Accessori e materiali di consumo per apparecchiature di analisi
Navicella di combustione in ceramica di allumina ad alta purezza per forni a tubo e sintesi di materiali
Numero articolo : KT-CZ
Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni
- Temperatura massima di esercizio
- 1800°C
- Composizione del materiale
- 99,7% Alfa-Al2O3 ad alta purezza
- Densità apparente
- ≥ 3,92 g/cm³
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Panoramica del prodotto
Questa navicella in ceramica ad alta purezza è un recipiente da laboratorio indispensabile, progettato per trattamenti termici ad alta temperatura, deposizione chimica da vapore (CVD) e calcinazione precisa dei campioni. Realizzato in corindone sinterizzato di prima qualità, questo consumabile offre un'eccellente stabilità strutturale e una resistenza allo shock termico superiore all'interno di forni a tubo orizzontali e verticali. La sua superficie densa e non porosa impedisce a scorie fuse, agenti fondenti e vapori reattivi di infiltrare la matrice, preservando così l'integrità critica della linea di base durante i flussi di lavoro analitici.
Progettato principalmente per laboratori di ricerca avanzata, linee di fabbricazione di semiconduttori e impianti pilota metallurgici, il recipiente accoglie polveri sensibili, precursori metallici e composti inorganici. Posizionando materie prime indipendenti in recipienti separati lungo il tubo del forno, i ricercatori possono regolare con precisione la distribuzione dei reagenti, il trasferimento di massa dei volatili e i percorsi di diffusione in fase gassosa. Che si tratti di sintesi di catalizzatori, calcinazione di catodi per batterie o ricottura in atmosfera controllata, questo consumabile offre un contenimento affidabile durante cicli termici rapidi.
Progettato per resistere ad ambienti operativi gravosi fino a 1800 °C, il prodotto mantiene un'eccezionale rigidità meccanica e ripetibilità dimensionale sottovuoto e in atmosfere gassose aggressive. Mostra un'inerzia chimica quasi totale se esposto a vapori volatili come il pentasolfuro di fosforo e catalizzatori di metalli di transizione ad alta temperatura. I team di approvvigionamento e i responsabili di laboratorio ottengono un consumabile eccezionalmente durevole ed economico, che riduce al minimo la deriva della linea di base e previene la contaminazione incrociata nei protocolli sperimentali più impegnativi.
Caratteristiche principali
- Elevata resistenza allo shock termico: Prodotta mediante pressatura isostatica di precisione e cottura ad alta temperatura, la matrice cristallina tollera rapidi cicli di riscaldamento e raffreddamento senza microfessurazioni, sfaldamenti o affaticamento strutturale.
- Eccezionale inerzia chimica: Formulato in allumina alfa ad alta purezza, questo recipiente resiste all'attacco corrosivo di fondenti acidi, metalli fusi, gas riducenti e vapori di fosforo reattivi, eliminando reazioni incrociate indesiderate tra campione e substrato.
- Architettura ottimizzata per la diffusione dei gas: Le pareti laterali a basso profilo e le geometrie della base piane e uniformi facilitano il flusso laminare del gas di processo sui letti dei reagenti, favorendo reazioni omogenee in fase vapore e una completa penetrazione termica.
- Microstruttura ultra-densa: Una densità apparente superiore a 3,90 g/cm³ e una porosità apparente quasi nulla eliminano l'infiltrazione di fusi, consentendo una facile pulizia dei residui e riducendo il trascinamento di tracce tra le iterazioni analitiche.
- Resistenza allo scorrimento (creep) ad alta temperatura: L'eccezionale resistenza meccanica a flessione ad elevate temperature garantisce che il recipiente mantenga il proprio profilo sotto carichi pesanti di polvere senza deformazioni o imbarcamenti durante cicli di permanenza di più giorni.
- Matrice sinterizzata priva di contaminanti: La rigorosa classificazione delle materie prime garantisce impurità in tracce minime di alcali e silice, prevenendo la deriva della linea di base nelle analisi spettrografiche ed eliminando la diffusione di droganti estranei durante la lavorazione dei semiconduttori.
- Compatibilità universale con forni a tubo: Le tolleranze dimensionali standardizzate consentono l'inserimento agevole, il posizionamento spaziale a zone e il recupero magnetico o manuale tramite aste di spinta in allumina e quarzo all'interno di tubi di lavoro di vari diametri interni.
Applicazioni
| Applicazione | Descrizione | Vantaggio principale |
|---|---|---|
| Deposizione chimica da vapore (CVD) | Funge da supporto inerte per precursori solidi all'interno di forni a tubo di quarzo orizzontali durante la sintesi di materiali 2D, come la crescita di grafene e dicalcogenuri di metalli di transizione. | Previene la contaminazione dei precursori e fornisce tassi di generazione di vapore prevedibili attraverso superfici di evaporazione controllate. |
| Sintesi di batterie a stato |
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