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Obiettivo di sputtering di vanadio (V) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Materiali di laboratorio

Obiettivo di sputtering di vanadio (V) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Numero articolo : LM-V

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Formula chimica
V
Purezza
3N
Forma
dischi / filo / blocco / polvere / piastre / bersagli a colonna / bersaglio a gradini / su misura
ISO & CE icon

Spedizione:

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Forniamo materiali di vanadio (V) per uso di laboratorio a prezzi competitivi. La nostra specialità consiste nel produrre e personalizzare materiali di vanadio (V) di diversa purezza, forma e dimensione per soddisfare le vostre esigenze individuali.

La nostra offerta comprende una varietà di specifiche e dimensioni per bersagli sputtering (circolari, quadrati, tubolari, irregolari), materiali di rivestimento, cilindri, coni, particelle, lamine, polveri, polveri per la stampa 3D, polveri nanometriche, vergelle, lingotti e blocchi, tra gli altri.

Dettagli

Bersaglio sputtering di vanadio (V)
Bersaglio sputtering di vanadio (V)
Bersaglio sputtering di vanadio (V)
Bersaglio sputtering di vanadio (V)
Particelle di vanadio (V)
Particelle di vanadio (V)
Particelle di vanadio (V)
Particelle di vanadio (V)
Asta di vanadio (V)
Asta di vanadio (V)
Asta di vanadio (V)
Asta di vanadio (V)
Filo di vanadio (V)
Filo di vanadio (V)
Particelle dendritiche di vanadio (V)
Particelle dendritiche di vanadio (V)

Informazioni sul vanadio (V)

Il vanadio è un metallo altamente resistente alla corrosione, comunemente utilizzato come lega nell'acciaio inossidabile. I suoi composti sono utilizzati anche nelle ceramiche avanzate.

Il pentossido di vanadio, il composto più importante del vanadio, è un catalizzatore nella produzione di acido solforico. Il vanadio è disponibile in varie forme, tra cui metallo e composti, con una purezza che va dal grado ACS alla purezza ultraelevata (dal 99% al 99,999%).

Per i materiali di partenza dell'evaporazione, si utilizzano forme elementari o metalliche come pellet, barre, fili e granuli. Le nanoparticelle e le nanopolveri di vanadio offrono un'area superficiale elevatissima. Gli ossidi di vanadio sono disponibili in polvere e in pellet densi per l'uso in applicazioni di rivestimento ottico e film sottili, ma tendono a essere insolubili.

I fluoruri di vanadio insolubili sono utilizzati in metallurgia, nella deposizione chimica e fisica da vapore e in alcuni rivestimenti ottici. I composti solubili del vanadio, compresi i cloruri e gli acetati, possono essere prodotti come soluzioni a stechiometrie specifiche.

Controllo qualità ingredienti

Analisi della composizione della materia prima
Attraverso l'utilizzo di apparecchiature quali ICP e GDMS, il contenuto di impurità metalliche viene rilevato e analizzato per garantire che soddisfi lo standard di purezza;

Le impurità non metalliche vengono rilevate da apparecchiature quali analizzatori di carbonio e zolfo, analizzatori di azoto e ossigeno.
Analisi di rilevamento difetti metallografici
Il materiale target viene ispezionato utilizzando apparecchiature di rilevamento dei difetti per garantire che non vi siano difetti o fori di ritiro all'interno del prodotto;

Attraverso i test metallografici, viene analizzata la struttura interna dei grani del materiale target per garantire che i grani siano fini e densi.
Controllo dell'aspetto e delle dimensioni
Le dimensioni del prodotto sono misurate utilizzando micrometri e calibri di precisione per garantire la conformità ai disegni;

La finitura superficiale e la pulizia del prodotto vengono misurate utilizzando un misuratore di pulizia della superficie.

Dimensioni target convenzionali dello sputtering

Processo di preparazione
pressatura isostatica a caldo, fusione sotto vuoto, ecc.
Forma bersaglio sputtering
sputtering piano bersaglio, bersaglio sputtering multi-arco, bersaglio sputtering a gradini, bersaglio sputtering a forma speciale
Dimensione target sputtering rotondo
Diametro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Spessore: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Le dimensioni possono essere personalizzate.
Dimensione target sputtering quadrato
50×50×3 mm / 100×100×4 mm / 300×300×5 mm, le dimensioni possono essere personalizzate

Forme metalliche disponibili

Dettagli forme metalliche

Produciamo quasi tutti i metalli elencati nella tavola periodica in un'ampia gamma di forme e purezze, nonché come misure e dimensioni standard. Possiamo anche produrre prodotti su misura per soddisfare le esigenze specifiche del cliente, come dimensioni, forma, superficie, composizione e altro. L'elenco seguente fornisce un esempio dei moduli che offriamo, ma non è esaustivo. Se hai bisogno di materiali di consumo per laboratorio, contattaci direttamente per richiedere un preventivo.

  • Forme piatte/planari: cartone, pellicola, lamina, microfoglio, microfoglio, carta, lastra, nastro, foglio, striscia, Nastro, Wafer
  • Forme preformate: Anodi, sfere, fasce, barre, barchette, bulloni, bricchette, catodi, cerchi, bobine, crogioli, cristalli, cubi, tazze, cilindri, dischi, elettrodi, fibre, filamenti , flange, griglie, lenti, mandrini, dadi, parti, prismi, dischi, anelli, aste, forme, scudi, manicotti, molle, quadrati, bersagli sputtering, bastoncini, tubi, rondelle, finestre, fili
  • Microdimensioni: Perle, Pezzetti, Capsule, Trucioli, Monete, Polvere, Scaglie, Grani, Granuli, Micropolvere, Aghi, Particelle, Ciottoli, Pellet, Spilli, Pillole, Polvere, Trucioli, Pallini, Lumache, Sfere, Compresse
  • < li>Macrodimensioni: Billette, Pezzi, Ritagli, Frammenti, Lingotti, Grumi, Nuggets, Pezzi, Tranciature, Rocce, Scarti, Segmenti, Torniture
  • Porosi e Semiporosi: Tessuto, Schiuma, Garza, Nido d'ape, Rete, spugna, lana
  • Nanoscala: nanoparticelle, nanopolveri, nanofogli, nanotubi, nanotubi, nanoprismi
  • Altro: concentrato, inchiostro, pasta, precipitato, residuo, campioni, campioni

KinTek è specializzata nella produzione di materiali di elevata e ultra-purezza con un intervallo di purezza del 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e in alcuni casi, fino al 99,99999% (7N). I nostri materiali sono disponibili in qualità specifiche, tra cui UP/UHP, semiconduttori, elettronica, deposizione, fibra ottica e MBE. I nostri metalli, ossidi e composti di elevata purezza sono realizzati appositamente per soddisfare le rigorose esigenze delle applicazioni ad alta tecnologia e sono ideali per l'uso come droganti e materiali precursori per la deposizione di film sottili, la crescita dei cristalli di semiconduttori e la sintesi di nanomateriali. Questi materiali trovano impiego nella microelettronica avanzata, nelle celle solari, nelle celle a combustibile, nei materiali ottici e in altre applicazioni all'avanguardia.

Imballaggio

Utilizziamo il vuoto imballaggio per i nostri materiali ad elevata purezza e ogni materiale ha un imballaggio specifico su misura per le sue caratteristiche uniche. Ad esempio, il nostro target sputter Hf è contrassegnato ed etichettato esternamente per facilitare l'identificazione e il controllo di qualità efficienti. Facciamo molta attenzione a prevenire eventuali danni che potrebbero verificarsi durante lo stoccaggio o il trasporto.

Visualizza altre domande frequenti per questo prodotto

4.8

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5

Absolutely satisfied with the custom-made Vanadium sputtering target! It perfectly meets our research requirements, offering exceptional quality and purity.

Rosaura Ramsey

4.9

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5

The Vanadium powder exceeded our expectations. Its high purity and consistent particle size distribution have significantly improved our thin-film deposition process.

Chukwuemeka Udeh

4.7

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5

The Vanadium wire we received was of exceptional quality. The fast delivery and excellent customer service made the entire experience seamless.

Marta Gaspar

4.6

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5

The Vanadium block we purchased is precisely machined and meets our exact specifications. The material's purity ensures reliable results in our research.

Sergio da Silva

5.0

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5

The Vanadium granules we ordered were top-notch. Their consistent size and purity have significantly enhanced the performance of our sputtering system.

Ayşe Yılmaz

4.8

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5

The custom-shaped Vanadium target we received was flawlessly manufactured. Its unique design has enabled us to achieve unprecedented results in our thin-film deposition experiments.

Piotr Nowak

4.9

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5

The Vanadium coating material we purchased exhibited exceptional adhesion and uniformity. The results we obtained were remarkable.

Elena Ivanova

4.7

out of

5

The Vanadium cylinders we received were precisely machined and met our stringent specifications. Their high quality has contributed to the success of our research.

Klaus Schmidt

4.6

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5

The Vanadium cones we ordered were of exceptional quality. Their unique shape allowed for efficient material utilization and improved deposition uniformity.

María García

5.0

out of

5

The Vanadium particles we received were highly pure and exhibited a narrow particle size distribution. They have significantly improved the performance of our thin-film deposition process.

Giuseppe Rossi

4.8

out of

5

The Vanadium foils we purchased were of exceptional quality. Their thinness and uniformity have enabled us to achieve remarkable results in our research.

Élodie Dubois

4.9

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5

The Vanadium powders we ordered were of exceptional purity and fine particle size. They have significantly enhanced the performance of our sputtering system.

Ahmed Ali

4.7

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5

The Vanadium 3D printing powders we received were of exceptional quality. Their flowability and printability have enabled us to create complex structures with high precision.

Lihua Wang

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