Materiali di laboratorio
Obiettivo di sputtering di cadmio (Cd) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-CD
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Formula chimica
- Cd
- Purezza
- 4N-6N
- Forma
- dischi / filo / blocco / polvere / piastre / bersagli a colonna / bersaglio a gradini / su misura
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Richiedi il tuo preventivo ora! Lasciate un messaggio Ottieni un preventivo rapido Via Chatta in lineaOffriamo materiali di cadmio (Cd) a prezzi accessibili per uso di laboratorio e siamo specializzati nella produzione di materiali su misura di diversa purezza, forma e dimensione per soddisfare le vostre esigenze specifiche. La nostra selezione comprende bersagli per sputtering (circolari, quadrati, tubolari, irregolari), materiali di rivestimento, cilindri, coni, particelle, lamine, polveri, polveri per stampa 3D, polveri nanometriche, vergelle, lingotti e blocchi in varie specifiche e dimensioni.
Dettagli
Informazioni sul cadmio (Cd)
Il cadmio è un elemento versatile che trova applicazione in diversi settori. È un componente essenziale nella produzione di batterie, in alcuni pigmenti e rivestimenti ed è ampiamente utilizzato nella galvanotecnica. L'ossido di cadmio è utilizzato nei fosfori per i tubi delle immagini televisive.
Inoltre, il solfuro di cadmio (CdS) è un comune rivestimento superficiale fotoconduttivo per i tamburi delle fotocopiatrici. Il cadmio viene utilizzato anche nella polvere di ossido di cadmio (CdO) ad alta purezza (99,999%) per assorbire i neutroni nei reattori nucleari. Il cadmio è un ingrediente importante degli smalti per vetro e ceramica, che creano un caratteristico giallo cadmio.
Il cadmio è disponibile in varie forme e purezza, che vanno dal 99% al 99,999% (da grado ACS a purezza ultraelevata). Le forme elementari o metalliche del cadmio comprendono pellet, barre, fili e granuli che vengono utilizzati come materiali di partenza per l'evaporazione.
L'ossido di cadmio è disponibile in polvere e in pellet densi ed è utilizzato nei rivestimenti ottici e nelle applicazioni a film sottile. Tuttavia, gli ossidi tendono a essere insolubili. I fluoruri, un'altra forma insolubile di cadmio, sono utilizzati in metallurgia, nella deposizione chimica e fisica da vapore e in alcuni rivestimenti ottici.
Il cadmio è disponibile anche in forme solubili, come cloruri, nitrati e acetati, che possono essere prodotti come soluzioni a stechiometrie specifiche. Nel complesso, la versatilità e le proprietà uniche del cadmio lo rendono un elemento prezioso in diverse applicazioni industriali.
Inoltre, il bersaglio sputtering di cadmio (Cd) di elevata purezza (99,99999%) è un'altra forma disponibile di cadmio, utilizzata nelle applicazioni di sputtering.
Controllo qualità ingredienti
- Analisi della composizione della materia prima
- Attraverso l'utilizzo di apparecchiature quali ICP e GDMS, il contenuto di impurità metalliche viene rilevato e analizzato per garantire che soddisfi lo standard di purezza;
Le impurità non metalliche vengono rilevate da apparecchiature quali analizzatori di carbonio e zolfo, analizzatori di azoto e ossigeno. - Analisi di rilevamento difetti metallografici
- Il materiale target viene ispezionato utilizzando apparecchiature di rilevamento dei difetti per garantire che non vi siano difetti o fori di ritiro all'interno del prodotto;
Attraverso i test metallografici, viene analizzata la struttura interna dei grani del materiale target per garantire che i grani siano fini e densi. - Controllo dell'aspetto e delle dimensioni
- Le dimensioni del prodotto sono misurate utilizzando micrometri e calibri di precisione per garantire la conformità ai disegni;
La finitura superficiale e la pulizia del prodotto vengono misurate utilizzando un misuratore di pulizia della superficie.
Dimensioni target convenzionali dello sputtering
- Processo di preparazione
- pressatura isostatica a caldo, fusione sotto vuoto, ecc.
- Forma bersaglio sputtering
- sputtering piano bersaglio, bersaglio sputtering multi-arco, bersaglio sputtering a gradini, bersaglio sputtering a forma speciale
- Dimensione target sputtering rotondo
- Diametro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Spessore: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Le dimensioni possono essere personalizzate. - Dimensione target sputtering quadrato
- 50×50×3 mm / 100×100×4 mm / 300×300×5 mm, le dimensioni possono essere personalizzate
Forme metalliche disponibili
Dettagli forme metalliche
Produciamo quasi tutti i metalli elencati nella tavola periodica in un'ampia gamma di forme e purezze, nonché come misure e dimensioni standard. Possiamo anche produrre prodotti su misura per soddisfare le esigenze specifiche del cliente, come dimensioni, forma, superficie, composizione e altro. L'elenco seguente fornisce un esempio dei moduli che offriamo, ma non è esaustivo. Se hai bisogno di materiali di consumo per laboratorio, contattaci direttamente per richiedere un preventivo.
- Forme piatte/planari: cartone, pellicola, lamina, microfoglio, microfoglio, carta, lastra, nastro, foglio, striscia, Nastro, Wafer
- Forme preformate: Anodi, sfere, fasce, barre, barchette, bulloni, bricchette, catodi, cerchi, bobine, crogioli, cristalli, cubi, tazze, cilindri, dischi, elettrodi, fibre, filamenti , flange, griglie, lenti, mandrini, dadi, parti, prismi, dischi, anelli, aste, forme, scudi, manicotti, molle, quadrati, bersagli sputtering, bastoncini, tubi, rondelle, finestre, fili
- Microdimensioni: Perle, Pezzetti, Capsule, Trucioli, Monete, Polvere, Scaglie, Grani, Granuli, Micropolvere, Aghi, Particelle, Ciottoli, Pellet, Spilli, Pillole, Polvere, Trucioli, Pallini, Lumache, Sfere, Compresse < li>Macrodimensioni: Billette, Pezzi, Ritagli, Frammenti, Lingotti, Grumi, Nuggets, Pezzi, Tranciature, Rocce, Scarti, Segmenti, Torniture
- Porosi e Semiporosi: Tessuto, Schiuma, Garza, Nido d'ape, Rete, spugna, lana
- Nanoscala: nanoparticelle, nanopolveri, nanofogli, nanotubi, nanotubi, nanoprismi
- Altro: concentrato, inchiostro, pasta, precipitato, residuo, campioni, campioni
KinTek è specializzata nella produzione di materiali di elevata e ultra-purezza con un intervallo di purezza del 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e in alcuni casi, fino al 99,99999% (7N). I nostri materiali sono disponibili in qualità specifiche, tra cui UP/UHP, semiconduttori, elettronica, deposizione, fibra ottica e MBE. I nostri metalli, ossidi e composti di elevata purezza sono realizzati appositamente per soddisfare le rigorose esigenze delle applicazioni ad alta tecnologia e sono ideali per l'uso come droganti e materiali precursori per la deposizione di film sottili, la crescita dei cristalli di semiconduttori e la sintesi di nanomateriali. Questi materiali trovano impiego nella microelettronica avanzata, nelle celle solari, nelle celle a combustibile, nei materiali ottici e in altre applicazioni all'avanguardia.
Imballaggio
Utilizziamo il vuoto imballaggio per i nostri materiali ad elevata purezza e ogni materiale ha un imballaggio specifico su misura per le sue caratteristiche uniche. Ad esempio, il nostro target sputter Hf è contrassegnato ed etichettato esternamente per facilitare l'identificazione e il controllo di qualità efficienti. Facciamo molta attenzione a prevenire eventuali danni che potrebbero verificarsi durante lo stoccaggio o il trasporto.
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