Conoscenza Che cosa sono il catodo e l'anodo nello sputtering?
Avatar dell'autore

Squadra tecnologica · Kintek Solution

Aggiornato 1 settimana fa

Che cosa sono il catodo e l'anodo nello sputtering?

Nello sputtering, il catodo è il materiale bersaglio che viene bombardato da ioni energetici, solitamente ioni di argon, provenienti dal plasma di una scarica gassosa. L'anodo è tipicamente il substrato o le pareti della camera da vuoto dove gli atomi del bersaglio espulsi vengono depositati, formando un rivestimento.

Spiegazione di catodo:

Il catodo in un sistema di sputtering è il materiale bersaglio che riceve una carica negativa e viene bombardato da ioni positivi provenienti dal gas di sputtering. Questo bombardamento avviene grazie all'applicazione di una sorgente CC ad alta tensione nello sputtering CC, che accelera gli ioni positivi verso il bersaglio con carica negativa. Il materiale bersaglio, che funge da catodo, è il luogo in cui avviene il processo di sputtering vero e proprio. Gli ioni energetici si scontrano con la superficie del catodo, provocando l'espulsione di atomi dal materiale bersaglio.Spiegazione dell'anodo:

L'anodo nello sputtering è tipicamente il substrato su cui deve essere depositato il rivestimento. In alcune configurazioni, anche le pareti della camera da vuoto possono fungere da anodo. Il substrato viene posizionato nel percorso degli atomi espulsi dal catodo, consentendo a questi atomi di formare un rivestimento in film sottile sulla sua superficie. L'anodo è collegato alla massa elettrica, fornendo un percorso di ritorno per la corrente e garantendo la stabilità elettrica del sistema.

Dettagli del processo:

Il processo di sputtering inizia con la ionizzazione del gas inerte nella camera a vuoto, in genere argon. Il materiale bersaglio (catodo) è carico negativamente e attrae gli ioni di argon carichi positivamente. Questi ioni accelerano verso il catodo grazie alla tensione applicata, collidendo con il materiale bersaglio ed espellendo gli atomi. Questi atomi espulsi viaggiano e si depositano sul substrato (anodo), formando un film sottile. Il processo richiede un attento controllo dell'energia e della velocità degli ioni, che possono essere influenzati da campi elettrici e magnetici, per garantire un'efficace deposizione del rivestimento.

Prodotti correlati

Rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni Crogiolo di rame senza ossigeno

Rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni Crogiolo di rame senza ossigeno

Il crogiolo di rame senza ossigeno per il rivestimento per evaporazione a fascio di elettroni consente una precisa co-deposizione di vari materiali. La temperatura controllata e il raffreddamento ad acqua garantiscono una deposizione di film sottili pura ed efficiente.

Crogiolo a fascio di elettroni

Crogiolo a fascio di elettroni

Nel contesto dell'evaporazione del fascio di elettroni, un crogiolo è un contenitore o porta-sorgente utilizzato per contenere ed evaporare il materiale da depositare su un substrato.

Obiettivo di sputtering in lega di rame e zirconio (CuZr) / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering in lega di rame e zirconio (CuZr) / polvere / filo / blocco / granulo

Scoprite la nostra gamma di materiali in lega di rame e zirconio a prezzi accessibili, su misura per le vostre esigenze specifiche. Sfogliate la nostra selezione di bersagli per sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora.

Crogiolo di grafite per evaporazione a fascio di elettroni

Crogiolo di grafite per evaporazione a fascio di elettroni

Una tecnologia utilizzata principalmente nel campo dell'elettronica di potenza. Si tratta di un film di grafite realizzato con materiale di origine di carbonio mediante deposizione di materiale con tecnologia a fascio di elettroni.

Obiettivo di sputtering di carbonio (C) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering di carbonio (C) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Cercate materiali al carbonio (C) a prezzi accessibili per le vostre esigenze di laboratorio? Non cercate oltre! I nostri materiali, prodotti con competenza e su misura, sono disponibili in una varietà di forme, dimensioni e purezza. Scegliete tra bersagli per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora.

Bersaglio di sputtering di cobalto (Co) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Bersaglio di sputtering di cobalto (Co) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Ottenete materiali di cobalto (Co) a prezzi accessibili per uso di laboratorio, su misura per le vostre esigenze specifiche. La nostra gamma comprende bersagli per sputtering, polveri, lamine e altro ancora. Contattateci oggi stesso per soluzioni personalizzate!

Bersaglio di sputtering di piombo (Pb) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Bersaglio di sputtering di piombo (Pb) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Cercate materiali al piombo (Pb) di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio? Non cercate oltre la nostra selezione specializzata di opzioni personalizzabili, tra cui target di sputtering, materiali di rivestimento e altro ancora. Contattateci oggi stesso per ottenere prezzi competitivi!

Solfuro di stagno (SnS2) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo

Solfuro di stagno (SnS2) target di sputtering / polvere / filo / blocco / granulo

Trovate materiali di alta qualità a base di solfuro di stagno (SnS2) per il vostro laboratorio a prezzi accessibili. I nostri esperti producono e personalizzano i materiali per soddisfare le vostre esigenze specifiche. Scoprite la nostra gamma di target per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora.

Obiettivo di sputtering in lega di alluminio e litio (AlLi) / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering in lega di alluminio e litio (AlLi) / polvere / filo / blocco / granulo

Cercate materiali in lega litio-alluminio per il vostro laboratorio? I nostri materiali AlLi, prodotti con competenza e su misura, sono disponibili in varie purezza, forme e dimensioni, tra cui bersagli per sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora. Ottenete oggi stesso prezzi ragionevoli e soluzioni uniche.

Target di sputtering di solfuro di zinco (ZnS) / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Target di sputtering di solfuro di zinco (ZnS) / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Ottenete materiali di solfuro di zinco (ZnS) a prezzi accessibili per le vostre esigenze di laboratorio. Produciamo e personalizziamo materiali ZnS di diversa purezza, forma e dimensione. Scegliete tra un'ampia gamma di target per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora.

Macchina di rivestimento PECVD con evaporazione potenziata da plasma

Macchina di rivestimento PECVD con evaporazione potenziata da plasma

Potenziate il vostro processo di rivestimento con le apparecchiature di rivestimento PECVD. Ideale per LED, semiconduttori di potenza, MEMS e altro ancora. Deposita film solidi di alta qualità a basse temperature.

Attrezzatura per il rivestimento di nano-diamante HFCVD con stampo di trafilatura

Attrezzatura per il rivestimento di nano-diamante HFCVD con stampo di trafilatura

Lo stampo di trafilatura con rivestimento composito di nano-diamante utilizza il carburo cementato (WC-Co) come substrato e utilizza il metodo della fase di vapore chimico (in breve, il metodo CVD) per rivestire il diamante convenzionale e il rivestimento composito di nano-diamante sulla superficie del foro interno dello stampo.

Crogiolo di evaporazione in grafite

Crogiolo di evaporazione in grafite

Vasche per applicazioni ad alta temperatura, dove i materiali vengono mantenuti a temperature estremamente elevate per evaporare, consentendo la deposizione di film sottili sui substrati.

Sistema RF PECVD Deposizione di vapore chimico potenziata da plasma a radiofrequenza

Sistema RF PECVD Deposizione di vapore chimico potenziata da plasma a radiofrequenza

RF-PECVD è l'acronimo di "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (film di carbonio simile al diamante) su substrati di germanio e silicio. Viene utilizzato nella gamma di lunghezze d'onda dell'infrarosso da 3 a 12um.

Carburo di boro (BC) bersaglio sputtering / polvere / filo / blocco / granulo

Carburo di boro (BC) bersaglio sputtering / polvere / filo / blocco / granulo

Ottenete materiali in carburo di boro di alta qualità a prezzi ragionevoli per le vostre esigenze di laboratorio. Personalizziamo materiali BC di diversa purezza, forma e dimensione, tra cui bersagli per sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora.

Forno di sinterizzazione al plasma scintillante Forno SPS

Forno di sinterizzazione al plasma scintillante Forno SPS

Scoprite i vantaggi dei forni di sinterizzazione al plasma di scintilla per la preparazione rapida e a bassa temperatura dei materiali. Riscaldamento uniforme, basso costo ed eco-compatibilità.

Barca di evaporazione in ceramica alluminata

Barca di evaporazione in ceramica alluminata

Vaso per la deposizione di film sottili; ha un corpo ceramico rivestito in alluminio per migliorare l'efficienza termica e la resistenza chimica, rendendolo adatto a varie applicazioni.

Forno ad arco sottovuoto non consumabile Forno fusorio a induzione

Forno ad arco sottovuoto non consumabile Forno fusorio a induzione

Scoprite i vantaggi dei forni ad arco sottovuoto non consumabili con elettrodi ad alto punto di fusione. Piccolo, facile da usare ed ecologico. Ideale per la ricerca di laboratorio su metalli refrattari e carburi.

Macchina per forno tubolare rotante inclinato per la deposizione chimica potenziata al plasma (PECVD)

Macchina per forno tubolare rotante inclinato per la deposizione chimica potenziata al plasma (PECVD)

Vi presentiamo il nostro forno PECVD rotativo inclinato per la deposizione precisa di film sottili. La sorgente si abbina automaticamente, il controllo della temperatura programmabile PID e il controllo del flussimetro di massa MFC ad alta precisione. Funzioni di sicurezza integrate per la massima tranquillità.

Platino (Pt) di elevata purezza Target sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Platino (Pt) di elevata purezza Target sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Obiettivi, polveri, fili, blocchi e granuli di platino (Pt) di elevata purezza a prezzi accessibili. Su misura per le vostre esigenze specifiche, con diverse dimensioni e forme disponibili per varie applicazioni.

Forno a caldo per tubi sottovuoto

Forno a caldo per tubi sottovuoto

Riducete la pressione di formatura e abbreviate il tempo di sinterizzazione con il forno a caldo a tubi sottovuoto per materiali ad alta densità e a grana fine. Ideale per i metalli refrattari.


Lascia il tuo messaggio