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Bersaglio di sputtering di titanio (Ti) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Materiali di laboratorio

Bersaglio di sputtering di titanio (Ti) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Numero articolo : LM-TI

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Formula chimica
Ti
Purezza
3N-5N
Forma
dischi / filo / blocco / polvere / piastre / obiettivi a colonna / obiettivo a gradini / su misura
ISO & CE icon

Spedizione:

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A prezzi ragionevoli, offriamo materiali in titanio (Ti) per uso di laboratorio. La nostra esperienza consiste nel produrre e personalizzare materiali in titanio (Ti) di diversa purezza, forma e dimensione per soddisfare le vostre esigenze specifiche.

Forniamo un'ampia gamma di specifiche e dimensioni per vari prodotti in titanio (Ti), come bersagli per sputtering (circolari, quadrati, tubolari, irregolari), materiali di rivestimento, cilindri, coni, particelle, lamine, polveri, polveri per stampa 3D, polveri nanometriche, vergelle, lingotti e blocchi, tra gli altri.

Dettagli

Bersaglio sputtering di titanio (Ti)
Bersaglio sputtering in titanio (Ti)
Bersaglio di titanio (Ti) per sputtering
Bersaglio sputtering in titanio (Ti)
Asta di titanio (Ti)
Asta di titanio (Ti)
Asta di titanio (Ti)
Asta di titanio (Ti)
Particelle di titanio (Ti)
Particelle di titanio (Ti)
Particelle di titanio (Ti)
Particelle di titanio (Ti)
blocco di spugna di titanio
Blocco di spugna di titanio
blocco di spugna di titanio
Blocco di spugna di titanio

Informazioni sul titanio (Ti)

Il titanio è un metallo versatile che possiede proprietà uniche, tra cui un'elevata resistenza, una bassa densità e un'eccezionale resistenza alla corrosione. Grazie a queste caratteristiche, ha trovato largo impiego in diverse applicazioni, in particolare nell'industria aerospaziale e militare.

Il biossido di titanio, uno dei composti più comuni del titanio, è ampiamente utilizzato per produrre un pigmento bianco per varie applicazioni. Inoltre, il titanio costituisce la base di numerosi gruppi di composti essenziali dal punto di vista commerciale, tra cui i titanati utilizzati nelle formulazioni elettroniche e dielettriche, nonché nella crescita dei cristalli per i laser di rubino e zaffiro.

Il titanio è disponibile in diverse forme, tra cui forme elementari o metalliche come pellet, barre, fili e granuli utilizzati come materiali di partenza per l'evaporazione. Inoltre, le nanoparticelle e le nanopolveri di titanio offrono una superficie ultraelevata per applicazioni specializzate.

Gli ossidi di titanio sono disponibili anche in polvere e in pellet densi per usi quali i rivestimenti ottici e le applicazioni a film sottile. Tuttavia, tendono a essere insolubili. I fluoruri di titanio, un'altra forma insolubile di titanio, sono utilizzati in applicazioni in cui l'ossigeno è indesiderato, come la metallurgia, la deposizione chimica e fisica da vapore e alcuni rivestimenti ottici.

Infine, il titanio è disponibile in forme solubili, tra cui cloruri, nitrati e acetati, che possono essere prodotti come soluzioni a stechiometrie specifiche. In generale, il titanio e le sue varie forme e composti offrono un'ampia gamma di possibilità per gli scienziati dei materiali e altri professionisti che operano in diversi settori.

Controllo qualità ingredienti

Analisi della composizione della materia prima
Attraverso l'utilizzo di apparecchiature quali ICP e GDMS, il contenuto di impurità metalliche viene rilevato e analizzato per garantire che soddisfi lo standard di purezza;

Le impurità non metalliche vengono rilevate da apparecchiature quali analizzatori di carbonio e zolfo, analizzatori di azoto e ossigeno.
Analisi di rilevamento difetti metallografici
Il materiale target viene ispezionato utilizzando apparecchiature di rilevamento dei difetti per garantire che non vi siano difetti o fori di ritiro all'interno del prodotto;

Attraverso i test metallografici, viene analizzata la struttura interna dei grani del materiale target per garantire che i grani siano fini e densi.
Controllo dell'aspetto e delle dimensioni
Le dimensioni del prodotto sono misurate utilizzando micrometri e calibri di precisione per garantire la conformità ai disegni;

La finitura superficiale e la pulizia del prodotto vengono misurate utilizzando un misuratore di pulizia della superficie.

Dimensioni target convenzionali dello sputtering

Processo di preparazione
pressatura isostatica a caldo, fusione sotto vuoto, ecc.
Forma bersaglio sputtering
sputtering piano bersaglio, bersaglio sputtering multi-arco, bersaglio sputtering a gradini, bersaglio sputtering a forma speciale
Dimensione target sputtering rotondo
Diametro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Spessore: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Le dimensioni possono essere personalizzate.
Dimensione target sputtering quadrato
50×50×3 mm / 100×100×4 mm / 300×300×5 mm, le dimensioni possono essere personalizzate

Forme metalliche disponibili

Dettagli forme metalliche

Produciamo quasi tutti i metalli elencati nella tavola periodica in un'ampia gamma di forme e purezze, nonché come misure e dimensioni standard. Possiamo anche produrre prodotti su misura per soddisfare le esigenze specifiche del cliente, come dimensioni, forma, superficie, composizione e altro. L'elenco seguente fornisce un esempio dei moduli che offriamo, ma non è esaustivo. Se hai bisogno di materiali di consumo per laboratorio, contattaci direttamente per richiedere un preventivo.

  • Forme piatte/planari: cartone, pellicola, lamina, microfoglio, microfoglio, carta, lastra, nastro, foglio, striscia, Nastro, Wafer
  • Forme preformate: Anodi, sfere, fasce, barre, barchette, bulloni, bricchette, catodi, cerchi, bobine, crogioli, cristalli, cubi, tazze, cilindri, dischi, elettrodi, fibre, filamenti , flange, griglie, lenti, mandrini, dadi, parti, prismi, dischi, anelli, aste, forme, scudi, manicotti, molle, quadrati, bersagli sputtering, bastoncini, tubi, rondelle, finestre, fili
  • Microdimensioni: Perle, Pezzetti, Capsule, Trucioli, Monete, Polvere, Scaglie, Grani, Granuli, Micropolvere, Aghi, Particelle, Ciottoli, Pellet, Spilli, Pillole, Polvere, Trucioli, Pallini, Lumache, Sfere, Compresse
  • < li>Macrodimensioni: Billette, Pezzi, Ritagli, Frammenti, Lingotti, Grumi, Nuggets, Pezzi, Tranciature, Rocce, Scarti, Segmenti, Torniture
  • Porosi e Semiporosi: Tessuto, Schiuma, Garza, Nido d'ape, Rete, spugna, lana
  • Nanoscala: nanoparticelle, nanopolveri, nanofogli, nanotubi, nanotubi, nanoprismi
  • Altro: concentrato, inchiostro, pasta, precipitato, residuo, campioni, campioni

KinTek è specializzata nella produzione di materiali di elevata e ultra-purezza con un intervallo di purezza del 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e in alcuni casi, fino al 99,99999% (7N). I nostri materiali sono disponibili in qualità specifiche, tra cui UP/UHP, semiconduttori, elettronica, deposizione, fibra ottica e MBE. I nostri metalli, ossidi e composti di elevata purezza sono realizzati appositamente per soddisfare le rigorose esigenze delle applicazioni ad alta tecnologia e sono ideali per l'uso come droganti e materiali precursori per la deposizione di film sottili, la crescita dei cristalli di semiconduttori e la sintesi di nanomateriali. Questi materiali trovano impiego nella microelettronica avanzata, nelle celle solari, nelle celle a combustibile, nei materiali ottici e in altre applicazioni all'avanguardia.

Imballaggio

Utilizziamo il vuoto imballaggio per i nostri materiali ad elevata purezza e ogni materiale ha un imballaggio specifico su misura per le sue caratteristiche uniche. Ad esempio, il nostro target sputter Hf è contrassegnato ed etichettato esternamente per facilitare l'identificazione e il controllo di qualità efficienti. Facciamo molta attenzione a prevenire eventuali danni che potrebbero verificarsi durante lo stoccaggio o il trasporto.

FAQ

Che cos'è un bersaglio sputtering?

Un bersaglio sputtering è un materiale utilizzato nel processo di deposizione sputtering, che prevede la frantumazione del materiale bersaglio in minuscole particelle che formano uno spray e rivestono un substrato, come un wafer di silicio. I target di sputtering sono in genere elementi metallici o leghe, anche se sono disponibili alcuni target in ceramica. Sono disponibili in una varietà di dimensioni e forme, con alcuni produttori che creano bersagli segmentati per le apparecchiature di sputtering più grandi. I bersagli sputtering hanno un'ampia gamma di applicazioni in campi quali la microelettronica, le celle solari a film sottile, l'optoelettronica e i rivestimenti decorativi, grazie alla loro capacità di depositare film sottili con elevata precisione e uniformità.

Cosa sono i materiali ad alta purezza?

I materiali ad alta purezza si riferiscono a sostanze prive di impurità e con un elevato livello di omogeneità chimica. Questi materiali sono essenziali in diversi settori industriali, in particolare nel campo dell'elettronica avanzata, dove le impurità possono influire significativamente sulle prestazioni dei dispositivi. I materiali di elevata purezza sono ottenuti con vari metodi, tra cui la purificazione chimica, la deposizione in fase vapore e la raffinazione a zone. Nella preparazione del diamante monocristallino di grado elettronico, ad esempio, sono necessari un gas di elevata purezza della materia prima e un sistema di vuoto efficiente per ottenere il livello di purezza e omogeneità desiderato.

Che cos'è il processo di fusione ad arco sottovuoto?

La fusione ad arco sottovuoto (VAR) è un processo di fusione secondaria utilizzato per produrre lingotti di metallo con elevata omogeneità chimica e meccanica per applicazioni critiche in settori quali l'aerospaziale, l'energia e il nucleare. Il processo prevede la raffinazione del metallo liquido sotto vuoto e il controllo del suo tasso di solidificazione. È utilizzato per la purificazione di leghe reattive di titanio o zirconio, senza alcun contatto con i refrattari di colata, nonché per migliorare la pulizia delle inclusioni negli acciai e nelle superleghe. I lingotti cilindrici rifusi possono pesare diverse tonnellate e il VAR ha rivoluzionato l'industria delle tecniche metallurgiche speciali.

Cosa sono i metalli ad alta purezza?

I metalli ad alta purezza sono materiali monoelemento con impurità minime, che li rendono ideali per la ricerca, lo sviluppo e la produzione di tecnologie avanzate. Questi metalli sono utilizzati nella creazione di ceramiche avanzate, sensori elettronici, lenti e ottiche di alta precisione, LED, laser, rivestimenti a barriera termica, schermi al plasma e altro ancora. KINTEK offre una vasta gamma di metalli di elevata purezza e di composti metallici binari e ternari in varie forme, composizioni, dispersioni, dimensioni e pesi delle particelle per applicazioni di ricerca e commerciali. I metalli speciali strategici sono utilizzati in applicazioni high-tech e possono essere costosi a causa della loro elaborata lavorazione.

Come vengono prodotti i bersagli sputtering?

I target sputtering sono realizzati con una serie di processi produttivi che dipendono dalle proprietà del materiale del target e dalla sua applicazione. Questi includono la fusione e la laminazione sotto vuoto, la pressatura a caldo, il processo speciale di sinterizzazione, la pressatura a caldo sotto vuoto e i metodi di forgiatura. La maggior parte dei materiali dei target di sputtering può essere fabbricata in un'ampia gamma di forme e dimensioni; le forme circolari o rettangolari sono le più comuni. I target sono solitamente realizzati con elementi o leghe metalliche, ma possono essere utilizzati anche target ceramici. Sono disponibili anche bersagli sputtering composti, realizzati con una varietà di composti tra cui ossidi, nitruri, boruri, solfuri, seleniuri, tellururi, carburi, cristalli e miscele composite.

Che cos'è il forno VAR (Vacuum Arc Remelting)?

Il VAR o rifusione ad arco sottovuoto è un processo utilizzato per perfezionare e migliorare la pulizia dei lingotti ottenuti da leghe standard fuse in aria, sottovuoto a induzione o rifuse in ESR. È utilizzato per acciai, superleghe, titanio, zirconio e loro leghe in settori quali aerospaziale, produzione di energia, difesa, medicale e nucleare. Il VAR è un processo di rifusione continuo di un elettrodo consumabile sotto vuoto, con l'alimentazione in corrente continua utilizzata per far scoccare un arco tra l'elettrodo e uno stampo di rame. Il processo rimuove i gas disciolti, riduce gli elementi in traccia indesiderati, migliora la pulizia degli ossidi e consente di ottenere una solidificazione direzionale del lingotto dal basso verso l'alto.

A cosa servono i metalli ad alta purezza?

I metalli ad alta purezza sono utilizzati in varie tecnologie avanzate che richiedono proprietà, prestazioni e qualità specifiche. Vengono utilizzati per creare illuminazione fluorescente, schermi al plasma, LED, lenti e ottiche di alta precisione, sensori elettronici, ceramiche avanzate, rivestimenti a barriera termica, laser e altro ancora. Questi metalli sono utilizzati anche nella produzione di materiali magnetici, termoelettrici, fosfori e semiconduttori di alta qualità. KINTEK offre un portafoglio diversificato di metalli di elevata purezza, composti metallici binari e ternari, leghe magnetiche, ossidi metallici, nanomateriali e precursori organometallici in varie forme, composizioni, dispersioni, dimensioni e pesi delle particelle per tutte le applicazioni di ricerca e commerciali.

A cosa servono i target sputtering?

I bersagli sputtering sono utilizzati in un processo chiamato sputtering per depositare film sottili di un materiale su un substrato utilizzando ioni per bombardare il bersaglio. Questi bersagli hanno un'ampia gamma di applicazioni in vari campi, tra cui la microelettronica, le celle solari a film sottile, l'optoelettronica e i rivestimenti decorativi. Consentono la deposizione di film sottili di materiali su una varietà di substrati con elevata precisione e uniformità, rendendoli uno strumento ideale per la produzione di prodotti di precisione. I target sputtering sono disponibili in varie forme e dimensioni e possono essere specializzati per soddisfare i requisiti specifici dell'applicazione.

Come funziona il forno fusorio ad arco sottovuoto?

Un forno di fusione ad arco sotto vuoto funziona fondendo i materiali sotto vuoto o in un'atmosfera a bassa pressione utilizzando archi elettrici. Il forno utilizza due elettrodi, uno dei quali è il materiale da fondere. Gli elettrodi vengono avvicinati e tra di loro scocca un arco elettrico che provoca la fusione del materiale. Il forno viene quindi evacuato per rimuovere eventuali impurità e il materiale fuso viene colato nella forma desiderata. Questo processo è utilizzato per la produzione di metalli, leghe e intermetalli di elevata purezza, impiegati in settori quali l'aerospaziale, l'elettronica e l'ingegneria biomedica.

Quali sono i vantaggi dell'utilizzo di metalli di elevata purezza?

L'utilizzo di metalli di elevata purezza offre diversi vantaggi. In primo luogo, garantisce prestazioni costanti e affidabili grazie all'assenza di impurità che possono causare variazioni nelle proprietà del materiale. In secondo luogo, i metalli di elevata purezza consentono la produzione di prodotti di alta qualità e ad alte prestazioni, garantendo una migliore funzionalità e durata. In terzo luogo, i loro bassi livelli di impurità riducono il rischio di contaminazione nelle applicazioni sensibili. I metalli di elevata purezza presentano anche una migliore conduttività elettrica, conduttività termica e resistenza alla corrosione. Inoltre, sono spesso preferiti per le loro migliori proprietà di adesione, che li rendono adatti a vari processi di rivestimento e di deposizione di film sottili.

Cosa sono i target sputtering per l'elettronica?

I bersagli sputtering per l'elettronica sono dischi o fogli sottili di materiali come alluminio, rame e titanio che vengono utilizzati per depositare film sottili su wafer di silicio per creare dispositivi elettronici come transistor, diodi e circuiti integrati. Questi target sono utilizzati in un processo chiamato sputtering, in cui gli atomi del materiale target vengono fisicamente espulsi dalla superficie e depositati su un substrato bombardando il target con ioni. I target di sputtering per l'elettronica sono essenziali nella produzione di microelettronica e in genere richiedono un'elevata precisione e uniformità per garantire dispositivi di qualità.

Quali sono le applicazioni dei forni fusori ad arco sottovuoto?

I forni fusori ad arco sottovuoto sono comunemente utilizzati nella produzione di materiali ad alte prestazioni, come superleghe, acciai speciali e metalli reattivi. Questi materiali richiedono spesso un'elevata purezza e una composizione controllata, che può essere ottenuta con la fusione ad arco sotto vuoto. Il processo è particolarmente adatto per la produzione di componenti critici nei settori aerospaziale, automobilistico e dell'energia, dove l'alta resistenza, la resistenza alla corrosione e la stabilità alla temperatura sono fondamentali. La fusione ad arco sotto vuoto viene utilizzata anche in contesti di ricerca e sviluppo per produrre piccole quantità di leghe specializzate a scopo di test e caratterizzazione.

Quali industrie utilizzano comunemente i metalli di elevata purezza?

I metalli di elevata purezza trovano applicazione in un'ampia gamma di settori. Le industrie dei semiconduttori e dell'elettronica utilizzano ampiamente i metalli di elevata purezza per i circuiti integrati, i microprocessori e altri componenti elettronici. L'industria aerospaziale si affida ai metalli di elevata purezza per le loro proprietà di leggerezza e resistenza. Le industrie dell'ottica e del fotovoltaico utilizzano metalli di elevata purezza per ottiche di precisione e celle solari. I metalli di elevata purezza svolgono un ruolo importante anche nei dispositivi medici, nei componenti automobilistici, nei laboratori di ricerca e nei processi produttivi avanzati.

Qual è la durata di un target di sputtering?

La durata di un bersaglio sputtering dipende da fattori quali la composizione del materiale, la purezza e l'applicazione specifica per cui viene utilizzato. In genere, i target possono durare da alcune centinaia a qualche migliaio di ore di sputtering, ma la durata può variare notevolmente a seconda delle condizioni specifiche di ogni ciclo. Anche una corretta manipolazione e manutenzione può prolungare la durata di un target. Inoltre, l'uso di bersagli sputtering rotanti può aumentare i tempi di esecuzione e ridurre l'insorgenza di difetti, rendendoli un'opzione più conveniente per i processi ad alto volume.

Quali sono i vantaggi dell'utilizzo dei forni fusori ad arco sottovuoto?

I forni fusori ad arco sottovuoto offrono diversi vantaggi. In primo luogo, l'ambiente ad alto vuoto impedisce l'ossidazione e la contaminazione, garantendo un'elevata purezza dei metalli fusi. Ciò è particolarmente importante per la produzione di materiali con requisiti di qualità rigorosi. In secondo luogo, l'arco elettrico genera un calore intenso, consentendo una fusione rapida ed efficiente del metallo. Il processo può essere controllato con precisione per ottenere parametri di fusione specifici, come temperatura, pressione e velocità di raffreddamento, facilitando la produzione di leghe con le proprietà desiderate. I forni fusori ad arco sottovuoto offrono anche flessibilità in termini di dimensioni e forma del metallo fuso, poiché l'elettrodo consumabile può essere facilmente sostituito o modificato. Inoltre, il processo consente la rimozione selettiva di impurità, come gas e inclusioni non metalliche, migliorando ulteriormente la purezza e la qualità del metallo fuso finale.

Quali sono le precauzioni di sicurezza da seguire quando si utilizza un forno fusorio ad arco sottovuoto?

Quando si utilizza un forno fusorio ad arco sottovuoto, è necessario seguire diverse precauzioni di sicurezza per garantire un funzionamento sicuro. In primo luogo, il forno deve essere utilizzato da personale qualificato che abbia familiarità con l'apparecchiatura, il suo funzionamento e i protocolli di sicurezza. Durante la manipolazione di materiali caldi o l'utilizzo del forno, è necessario indossare adeguati dispositivi di protezione personale, come guanti resistenti al calore, occhiali di sicurezza e indumenti ignifughi. Il sistema di aspirazione deve essere regolarmente ispezionato e sottoposto a manutenzione per garantirne il corretto funzionamento e prevenire i rischi per la sicurezza. È importante seguire le linee guida e le istruzioni del produttore per un funzionamento e una manutenzione sicuri del forno fusorio ad arco sottovuoto. Inoltre, la corretta manipolazione e lo smaltimento degli elettrodi di consumo e dei materiali fusi devono essere eseguiti secondo le linee guida e le normative di sicurezza stabilite. Per garantire un funzionamento sicuro e affidabile, è necessario eseguire ispezioni e manutenzioni regolari del forno, compresi gli impianti elettrici, i sistemi di raffreddamento e i componenti di gestione del gas.
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La pressatura isostatica a freddo (CIP) è un metodo di lavorazione dei materiali che utilizza la pressione dei liquidi per compattare le polveri. È simile alla lavorazione degli stampi metallici e si basa sulla legge di Pascal.

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Obiettivi di sputtering PVD e pressatura isostatica a caldo: Parte 1

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