Materiali di laboratorio
Obiettivo di sputtering di afnio (Hf) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-HF
Il prezzo varia in base a specs and customizations
- Formula chimica
- Hf
- Purezza
- 2N5-3N5
- Forma
- dischi / filo / blocco / polvere / piastre / obiettivi a colonna / obiettivo a gradini / su misura
Spedizione:
Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento On-time Dispatch Guarantee.
Richiedi il tuo preventivo personalizzato 👋
Richiedi il tuo preventivo ora! Leave a Message Ottieni un preventivo rapido Via WhatsappOffriamo materiali di afnio (Hf) per uso di laboratorio a prezzi competitivi. La nostra esperienza consiste nel produrre e personalizzare i materiali di afnio (Hf) per soddisfare le vostre esigenze specifiche, comprese le varie purezza, forme e dimensioni.
Forniamo una vasta gamma di specifiche e dimensioni per bersagli sputtering (circolari, quadrati, tubolari, irregolari), materiali di rivestimento, cilindri, coni, particelle, lamine, polveri, polveri per stampa 3D, polveri nanometriche, vergelle, lingotti, blocchi e altro ancora.
Dettagli
Informazioni sull'afnio (Hf)
L'afnio è un elemento relativamente raro con usi tecnici limitati. La sua applicazione più comune è quella di barra di controllo nucleare, grazie alla sua capacità di assorbire neutroni. L'afnio è utilizzato anche nella produzione di varie leghe, tra cui ferro, titanio, niobio e tantalio.
Le leghe a base di afnio stanno sostituendo il polisilicio come principale materiale di gate nei transistor a effetto di campo a semiconduttore metallico (MOSFET). Questa sostituzione ha permesso lo sviluppo di gate MOSFET più piccoli di 10 angstrom. La ricerca recente si è concentrata sullo sviluppo di materiali ad alto coefficiente k che possono funzionare come barriera dielettrica o gate con una minore perdita.
L'afnio è disponibile in varie forme, tra cui metallo e composti, con diversi livelli di purezza che vanno dal grado ACS alla purezza ultraelevata. Le forme elementari o metalliche dell'afnio comprendono pellet, barre, fili e granuli per il materiale di partenza dell'evaporazione. I nanomateriali di afnio offrono un'area superficiale ultraelevata per la ricerca sulle nanotecnologie.
L'ossido di afnio è disponibile in polvere e in pellet densi per vari usi, come il rivestimento ottico e le applicazioni a film sottile. L'afnio è disponibile anche in forme solubili, come cloruro, nitrato e acetato, e insolubili, come i fluoruri. Questi composti possono essere prodotti come soluzioni a stechiometrie specifiche.
Controllo qualità ingredienti
- Analisi della composizione della materia prima
- Attraverso l'utilizzo di apparecchiature quali ICP e GDMS, il contenuto di impurità metalliche viene rilevato e analizzato per garantire che soddisfi lo standard di purezza;
Le impurità non metalliche vengono rilevate da apparecchiature quali analizzatori di carbonio e zolfo, analizzatori di azoto e ossigeno. - Analisi di rilevamento difetti metallografici
- Il materiale target viene ispezionato utilizzando apparecchiature di rilevamento dei difetti per garantire che non vi siano difetti o fori di ritiro all'interno del prodotto;
Attraverso i test metallografici, viene analizzata la struttura interna dei grani del materiale target per garantire che i grani siano fini e densi. - Controllo dell'aspetto e delle dimensioni
- Le dimensioni del prodotto sono misurate utilizzando micrometri e calibri di precisione per garantire la conformità ai disegni;
La finitura superficiale e la pulizia del prodotto vengono misurate utilizzando un misuratore di pulizia della superficie.
Dimensioni target convenzionali dello sputtering
- Processo di preparazione
- pressatura isostatica a caldo, fusione sotto vuoto, ecc.
- Forma bersaglio sputtering
- sputtering piano bersaglio, bersaglio sputtering multi-arco, bersaglio sputtering a gradini, bersaglio sputtering a forma speciale
- Dimensione target sputtering rotondo
- Diametro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Spessore: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Le dimensioni possono essere personalizzate. - Dimensione target sputtering quadrato
- 50×50×3 mm / 100×100×4 mm / 300×300×5 mm, le dimensioni possono essere personalizzate
Forme metalliche disponibili
Dettagli forme metalliche
Produciamo quasi tutti i metalli elencati nella tavola periodica in un'ampia gamma di forme e purezze, nonché come misure e dimensioni standard. Possiamo anche produrre prodotti su misura per soddisfare le esigenze specifiche del cliente, come dimensioni, forma, superficie, composizione e altro. L'elenco seguente fornisce un esempio dei moduli che offriamo, ma non è esaustivo. Se hai bisogno di materiali di consumo per laboratorio, contattaci direttamente per richiedere un preventivo.
- Forme piatte/planari: cartone, pellicola, lamina, microfoglio, microfoglio, carta, lastra, nastro, foglio, striscia, Nastro, Wafer
- Forme preformate: Anodi, sfere, fasce, barre, barchette, bulloni, bricchette, catodi, cerchi, bobine, crogioli, cristalli, cubi, tazze, cilindri, dischi, elettrodi, fibre, filamenti , flange, griglie, lenti, mandrini, dadi, parti, prismi, dischi, anelli, aste, forme, scudi, manicotti, molle, quadrati, bersagli sputtering, bastoncini, tubi, rondelle, finestre, fili
- Microdimensioni: Perle, Pezzetti, Capsule, Trucioli, Monete, Polvere, Scaglie, Grani, Granuli, Micropolvere, Aghi, Particelle, Ciottoli, Pellet, Spilli, Pillole, Polvere, Trucioli, Pallini, Lumache, Sfere, Compresse < li>Macrodimensioni: Billette, Pezzi, Ritagli, Frammenti, Lingotti, Grumi, Nuggets, Pezzi, Tranciature, Rocce, Scarti, Segmenti, Torniture
- Porosi e Semiporosi: Tessuto, Schiuma, Garza, Nido d'ape, Rete, spugna, lana
- Nanoscala: nanoparticelle, nanopolveri, nanofogli, nanotubi, nanotubi, nanoprismi
- Altro: concentrato, inchiostro, pasta, precipitato, residuo, campioni, campioni
KinTek è specializzata nella produzione di materiali di elevata e ultra-purezza con un intervallo di purezza del 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e in alcuni casi, fino al 99,99999% (7N). I nostri materiali sono disponibili in qualità specifiche, tra cui UP/UHP, semiconduttori, elettronica, deposizione, fibra ottica e MBE. I nostri metalli, ossidi e composti di elevata purezza sono realizzati appositamente per soddisfare le rigorose esigenze delle applicazioni ad alta tecnologia e sono ideali per l'uso come droganti e materiali precursori per la deposizione di film sottili, la crescita dei cristalli di semiconduttori e la sintesi di nanomateriali. Questi materiali trovano impiego nella microelettronica avanzata, nelle celle solari, nelle celle a combustibile, nei materiali ottici e in altre applicazioni all'avanguardia.
Imballaggio
Utilizziamo il vuoto imballaggio per i nostri materiali ad elevata purezza e ogni materiale ha un imballaggio specifico su misura per le sue caratteristiche uniche. Ad esempio, il nostro target sputter Hf è contrassegnato ed etichettato esternamente per facilitare l'identificazione e il controllo di qualità efficienti. Facciamo molta attenzione a prevenire eventuali danni che potrebbero verificarsi durante lo stoccaggio o il trasporto.
FAQ
Che cos'è la deposizione fisica da vapore (PVD)?
Che cos'è un bersaglio sputtering?
Cosa sono i materiali ad alta purezza?
Che cos'è lo sputtering magnetronico?
Cosa sono i metalli ad alta purezza?
Come vengono prodotti i bersagli sputtering?
Perché lo sputtering magnetronico?
A cosa servono i metalli ad alta purezza?
A cosa servono i target sputtering?
Quali sono i materiali utilizzati nella deposizione di film sottili?
La deposizione di film sottili utilizza comunemente metalli, ossidi e composti come materiali, ciascuno con vantaggi e svantaggi unici. I metalli sono preferiti per la loro durata e facilità di deposizione, ma sono relativamente costosi. Gli ossidi sono molto durevoli, resistono alle alte temperature e possono essere depositati a basse temperature, ma possono essere fragili e difficili da lavorare. I composti offrono resistenza e durata, possono essere depositati a basse temperature e personalizzati per esibire proprietà specifiche.
La scelta del materiale per un rivestimento a film sottile dipende dai requisiti dell'applicazione. I metalli sono ideali per la conduzione termica ed elettrica, mentre gli ossidi sono efficaci per offrire protezione. I composti possono essere personalizzati per soddisfare esigenze specifiche. In definitiva, il materiale migliore per un particolare progetto dipenderà dalle esigenze specifiche dell'applicazione.
Quali sono i vantaggi dell'utilizzo di metalli di elevata purezza?
Cosa sono i target sputtering per l'elettronica?
Quali sono i metodi per ottenere una deposizione ottimale di film sottili?
Per ottenere film sottili con proprietà desiderabili, sono essenziali target di sputtering e materiali di evaporazione di alta qualità. La qualità di questi materiali può essere influenzata da vari fattori, come la purezza, la dimensione dei grani e le condizioni della superficie.
La purezza dei target di sputtering o dei materiali di evaporazione svolge un ruolo cruciale, poiché le impurità possono causare difetti nel film sottile risultante. Anche la dimensione dei grani influisce sulla qualità del film sottile, con grani più grandi che portano a proprietà scadenti. Inoltre, le condizioni della superficie sono cruciali, poiché le superfici ruvide possono causare difetti nel film.
Per ottenere bersagli di sputtering e materiali di evaporazione della massima qualità, è fondamentale selezionare materiali che possiedano un'elevata purezza, una piccola dimensione dei grani e superfici lisce.
Usi della deposizione a film sottile
Film sottili a base di ossido di zinco
I film sottili di zinco trovano applicazione in diversi settori, come quello termico, ottico, magnetico ed elettrico, ma il loro impiego principale è nei rivestimenti e nei dispositivi a semiconduttore.
Resistenze a film sottile
Le resistenze a film sottile sono cruciali per la tecnologia moderna e sono utilizzate in ricevitori radio, circuiti stampati, computer, dispositivi a radiofrequenza, monitor, router wireless, moduli Bluetooth e ricevitori per telefoni cellulari.
Film sottili magnetici
I film sottili magnetici sono utilizzati nell'elettronica, nella memorizzazione dei dati, nell'identificazione a radiofrequenza, nei dispositivi a microonde, nei display, nei circuiti e nell'optoelettronica come componenti chiave.
Film sottili ottici
I rivestimenti ottici e l'optoelettronica sono applicazioni standard dei film sottili ottici. L'epitassia a fascio molecolare può produrre dispositivi optoelettronici a film sottile (semiconduttori), dove i film epitassiali sono depositati un atomo alla volta sul substrato.
Film sottili polimerici
I film sottili polimerici sono utilizzati nei chip di memoria, nelle celle solari e nei dispositivi elettronici. Le tecniche di deposizione chimica (CVD) offrono un controllo preciso dei rivestimenti di film polimerici, compresi la conformità e lo spessore del rivestimento.
Batterie a film sottile
Le batterie a film sottile alimentano dispositivi elettronici come i dispositivi medici impiantabili, e la batteria agli ioni di litio è progredita in modo significativo grazie all'uso di film sottili.
Rivestimenti a film sottile
I rivestimenti a film sottile migliorano le caratteristiche chimiche e meccaniche dei materiali di destinazione in varie industrie e campi tecnologici. Rivestimenti antiriflesso, rivestimenti anti-ultravioletti o anti-infrarossi, rivestimenti antigraffio e polarizzazione delle lenti sono alcuni esempi comuni.
Celle solari a film sottile
Le celle solari a film sottile sono essenziali per l'industria dell'energia solare, in quanto consentono la produzione di elettricità pulita e relativamente economica. I sistemi fotovoltaici e l'energia termica sono le due principali tecnologie applicabili.
Quali industrie utilizzano comunemente i metalli di elevata purezza?
Qual è la durata di un target di sputtering?
Fattori e parametri che influenzano la deposizione di film sottili
Rapidità di deposizione:
La velocità di produzione del film, tipicamente misurata in spessore diviso per il tempo, è fondamentale per selezionare una tecnologia adatta all'applicazione. Per i film sottili è sufficiente una velocità di deposizione moderata, mentre per i film spessi è necessaria una velocità di deposizione rapida. È importante trovare un equilibrio tra velocità e controllo preciso dello spessore del film.
Uniformità:
La consistenza del film sul substrato è nota come uniformità, che di solito si riferisce allo spessore del film ma può anche riguardare altre proprietà come l'indice di rifrazione. È importante avere una buona comprensione dell'applicazione per evitare di sotto- o sovra-specificare l'uniformità.
Capacità di riempimento:
La capacità di riempimento o copertura del gradino si riferisce a quanto il processo di deposizione copre la topografia del substrato. Il metodo di deposizione utilizzato (ad esempio, CVD, PVD, IBD o ALD) ha un impatto significativo sulla copertura dei gradini e sul riempimento.
Caratteristiche del film:
Le caratteristiche del film dipendono dai requisiti dell'applicazione, che possono essere classificati come fotonici, ottici, elettronici, meccanici o chimici. La maggior parte dei film deve soddisfare i requisiti di più di una categoria.
Temperatura di processo:
Le caratteristiche del film sono significativamente influenzate dalla temperatura di processo, che può essere limitata dall'applicazione.
Danni:
Ogni tecnologia di deposizione ha il potenziale di danneggiare il materiale su cui viene depositato, con caratteristiche più piccole che sono più suscettibili ai danni di processo. L'inquinamento, le radiazioni UV e il bombardamento ionico sono tra le potenziali fonti di danno. È fondamentale comprendere i limiti dei materiali e degli strumenti.
4.9
out of
5
Absolutely satisfied with the quality of Hafnium Sputtering Target from KINTEK SOLUTION. The purity level is exceptional and meets our research requirements precisely.
4.7
out of
5
KINTEK's Hafnium Powder has been a game-changer for our lab's nanotechnology research. Its ultra-high surface area has opened up new possibilities for our experiments.
4.8
out of
5
The Hafnium Wire from KINTEK SOLUTION arrived promptly and exceeded our expectations. Its consistent quality has ensured reliable results in our thin-film deposition processes.
4.6
out of
5
KINTEK SOLUTION's Hafnium Block has proven to be an excellent choice for our sputtering applications. Its high density and purity have contributed to the success of our research.
4.8
out of
5
We have been thoroughly impressed with the Hafnium Granules from KINTEK SOLUTION. Their uniform size and purity have enabled us to achieve consistent and precise results in our experiments.
4.9
out of
5
KINTEK SOLUTION's Hafnium Sputtering Target has been an outstanding addition to our laboratory. Its durability has ensured long-lasting performance, saving us both time and resources.
4.7
out of
5
The Hafnium Powder from KINTEK SOLUTION has been instrumental in our groundbreaking research. Its exceptional purity and fine particle size have allowed us to explore new frontiers in materials science.
4.8
out of
5
We highly recommend the Hafnium Wire from KINTEK SOLUTION. Its consistent quality and ease of handling have made it an indispensable tool in our laboratory.
4.6
out of
5
KINTEK SOLUTION's Hafnium Block is an excellent choice for high-temperature applications. Its exceptional thermal conductivity has enabled us to achieve outstanding results in our research.
4.8
out of
5
The Hafnium Granules from KINTEK SOLUTION have been a valuable asset to our laboratory. Their uniform size and purity have contributed to the accuracy and reliability of our experiments.
RICHIEDI UN PREVENTIVO
Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!
Prodotti correlati
Carburo di afnio (HfC) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo
Scoprite i nostri materiali di alta qualità a base di carburo di afnio (HfC), realizzati su misura per soddisfare le vostre esigenze di laboratorio. Offriamo varie dimensioni e specifiche di bersagli per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora. Prezzi ragionevoli e servizio eccellente. Ordinate ora.
Ottenete materiali di ossido di afnio (HfO2) di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio a prezzi accessibili. I nostri prodotti personalizzati sono disponibili in varie dimensioni e forme, tra cui bersagli sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora.
Tungsteno di elevata purezza (W) Sputtering Target / Polvere / Filo / Blocco / Granulo
Trovate materiali di tungsteno (W) di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio a prezzi accessibili. Offriamo purezza, forme e dimensioni personalizzate di bersagli per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora.
Bersaglio sputtering di olmio (Ho) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Cercate materiali all'olmio (Ho) a prezzi accessibili per il vostro laboratorio? La nostra gamma, prodotta con competenza e su misura, comprende bersagli per sputtering, polveri, lamine e altro ancora, tutti disponibili in una varietà di dimensioni e forme per soddisfare le vostre esigenze specifiche.
Obiettivo di sputtering di zirconio (Zr) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Cercate materiali in zirconio di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio? La nostra gamma di prodotti a prezzi accessibili comprende bersagli per sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora, su misura per le vostre esigenze specifiche. Contattateci oggi stesso!
Obiettivo di sputtering di lantanio (La) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Procuratevi materiali di lantanio (La) di alta qualità a prezzi accessibili per le vostre esigenze di laboratorio. Scegliete tra la nostra ampia gamma di purezza, forme e dimensioni su misura per soddisfare le vostre esigenze specifiche. Esplorate la nostra selezione di bersagli per sputtering, materiali di rivestimento, polveri, vergelle e altro ancora.
Obiettivo di sputtering di zinco (Zn) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Trovate materiali di zinco (Zn) di alta qualità per uso di laboratorio a prezzi accessibili. I nostri esperti producono e personalizzano materiali di diversa purezza, forma e dimensione per soddisfare le vostre esigenze. Sfogliate la nostra gamma di bersagli per sputtering, materiali di rivestimento e altro ancora.
Distanziatore in nitruro di boro esagonale (HBN) - Profilo della camma e vari tipi di distanziatore
Le guarnizioni in nitruro di boro esagonale (HBN) sono prodotte da grezzi di nitruro di boro pressati a caldo. Proprietà meccaniche simili alla grafite, ma con un'eccellente resistenza elettrica.
Bersaglio di sputtering di alta purezza del niobio (Nb) / polvere / filo / blocco / granulo
Cercate materiali di niobio personalizzati per uso di laboratorio? I nostri esperti offrono soluzioni su misura con purezza, forme e dimensioni diverse a prezzi ragionevoli. Scoprite la nostra ampia gamma di prodotti in niobio.
Obiettivo di sputtering di tantalio (Ta) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Scoprite i nostri materiali di tantalio (Ta) di alta qualità per uso di laboratorio a prezzi accessibili. Ci adattiamo alle vostre esigenze specifiche con varie forme, dimensioni e purezza. Esplorate la nostra gamma di target per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora.
Anello ceramico in nitruro di boro esagonale (HBN)
Gli anelli in ceramica di nitruro di boro (BN) sono comunemente utilizzati in applicazioni ad alta temperatura, come le attrezzature per forni, gli scambiatori di calore e la lavorazione dei semiconduttori.
Bersaglio di sputtering di titanio (Ti) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Acquistate materiali in titanio (Ti) di alta qualità a prezzi ragionevoli per uso di laboratorio. Trovate un'ampia gamma di prodotti su misura per soddisfare le vostre esigenze specifiche, tra cui bersagli per sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora.
Nitruro di boro (BN) Ceramica-Composito conduttivo
Grazie alle caratteristiche del nitruro di boro stesso, la costante dielettrica e la perdita dielettrica sono molto ridotte, quindi è un materiale isolante elettrico ideale.
Parti in ceramica di nitruro di boro (BN)
Il nitruro di boro (BN) è un composto con un alto punto di fusione, un'elevata durezza, un'alta conducibilità termica e un'alta resistività elettrica. La sua struttura cristallina è simile al grafene e più dura del diamante.
Obiettivo di sputtering in alluminio (Al) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Procuratevi materiali in alluminio (Al) di alta qualità per uso di laboratorio a prezzi accessibili. Offriamo soluzioni personalizzate che comprendono target per sputtering, polveri, lamine, lingotti e altro ancora per soddisfare le vostre esigenze specifiche. Ordinate ora!
Obiettivo di sputtering di germanio (Ge) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Ottenete materiali d'oro di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio a prezzi accessibili. I nostri materiali d'oro personalizzati sono disponibili in varie forme, dimensioni e purezza per soddisfare le vostre esigenze specifiche. Esplorate la nostra gamma di target per sputtering, materiali di rivestimento, lamine, polveri e altro ancora.
Asta in ceramica di nitruro di boro (BN)
L'asta di nitruro di boro (BN) è la forma cristallina di nitruro di boro più resistente come la grafite, che presenta eccellenti proprietà di isolamento elettrico, stabilità chimica e dielettriche.
Bersaglio di sputtering di piombo (Pb) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Cercate materiali al piombo (Pb) di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio? Non cercate oltre la nostra selezione specializzata di opzioni personalizzabili, tra cui target di sputtering, materiali di rivestimento e altro ancora. Contattateci oggi stesso per ottenere prezzi competitivi!
Nitruro di silicio (SiC) Foglio di ceramica Lavorazione di precisione in ceramica
La lastra di nitruro di silicio è un materiale ceramico comunemente utilizzato nell'industria metallurgica grazie alle sue prestazioni uniformi alle alte temperature.
Bersaglio di sputtering di nitruro di alluminio (AlN) / polvere / filo / blocco / granulo
Materiali di nitruro di alluminio (AlN) di alta qualità in varie forme e dimensioni per uso di laboratorio a prezzi accessibili. Esplorate la nostra gamma di target per sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora. Sono disponibili soluzioni personalizzate.
Bersaglio sputtering di rodio (Rh) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo
Ottenete materiali di rodio di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio a prezzi vantaggiosi. Il nostro team di esperti produce e personalizza rodio di varie purezza, forme e dimensioni per soddisfare le vostre esigenze specifiche. Scegliete tra un'ampia gamma di prodotti, tra cui bersagli per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora.
Piastra ceramica in nitruro di boro (BN)
Le piastre ceramiche al nitruro di boro (BN) non utilizzano l'acqua di alluminio per bagnare, e possono fornire una protezione completa per la superficie dei materiali che entrano direttamente in contatto con alluminio fuso, magnesio, leghe di zinco e relative scorie.
Tubo ceramico in nitruro di boro (BN)
Il nitruro di boro (BN) è noto per la sua elevata stabilità termica, le eccellenti proprietà di isolamento elettrico e le proprietà lubrificanti.