Il rivestimento PVD (physical vapor deposition coating) è un processo che prevede il deposito di un sottile strato di materiale sulla superficie di un substrato.
Il materiale viene vaporizzato e poi depositato sul substrato in una camera a vuoto.
In questo modo si ottiene un rivestimento sottile e uniforme.
5 fasi chiave spiegate
1. Pulizia del substrato
Il substrato viene sottoposto a un processo di pulizia per rimuovere sporco, detriti o contaminanti.
Si possono utilizzare diversi metodi di pulizia, come la pulizia meccanica o chimica.
2. Pretrattamento
Il substrato viene sottoposto a un pretrattamento per migliorare l'adesione del rivestimento.
Per creare una superficie ruvida sul substrato si possono utilizzare tecniche come l'anodizzazione o l'incisione al plasma.
3. Deposizione sotto vuoto
Il substrato è pronto per il rivestimento PVD in una camera di deposizione sotto vuoto.
Il materiale di destinazione, che formerà il rivestimento, viene riscaldato fino a vaporizzarlo.
Il materiale vaporizzato viene quindi depositato sulla superficie del substrato.
4. Formazione del rivestimento
Il processo forma un film sottile con uno spessore che va da pochi nanometri a pochi micrometri.
Il processo di deposizione sotto vuoto garantisce che il rivestimento PVD sia privo di impurità.
5. Vantaggi del rivestimento PVD
Il rivestimento PVD offre miglioramenti significativi in termini di durezza, resistenza alla corrosione, riduzione dell'usura e aspetto estetico.
Il processo prevede fasi di pulizia e pretrattamento prima che il rivestimento PVD vero e proprio avvenga in una camera di deposizione sotto vuoto.
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