirconio (CuZr) / polvere / filo / blocco / granulo

Scarica

Catalogo di Materiali Di Laboratorio

Scarica

Catalogo di Bersagli Di Sputtering

Scarica

RICHIEDI UN PREVENTIVO

Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!

Prodotti correlati

Obiettivo di sputtering in lega di rame e nichel (CuNi) / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering in lega di rame e nichel (CuNi) / polvere / filo / blocco / granulo

Procuratevi materiali in lega rame-nichel (CuNi) di alta qualità a prezzi accessibili per le vostre esigenze di laboratorio. Le nostre offerte personalizzate includono bersagli per sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora. Ordinate ora!

Alluminio lega di rame (AlCu) Sputtering Target / polvere / filo / blocco / granulo

Alluminio lega di rame (AlCu) Sputtering Target / polvere / filo / blocco / granulo

Ottenete materiali in lega di alluminio e rame (AlCu) di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio a prezzi accessibili. Sono disponibili purezza, forme e dimensioni personalizzate. Acquistate bersagli per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora.

Obiettivo di sputtering in lega di zirconio e argento (ZrAg) / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering in lega di zirconio e argento (ZrAg) / polvere / filo / blocco / granulo

Scoprite i materiali in lega di zirconio e argento (ZrAg) a prezzi accessibili per uso di laboratorio. Le nostre soluzioni su misura soddisfano le vostre esigenze specifiche con purezza, forme e dimensioni diverse. Trovate bersagli per sputtering, rivestimenti, particelle, polveri e altro ancora.

Obiettivo di sputtering di zinco (Zn) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering di zinco (Zn) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Trovate materiali di zinco (Zn) di alta qualità per uso di laboratorio a prezzi accessibili. I nostri esperti producono e personalizzano materiali di diversa purezza, forma e dimensione per soddisfare le vostre esigenze. Sfogliate la nostra gamma di bersagli per sputtering, materiali di rivestimento e altro ancora.

Obiettivo di sputtering in lega di zirconio e silicio (ZrSi) / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering in lega di zirconio e silicio (ZrSi) / polvere / filo / blocco / granulo

Scoprite i nostri materiali in lega di zirconio e silicio (ZrSi) per uso di laboratorio a prezzi accessibili. Produciamo materiali su misura per soddisfare le vostre esigenze specifiche, offrendo un'ampia gamma di specifiche e dimensioni per target di sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora.

Obiettivo di sputtering di zirconio (Zr) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering di zirconio (Zr) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Cercate materiali in zirconio di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio? La nostra gamma di prodotti a prezzi accessibili comprende bersagli per sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora, su misura per le vostre esigenze specifiche. Contattateci oggi stesso!

Lega di rame-nichel-indio (CuNiIn) Obiettivo di sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Lega di rame-nichel-indio (CuNiIn) Obiettivo di sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Cercate materiali di rame, nichel e indio per il vostro laboratorio? I nostri prodotti a prezzi accessibili sono disponibili in diverse purezza, forme e dimensioni per soddisfare le vostre esigenze. Sfogliate i nostri target di sputtering, le polveri, le lamine e molto altro ancora!

Macchina di rivestimento PECVD con evaporazione potenziata da plasma

Macchina di rivestimento PECVD con evaporazione potenziata da plasma

Potenziate il vostro processo di rivestimento con le apparecchiature di rivestimento PECVD. Ideale per LED, semiconduttori di potenza, MEMS e altro ancora. Deposita film solidi di alta qualità a basse temperature.

Obiettivo di sputtering di elevata purezza in ossido di zirconio (ZrO2) / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering di elevata purezza in ossido di zirconio (ZrO2) / polvere / filo / blocco / granulo

Ottenete materiali di ossido di zirconio (ZrO2) di alta qualità su misura per le vostre esigenze. Offriamo una varietà di forme e dimensioni, tra cui bersagli per sputtering, polveri e altro ancora, a prezzi accessibili.

Rivestimento diamantato CVD

Rivestimento diamantato CVD

Rivestimento diamantato CVD: Conducibilità termica, qualità dei cristalli e adesione superiori per utensili da taglio, attrito e applicazioni acustiche

Target di sputtering di solfuro di zinco (ZnS) / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Target di sputtering di solfuro di zinco (ZnS) / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Ottenete materiali di solfuro di zinco (ZnS) a prezzi accessibili per le vostre esigenze di laboratorio. Produciamo e personalizziamo materiali ZnS di diversa purezza, forma e dimensione. Scegliete tra un'ampia gamma di target per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora.

Diamante CVD per la gestione termica

Diamante CVD per la gestione termica

Diamante CVD per la gestione termica: Diamante di alta qualità con conduttività termica fino a 2000 W/mK, ideale per diffusori di calore, diodi laser e applicazioni GaN on Diamond (GOD).

Fondo emisferico Barca per evaporazione di tungsteno/molibdeno

Fondo emisferico Barca per evaporazione di tungsteno/molibdeno

Utilizzato per la placcatura in oro, argento, platino, palladio, adatto per una piccola quantità di materiali a film sottile. Riduce lo spreco di materiali in pellicola e riduce la dissipazione di calore.

Obiettivo di sputtering in lega di nichel e cromo (CrNi) / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering in lega di nichel e cromo (CrNi) / polvere / filo / blocco / granulo

Cercate materiali in lega di nichel-cromo (CrNi) di alta qualità per il vostro laboratorio? Non cercate altro che le nostre opzioni, sapientemente realizzate e personalizzate. Esplorate la nostra vasta gamma di dimensioni e specifiche, tra cui bersagli sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora. Acquista ora!

Macchina CVD versatile con forno a tubo CVD, realizzata dal cliente

Macchina CVD versatile con forno a tubo CVD, realizzata dal cliente

Ottenete il vostro forno CVD esclusivo con KT-CTF16 Customer Made Versatile Furnace. Funzioni di scorrimento, rotazione e inclinazione personalizzabili per reazioni precise. Ordinate ora!

Foglio di zinco di elevata purezza

Foglio di zinco di elevata purezza

La composizione chimica della lamina di zinco presenta pochissime impurità nocive e la superficie del prodotto è diritta e liscia; ha buone proprietà globali, lavorabilità, colorabilità galvanica, resistenza all'ossidazione e alla corrosione, ecc.

Rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni Crogiolo di rame senza ossigeno

Rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni Crogiolo di rame senza ossigeno

Il crogiolo di rame senza ossigeno per il rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni consente una precisa co-deposizione di vari materiali. La temperatura controllata e il raffreddamento ad acqua garantiscono una deposizione di film sottili pura ed efficiente.

Obiettivo di sputtering di elevata purezza in ossido di zinco (ZnO) / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering di elevata purezza in ossido di zinco (ZnO) / polvere / filo / blocco / granulo

Trovate materiali di ossido di zinco (ZnO) di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio a prezzi vantaggiosi. Il nostro team di esperti produce materiali su misura in varie purezza, forme e dimensioni, tra cui bersagli per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora. Acquista ora!

Obiettivo di sputtering in lega di nichel e cromo (NiCr) / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Obiettivo di sputtering in lega di nichel e cromo (NiCr) / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Procuratevi materiali in lega di nichel-cromo (NiCr) di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio a prezzi convenienti. Scegliete tra un'ampia gamma di forme e dimensioni, tra cui bersagli per sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora. Su misura per soddisfare le vostre esigenze specifiche.

Set di barche per evaporazione in ceramica

Set di barche per evaporazione in ceramica

Può essere utilizzato per la deposizione di vapore di vari metalli e leghe. La maggior parte dei metalli può essere evaporata completamente senza perdite. I cestelli di evaporazione sono riutilizzabili.1

Barretta di ceramica di zirconio - lavorazione di precisione dell'ittrio stabilizzato

Barretta di ceramica di zirconio - lavorazione di precisione dell'ittrio stabilizzato

Le barre di ceramica di zirconia sono preparate mediante pressatura isostatica e la formazione di uno strato ceramico uniforme, denso e liscio e di uno strato di transizione avviene ad alta temperatura e ad alta velocità.

Barca di evaporazione in ceramica alluminata

Barca di evaporazione in ceramica alluminata

Vaso per la deposizione di film sottili; ha un corpo ceramico rivestito in alluminio per migliorare l'efficienza termica e la resistenza chimica, rendendolo adatto a varie applicazioni.

Obiettivo di sputtering di elevata purezza in ossido di zinco drogato con alluminio (AZO) / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering di elevata purezza in ossido di zinco drogato con alluminio (AZO) / polvere / filo / blocco / granulo

Cercate materiali AZO di alta qualità? I nostri prodotti da laboratorio a base di ossido di zinco drogato con alluminio sono fatti su misura per le vostre specifiche esatte, compresi i target di sputtering, le polveri e altro ancora. Ordinate ora.

Fascio di elettroni Evaporazione rivestimento crogiolo di tungsteno / crogiolo di molibdeno

Fascio di elettroni Evaporazione rivestimento crogiolo di tungsteno / crogiolo di molibdeno

I crogioli di tungsteno e molibdeno sono comunemente utilizzati nei processi di evaporazione a fascio di elettroni grazie alle loro eccellenti proprietà termiche e meccaniche.

Bersaglio di sputtering di seleniuro di zinco (ZnSe) / polvere / filo / blocco / granulo

Bersaglio di sputtering di seleniuro di zinco (ZnSe) / polvere / filo / blocco / granulo

Siete alla ricerca di materiali in seleniuro di zinco (ZnSe) per il vostro laboratorio? I nostri prezzi convenienti e le opzioni sapientemente personalizzate ci rendono la scelta perfetta. Esplorate oggi stesso la nostra ampia gamma di specifiche e dimensioni!

Crogiolo a fascio di elettroni

Crogiolo a fascio di elettroni

Nel contesto dell'evaporazione del fascio di elettroni, un crogiolo è un contenitore o porta-sorgente utilizzato per contenere ed evaporare il materiale da depositare su un substrato.

Diamante drogato con boro CVD

Diamante drogato con boro CVD

Diamante drogato con boro CVD: Un materiale versatile che consente di ottenere conducibilità elettrica, trasparenza ottica e proprietà termiche eccezionali per applicazioni in elettronica, ottica, rilevamento e tecnologie quantistiche.

Obiettivo di sputtering di vanadio (V) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering di vanadio (V) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Siete alla ricerca di materiali in vanadio (V) di alta qualità per il vostro laboratorio? Offriamo un'ampia gamma di opzioni personalizzabili per soddisfare le vostre esigenze specifiche, tra cui bersagli sputtering, polveri e altro ancora. Contattateci oggi stesso per ottenere prezzi competitivi.