Materiali di laboratorio
Obiettivo di sputtering di afnio (Hf) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-HF
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Formula chimica
- Hf
- Purezza
- 2N5-3N5
- Forma
- dischi / filo / blocco / polvere / piastre / obiettivi a colonna / obiettivo a gradini / su misura
Spedizione:
Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.
Richiedi il tuo preventivo personalizzato 👋
Richiedi il tuo preventivo ora! Lasciate un messaggio Ottieni un preventivo rapido Via Chatta in lineaOffriamo materiali di afnio (Hf) per uso di laboratorio a prezzi competitivi. La nostra esperienza consiste nel produrre e personalizzare i materiali di afnio (Hf) per soddisfare le vostre esigenze specifiche, comprese le varie purezza, forme e dimensioni.
Forniamo una vasta gamma di specifiche e dimensioni per bersagli sputtering (circolari, quadrati, tubolari, irregolari), materiali di rivestimento, cilindri, coni, particelle, lamine, polveri, polveri per stampa 3D, polveri nanometriche, vergelle, lingotti, blocchi e altro ancora.
Dettagli
Informazioni sull'afnio (Hf)
L'afnio è un elemento relativamente raro con usi tecnici limitati. La sua applicazione più comune è quella di barra di controllo nucleare, grazie alla sua capacità di assorbire neutroni. L'afnio è utilizzato anche nella produzione di varie leghe, tra cui ferro, titanio, niobio e tantalio.
Le leghe a base di afnio stanno sostituendo il polisilicio come principale materiale di gate nei transistor a effetto di campo a semiconduttore metallico (MOSFET). Questa sostituzione ha permesso lo sviluppo di gate MOSFET più piccoli di 10 angstrom. La ricerca recente si è concentrata sullo sviluppo di materiali ad alto coefficiente k che possono funzionare come barriera dielettrica o gate con una minore perdita.
L'afnio è disponibile in varie forme, tra cui metallo e composti, con diversi livelli di purezza che vanno dal grado ACS alla purezza ultraelevata. Le forme elementari o metalliche dell'afnio comprendono pellet, barre, fili e granuli per il materiale di partenza dell'evaporazione. I nanomateriali di afnio offrono un'area superficiale ultraelevata per la ricerca sulle nanotecnologie.
L'ossido di afnio è disponibile in polvere e in pellet densi per vari usi, come il rivestimento ottico e le applicazioni a film sottile. L'afnio è disponibile anche in forme solubili, come cloruro, nitrato e acetato, e insolubili, come i fluoruri. Questi composti possono essere prodotti come soluzioni a stechiometrie specifiche.
Controllo qualità ingredienti
- Analisi della composizione della materia prima
- Attraverso l'utilizzo di apparecchiature quali ICP e GDMS, il contenuto di impurità metalliche viene rilevato e analizzato per garantire che soddisfi lo standard di purezza;
Le impurità non metalliche vengono rilevate da apparecchiature quali analizzatori di carbonio e zolfo, analizzatori di azoto e ossigeno. - Analisi di rilevamento difetti metallografici
- Il materiale target viene ispezionato utilizzando apparecchiature di rilevamento dei difetti per garantire che non vi siano difetti o fori di ritiro all'interno del prodotto;
Attraverso i test metallografici, viene analizzata la struttura interna dei grani del materiale target per garantire che i grani siano fini e densi. - Controllo dell'aspetto e delle dimensioni
- Le dimensioni del prodotto sono misurate utilizzando micrometri e calibri di precisione per garantire la conformità ai disegni;
La finitura superficiale e la pulizia del prodotto vengono misurate utilizzando un misuratore di pulizia della superficie.
Dimensioni target convenzionali dello sputtering
- Processo di preparazione
- pressatura isostatica a caldo, fusione sotto vuoto, ecc.
- Forma bersaglio sputtering
- sputtering piano bersaglio, bersaglio sputtering multi-arco, bersaglio sputtering a gradini, bersaglio sputtering a forma speciale
- Dimensione target sputtering rotondo
- Diametro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Spessore: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Le dimensioni possono essere personalizzate. - Dimensione target sputtering quadrato
- 50×50×3 mm / 100×100×4 mm / 300×300×5 mm, le dimensioni possono essere personalizzate
Forme metalliche disponibili
Dettagli forme metalliche
Produciamo quasi tutti i metalli elencati nella tavola periodica in un'ampia gamma di forme e purezze, nonché come misure e dimensioni standard. Possiamo anche produrre prodotti su misura per soddisfare le esigenze specifiche del cliente, come dimensioni, forma, superficie, composizione e altro. L'elenco seguente fornisce un esempio dei moduli che offriamo, ma non è esaustivo. Se hai bisogno di materiali di consumo per laboratorio, contattaci direttamente per richiedere un preventivo.
- Forme piatte/planari: cartone, pellicola, lamina, microfoglio, microfoglio, carta, lastra, nastro, foglio, striscia, Nastro, Wafer
- Forme preformate: Anodi, sfere, fasce, barre, barchette, bulloni, bricchette, catodi, cerchi, bobine, crogioli, cristalli, cubi, tazze, cilindri, dischi, elettrodi, fibre, filamenti , flange, griglie, lenti, mandrini, dadi, parti, prismi, dischi, anelli, aste, forme, scudi, manicotti, molle, quadrati, bersagli sputtering, bastoncini, tubi, rondelle, finestre, fili
- Microdimensioni: Perle, Pezzetti, Capsule, Trucioli, Monete, Polvere, Scaglie, Grani, Granuli, Micropolvere, Aghi, Particelle, Ciottoli, Pellet, Spilli, Pillole, Polvere, Trucioli, Pallini, Lumache, Sfere, Compresse < li>Macrodimensioni: Billette, Pezzi, Ritagli, Frammenti, Lingotti, Grumi, Nuggets, Pezzi, Tranciature, Rocce, Scarti, Segmenti, Torniture
- Porosi e Semiporosi: Tessuto, Schiuma, Garza, Nido d'ape, Rete, spugna, lana
- Nanoscala: nanoparticelle, nanopolveri, nanofogli, nanotubi, nanotubi, nanoprismi
- Altro: concentrato, inchiostro, pasta, precipitato, residuo, campioni, campioni
KinTek è specializzata nella produzione di materiali di elevata e ultra-purezza con un intervallo di purezza del 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e in alcuni casi, fino al 99,99999% (7N). I nostri materiali sono disponibili in qualità specifiche, tra cui UP/UHP, semiconduttori, elettronica, deposizione, fibra ottica e MBE. I nostri metalli, ossidi e composti di elevata purezza sono realizzati appositamente per soddisfare le rigorose esigenze delle applicazioni ad alta tecnologia e sono ideali per l'uso come droganti e materiali precursori per la deposizione di film sottili, la crescita dei cristalli di semiconduttori e la sintesi di nanomateriali. Questi materiali trovano impiego nella microelettronica avanzata, nelle celle solari, nelle celle a combustibile, nei materiali ottici e in altre applicazioni all'avanguardia.
Imballaggio
Utilizziamo il vuoto imballaggio per i nostri materiali ad elevata purezza e ogni materiale ha un imballaggio specifico su misura per le sue caratteristiche uniche. Ad esempio, il nostro target sputter Hf è contrassegnato ed etichettato esternamente per facilitare l'identificazione e il controllo di qualità efficienti. Facciamo molta attenzione a prevenire eventuali danni che potrebbero verificarsi durante lo stoccaggio o il trasporto.
FAQ
Cosa sono i materiali ad alta purezza?
Cosa sono i metalli ad alta purezza?
A cosa servono i metalli ad alta purezza?
Quali sono i vantaggi dell'utilizzo di metalli di elevata purezza?
Quali industrie utilizzano comunemente i metalli di elevata purezza?
4.9
out of
5
Absolutely satisfied with the quality of Hafnium Sputtering Target from KINTEK SOLUTION. The purity level is exceptional and meets our research requirements precisely.
4.7
out of
5
KINTEK's Hafnium Powder has been a game-changer for our lab's nanotechnology research. Its ultra-high surface area has opened up new possibilities for our experiments.
4.8
out of
5
The Hafnium Wire from KINTEK SOLUTION arrived promptly and exceeded our expectations. Its consistent quality has ensured reliable results in our thin-film deposition processes.
4.6
out of
5
KINTEK SOLUTION's Hafnium Block has proven to be an excellent choice for our sputtering applications. Its high density and purity have contributed to the success of our research.
4.8
out of
5
We have been thoroughly impressed with the Hafnium Granules from KINTEK SOLUTION. Their uniform size and purity have enabled us to achieve consistent and precise results in our experiments.
4.9
out of
5
KINTEK SOLUTION's Hafnium Sputtering Target has been an outstanding addition to our laboratory. Its durability has ensured long-lasting performance, saving us both time and resources.
4.7
out of
5
The Hafnium Powder from KINTEK SOLUTION has been instrumental in our groundbreaking research. Its exceptional purity and fine particle size have allowed us to explore new frontiers in materials science.
4.8
out of
5
We highly recommend the Hafnium Wire from KINTEK SOLUTION. Its consistent quality and ease of handling have made it an indispensable tool in our laboratory.
4.6
out of
5
KINTEK SOLUTION's Hafnium Block is an excellent choice for high-temperature applications. Its exceptional thermal conductivity has enabled us to achieve outstanding results in our research.
4.8
out of
5
The Hafnium Granules from KINTEK SOLUTION have been a valuable asset to our laboratory. Their uniform size and purity have contributed to the accuracy and reliability of our experiments.
RICHIEDI UN PREVENTIVO
Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!
Prodotti correlati
Carburo di afnio (HfC) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Scoprite i nostri materiali di alta qualità a base di carburo di afnio (HfC), realizzati su misura per soddisfare le vostre esigenze di laboratorio. Offriamo varie dimensioni e specifiche di bersagli per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora. Prezzi ragionevoli e servizio eccellente. Ordinate ora.
Ottenete materiali di ossido di afnio (HfO2) di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio a prezzi accessibili. I nostri prodotti personalizzati sono disponibili in varie dimensioni e forme, tra cui bersagli sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora.
Tungsteno di elevata purezza (W) Sputtering Target / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Trovate materiali di tungsteno (W) di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio a prezzi accessibili. Offriamo purezza, forme e dimensioni personalizzate di bersagli per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora.
Obiettivo di sputtering di zirconio (Zr) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Cercate materiali in zirconio di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio? La nostra gamma di prodotti a prezzi accessibili comprende bersagli per sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora, su misura per le vostre esigenze specifiche. Contattateci oggi stesso!
Obiettivo di sputtering di zinco (Zn) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Trovate materiali di zinco (Zn) di alta qualità per uso di laboratorio a prezzi accessibili. I nostri esperti producono e personalizzano materiali di diversa purezza, forma e dimensione per soddisfare le vostre esigenze. Sfogliate la nostra gamma di bersagli per sputtering, materiali di rivestimento e altro ancora.
Distanziatore in nitruro di boro esagonale (HBN) - Profilo della camma e vari tipi di distanziatore
Le guarnizioni in nitruro di boro esagonale (HBN) sono prodotte da grezzi di nitruro di boro pressati a caldo. Proprietà meccaniche simili alla grafite, ma con un'eccellente resistenza elettrica.
Bersaglio di sputtering di alta purezza del niobio (Nb) / polvere / filo / blocco / granulo
Cercate materiali di niobio personalizzati per uso di laboratorio? I nostri esperti offrono soluzioni su misura con purezza, forme e dimensioni diverse a prezzi ragionevoli. Scoprite la nostra ampia gamma di prodotti in niobio.
Obiettivo di sputtering di tantalio (Ta) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Scoprite i nostri materiali di tantalio (Ta) di alta qualità per uso di laboratorio a prezzi accessibili. Ci adattiamo alle vostre esigenze specifiche con varie forme, dimensioni e purezza. Esplorate la nostra gamma di target per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora.
Anello ceramico in nitruro di boro esagonale (HBN)
Gli anelli in ceramica di nitruro di boro (BN) sono comunemente utilizzati in applicazioni ad alta temperatura, come le attrezzature per forni, gli scambiatori di calore e la lavorazione dei semiconduttori.
Bersaglio di sputtering di titanio (Ti) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Acquistate materiali in titanio (Ti) di alta qualità a prezzi ragionevoli per uso di laboratorio. Trovate un'ampia gamma di prodotti su misura per soddisfare le vostre esigenze specifiche, tra cui bersagli per sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora.
Nitruro di boro (BN) Ceramica-Composito conduttivo
Grazie alle caratteristiche del nitruro di boro stesso, la costante dielettrica e la perdita dielettrica sono molto ridotte, quindi è un materiale isolante elettrico ideale.
Parti in ceramica di nitruro di boro (BN)
Il nitruro di boro (BN) è un composto con un alto punto di fusione, un'elevata durezza, un'alta conducibilità termica e un'alta resistività elettrica. La sua struttura cristallina è simile al grafene e più dura del diamante.
Obiettivo di sputtering in alluminio (Al) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Procuratevi materiali in alluminio (Al) di alta qualità per uso di laboratorio a prezzi accessibili. Offriamo soluzioni personalizzate che comprendono target per sputtering, polveri, lamine, lingotti e altro ancora per soddisfare le vostre esigenze specifiche. Ordinate ora!
Obiettivo di sputtering di germanio (Ge) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Ottenete materiali d'oro di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio a prezzi accessibili. I nostri materiali d'oro personalizzati sono disponibili in varie forme, dimensioni e purezza per soddisfare le vostre esigenze specifiche. Esplorate la nostra gamma di target per sputtering, materiali di rivestimento, lamine, polveri e altro ancora.
Asta in ceramica di nitruro di boro (BN)
L'asta di nitruro di boro (BN) è la forma cristallina di nitruro di boro più resistente come la grafite, che presenta eccellenti proprietà di isolamento elettrico, stabilità chimica e dielettriche.
Bersaglio di sputtering di piombo (Pb) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Cercate materiali al piombo (Pb) di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio? Non cercate oltre la nostra selezione specializzata di opzioni personalizzabili, tra cui target di sputtering, materiali di rivestimento e altro ancora. Contattateci oggi stesso per ottenere prezzi competitivi!
Nitruro di silicio (SiNi) Foglio ceramico Lavorazione di precisione in ceramica
La lastra di nitruro di silicio è un materiale ceramico comunemente utilizzato nell'industria metallurgica grazie alle sue prestazioni uniformi alle alte temperature.
Bersaglio di sputtering di nitruro di alluminio (AlN) / polvere / filo / blocco / granulo
Materiali di nitruro di alluminio (AlN) di alta qualità in varie forme e dimensioni per uso di laboratorio a prezzi accessibili. Esplorate la nostra gamma di target per sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora. Sono disponibili soluzioni personalizzate.
Bersaglio sputtering di rodio (Rh) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Ottenete materiali di rodio di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio a prezzi vantaggiosi. Il nostro team di esperti produce e personalizza rodio di varie purezza, forme e dimensioni per soddisfare le vostre esigenze specifiche. Scegliete tra un'ampia gamma di prodotti, tra cui bersagli per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora.
Piastra ceramica in nitruro di boro (BN)
Le piastre ceramiche al nitruro di boro (BN) non utilizzano l'acqua di alluminio per bagnare, e possono fornire una protezione completa per la superficie dei materiali che entrano direttamente in contatto con alluminio fuso, magnesio, leghe di zinco e relative scorie.
Tubo ceramico in nitruro di boro (BN)
Il nitruro di boro (BN) è noto per la sua elevata stabilità termica, le eccellenti proprietà di isolamento elettrico e le proprietà lubrificanti.
Articoli correlati
Pressatura isostatica a freddo vs. pressatura isostatica a caldo: qual è la soluzione migliore?
La pressatura isostatica è un processo utilizzato nella produzione di materiali e componenti ad alte prestazioni. Consiste nell'applicare una pressione uniforme su tutti i lati di un materiale o di un pezzo, ottenendo una densità più uniforme e proprietà meccaniche migliori.
Obiettivi di sputtering PVD e pressatura isostatica a caldo: Parte 2
Questo articolo tratta la produzione e l'ottimizzazione dei target di sputtering PVD, concentrandosi su tecniche come la pressatura isostatica a caldo e il trattamento termico ad alta pressione.
Obiettivi di sputtering PVD e pressatura isostatica a caldo: Parte 1
Esplora l'uso della pressatura isostatica a caldo per la produzione di target di sputtering di alta qualità e le applicazioni della tecnologia di sputtering PVD.
Pressatura isostatica a caldo: Una tecnologia versatile per la lavorazione avanzata dei materiali
Esplora le origini, i principi e le applicazioni della pressatura isostatica a caldo in vari campi dei materiali.