Materiali di laboratorio
Obiettivo di sputtering di alta purezza dell'ossido di tantalio (Ta2O5) / polvere / filo / blocco / granulo
Numero articolo : LM-Ta2O5
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Formula chimica
- Ta2O5
- Purezza
- 4N
- Forma
- dischi / filo / blocco / polvere / piastre / bersagli a colonna / bersaglio a gradini / su misura
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Richiedi il tuo preventivo ora! Lasciate un messaggio Ottieni un preventivo rapido Via Chatta in lineaOffriamo materiali di ossido di tantalio (Ta2O5) per uso di laboratorio a prezzi competitivi. La nostra esperienza consiste nel produrre e personalizzare i materiali di ossido di tantalio (Ta2O5) per soddisfare le vostre specifiche uniche, comprese le diverse purezza, forme e dimensioni.
Offriamo un'ampia gamma di opzioni, tra cui bersagli per sputtering di forma circolare, quadrata, tubolare e irregolare, nonché materiali di rivestimento, cilindri, coni, particelle, lamine, polveri, polveri per stampa 3D, polveri nanometriche, vergelle, lingotti e blocchi, tra gli altri. Qualunque siano le vostre esigenze, siamo in grado di fornire la soluzione perfetta per voi.
Dettagli
Informazioni sull'ossido di tantalio (Ta2O5)
L'ossido di tantalio è una fonte di tantalio altamente insolubile e termicamente stabile, adatta per applicazioni in vetro, ottica e ceramica. È una polvere bianca e inodore, scoperta in un campione di minerali di pegmite nel 1802 da Anders Ekeberg, membro dell'Accademia Reale Svedese delle Scienze.
I composti di ossido non sono generalmente conduttori di elettricità. Tuttavia, alcuni ossidi perovskiti ad alta purezza (99,999%) di ossido di tantalio (Ta2O5) in polvere sono elettronicamente conduttivi e trovano applicazione nel catodo delle celle a combustibile a ossido solido e nei sistemi di generazione di ossigeno. Sono composti che contengono almeno un anione di ossigeno e un catione metallico.
I composti di ossido metallico sono anidridi basiche e possono quindi reagire con gli acidi e con forti agenti riducenti nelle reazioni redox. Sono tipicamente insolubili in soluzioni acquose (acqua) ed estremamente stabili, il che li rende utili nelle strutture ceramiche, dalle semplici ciotole di argilla all'elettronica avanzata, nei componenti strutturali leggeri del settore aerospaziale e nelle applicazioni elettrochimiche come le celle a combustibile, in cui presentano una conducibilità ionica.
L'ossido di tantalio è disponibile anche in pellet, pezzi, polvere, bersagli per sputtering, compresse e nanopolveri. In genere è immediatamente disponibile nella maggior parte dei volumi. Le composizioni ad altissima purezza e ad alta purezza migliorano la qualità ottica e l'utilità come standard scientifici. Si possono prendere in considerazione polveri e sospensioni di elementi in nanoscala, come forme alternative ad alta area superficiale.
Controllo qualità ingredienti
- Analisi della composizione della materia prima
- Attraverso l'utilizzo di apparecchiature quali ICP e GDMS, il contenuto di impurità metalliche viene rilevato e analizzato per garantire che soddisfi lo standard di purezza;
Le impurità non metalliche vengono rilevate da apparecchiature quali analizzatori di carbonio e zolfo, analizzatori di azoto e ossigeno. - Analisi di rilevamento difetti metallografici
- Il materiale target viene ispezionato utilizzando apparecchiature di rilevamento dei difetti per garantire che non vi siano difetti o fori di ritiro all'interno del prodotto;
Attraverso i test metallografici, viene analizzata la struttura interna dei grani del materiale target per garantire che i grani siano fini e densi. - Controllo dell'aspetto e delle dimensioni
- Le dimensioni del prodotto sono misurate utilizzando micrometri e calibri di precisione per garantire la conformità ai disegni;
La finitura superficiale e la pulizia del prodotto vengono misurate utilizzando un misuratore di pulizia della superficie.
Dimensioni target convenzionali dello sputtering
- Processo di preparazione
- pressatura isostatica a caldo, fusione sotto vuoto, ecc.
- Forma bersaglio sputtering
- sputtering piano bersaglio, bersaglio sputtering multi-arco, bersaglio sputtering a gradini, bersaglio sputtering a forma speciale
- Dimensione target sputtering rotondo
- Diametro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Spessore: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Le dimensioni possono essere personalizzate. - Dimensione target sputtering quadrato
- 50×50×3 mm / 100×100×4 mm / 300×300×5 mm, le dimensioni possono essere personalizzate
Forme metalliche disponibili
Dettagli forme metalliche
Produciamo quasi tutti i metalli elencati nella tavola periodica in un'ampia gamma di forme e purezze, nonché come misure e dimensioni standard. Possiamo anche produrre prodotti su misura per soddisfare le esigenze specifiche del cliente, come dimensioni, forma, superficie, composizione e altro. L'elenco seguente fornisce un esempio dei moduli che offriamo, ma non è esaustivo. Se hai bisogno di materiali di consumo per laboratorio, contattaci direttamente per richiedere un preventivo.
- Forme piatte/planari: cartone, pellicola, lamina, microfoglio, microfoglio, carta, lastra, nastro, foglio, striscia, Nastro, Wafer
- Forme preformate: Anodi, sfere, fasce, barre, barchette, bulloni, bricchette, catodi, cerchi, bobine, crogioli, cristalli, cubi, tazze, cilindri, dischi, elettrodi, fibre, filamenti , flange, griglie, lenti, mandrini, dadi, parti, prismi, dischi, anelli, aste, forme, scudi, manicotti, molle, quadrati, bersagli sputtering, bastoncini, tubi, rondelle, finestre, fili
- Microdimensioni: Perle, Pezzetti, Capsule, Trucioli, Monete, Polvere, Scaglie, Grani, Granuli, Micropolvere, Aghi, Particelle, Ciottoli, Pellet, Spilli, Pillole, Polvere, Trucioli, Pallini, Lumache, Sfere, Compresse < li>Macrodimensioni: Billette, Pezzi, Ritagli, Frammenti, Lingotti, Grumi, Nuggets, Pezzi, Tranciature, Rocce, Scarti, Segmenti, Torniture
- Porosi e Semiporosi: Tessuto, Schiuma, Garza, Nido d'ape, Rete, spugna, lana
- Nanoscala: nanoparticelle, nanopolveri, nanofogli, nanotubi, nanotubi, nanoprismi
- Altro: concentrato, inchiostro, pasta, precipitato, residuo, campioni, campioni
KinTek è specializzata nella produzione di materiali di elevata e ultra-purezza con un intervallo di purezza del 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e in alcuni casi, fino al 99,99999% (7N). I nostri materiali sono disponibili in qualità specifiche, tra cui UP/UHP, semiconduttori, elettronica, deposizione, fibra ottica e MBE. I nostri metalli, ossidi e composti di elevata purezza sono realizzati appositamente per soddisfare le rigorose esigenze delle applicazioni ad alta tecnologia e sono ideali per l'uso come droganti e materiali precursori per la deposizione di film sottili, la crescita dei cristalli di semiconduttori e la sintesi di nanomateriali. Questi materiali trovano impiego nella microelettronica avanzata, nelle celle solari, nelle celle a combustibile, nei materiali ottici e in altre applicazioni all'avanguardia.
Imballaggio
Utilizziamo il vuoto imballaggio per i nostri materiali ad elevata purezza e ogni materiale ha un imballaggio specifico su misura per le sue caratteristiche uniche. Ad esempio, il nostro target sputter Hf è contrassegnato ed etichettato esternamente per facilitare l'identificazione e il controllo di qualità efficienti. Facciamo molta attenzione a prevenire eventuali danni che potrebbero verificarsi durante lo stoccaggio o il trasporto.
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