Conoscenza Qual è lo spessore del grafene CVD?Liberare il potenziale del grafene monostrato
Avatar dell'autore

Squadra tecnologica · Kintek Solution

Aggiornato 2 settimane fa

Qual è lo spessore del grafene CVD?Liberare il potenziale del grafene monostrato

Lo spessore del grafene CVD è tipicamente quello di un monostrato, pari a circa 0,34 nanometri (nm).Questo strato dello spessore di un singolo atomo è una delle caratteristiche che definiscono il grafene prodotto tramite deposizione da vapore chimico (CVD).La CVD è ampiamente considerata il metodo più promettente per produrre grafene monostrato di alta qualità e di ampia superficie, rendendolo adatto a varie applicazioni avanzate.Il processo prevede la crescita del grafene su substrati metallici, come rame o nichel, attraverso la diffusione del carbonio o l'adsorbimento superficiale.Il grafene risultante è altamente trasparente, conduttivo e scalabile, con eccezionali proprietà meccaniche ed elettriche.

Punti chiave spiegati:

Qual è lo spessore del grafene CVD?Liberare il potenziale del grafene monostrato
  1. Spessore monostrato del grafene CVD:

    • Il grafene CVD è tipicamente un monostrato, con uno spessore di circa 0,34 nm .Ciò equivale allo spessore di un singolo strato di atomi di carbonio nel reticolo del grafene.
    • La natura monostrato del grafene CVD è uno dei suoi vantaggi più significativi, in quanto garantisce elevata trasparenza, flessibilità e conduttività.
  2. Processo CVD per la produzione di grafene:

    • La CVD prevede l'uso di gas idrocarburi e substrati metallici (ad esempio, rame o nichel) per far crescere il grafene.La scelta del substrato dipende dalla solubilità del carbonio del metallo:
      • Metalli ad alta solubilità di carbonio (es. nichel):Il grafene si forma attraverso la diffusione e la segregazione del carbonio.
      • Metalli a bassa solubilità di carbonio (ad es. rame):Il grafene si forma attraverso l'adsorbimento superficiale.
    • Questo metodo consente di produrre grafene di alta qualità e di grande superficie, con un controllo preciso del numero di strati.
  3. Vantaggi del grafene CVD:

    • Alta qualità:Il grafene CVD presenta elevata omogeneità, purezza e impermeabilità.
    • Scalabilità:È uno dei metodi più scalabili per la produzione di grafene, che lo rende adatto alle applicazioni industriali.
    • Costo-efficacia:Rispetto ad altri metodi, la CVD è relativamente poco costosa per produrre grafene monostrato.
  4. Confronto con altri metodi di deposizione:

    • A differenza della deposizione fisica da vapore (PVD), che in genere produce film più spessi (2-5 micron), il grafene CVD è molto più sottile (monostrato o pochi strati).
    • I film CVD sono anche più morbidi e malleabili di quelli PVD, il che li rende adatti all'elettronica flessibile e ad altre applicazioni che richiedono flessibilità meccanica.
  5. Applicazioni del grafene CVD:

    • Pellicole conduttive trasparenti:Grazie alla sua elevata trasparenza e conduttività, il grafene CVD è ideale per l'uso in touchscreen, display e celle solari.
    • Sostituisce la tecnologia del silicio:Le sue eccezionali proprietà elettriche lo rendono un candidato per l'elettronica di prossima generazione.
    • Applicazioni meccaniche e strutturali:La sua elevata elasticità e resistenza meccanica lo rendono adatto all'uso nei compositi e in altri materiali strutturali.
  6. Potenziale futuro:

    • Le proprietà uniche del grafene CVD, come l'ampia area superficiale, l'elevata conduttività e la resistenza meccanica, aprono la strada ad applicazioni innovative in vari campi, tra cui l'accumulo di energia, i sensori e i dispositivi biomedici.

In sintesi, lo spessore del grafene CVD è tipicamente di 0,34 nm, corrispondente a un singolo strato atomico.Questa struttura monostrato, unita all'alta qualità, alla scalabilità e all'economicità, rende il grafene CVD un materiale molto promettente per un'ampia gamma di applicazioni avanzate.

Tabella riassuntiva:

Aspetto Dettagli
Spessore 0,34 nm (monostrato)
Metodo di produzione Deposizione chimica da vapore (CVD)
Substrati Rame (bassa solubilità del carbonio), Nichel (alta solubilità del carbonio)
Vantaggi principali Elevata trasparenza, conduttività, scalabilità e convenienza economica
Applicazioni Film conduttivi trasparenti, elettronica, compositi, accumulo di energia, ecc.
Confronto con la PVD Più sottile (monostrato contro 2-5 micron) e più flessibile

Siete interessati a sfruttare il grafene CVD per il vostro prossimo progetto? Contattate i nostri esperti oggi stesso per saperne di più!

Prodotti correlati

Rivestimento diamantato CVD

Rivestimento diamantato CVD

Rivestimento diamantato CVD: Conducibilità termica, qualità dei cristalli e adesione superiori per utensili da taglio, attrito e applicazioni acustiche

Diamante CVD per la gestione termica

Diamante CVD per la gestione termica

Diamante CVD per la gestione termica: Diamante di alta qualità con conduttività termica fino a 2000 W/mK, ideale per diffusori di calore, diodi laser e applicazioni GaN on Diamond (GOD).

Diamante drogato con boro CVD

Diamante drogato con boro CVD

Diamante drogato con boro CVD: Un materiale versatile che consente di ottenere conducibilità elettrica, trasparenza ottica e proprietà termiche eccezionali per applicazioni in elettronica, ottica, rilevamento e tecnologie quantistiche.

Diamante CVD per la ravvivatura degli utensili

Diamante CVD per la ravvivatura degli utensili

Provate le prestazioni imbattibili dei diamanti grezzi CVD: Elevata conduttività termica, eccezionale resistenza all'usura e indipendenza dall'orientamento.

Stampi per trafilatura a filo diamantato CVD

Stampi per trafilatura a filo diamantato CVD

Stampi per trafilatura a filo diamantato CVD: durezza, resistenza all'abrasione e applicabilità superiori per la trafilatura di vari materiali. Ideale per applicazioni di lavorazione con usura abrasiva, come la lavorazione della grafite.

Macchina di rivestimento PECVD con evaporazione potenziata da plasma

Macchina di rivestimento PECVD con evaporazione potenziata da plasma

Potenziate il vostro processo di rivestimento con le apparecchiature di rivestimento PECVD. Ideale per LED, semiconduttori di potenza, MEMS e altro ancora. Deposita film solidi di alta qualità a basse temperature.

Macchina diamantata MPCVD a risonatore cilindrico per la crescita del diamante in laboratorio

Macchina diamantata MPCVD a risonatore cilindrico per la crescita del diamante in laboratorio

Scoprite la macchina MPCVD con risonatore cilindrico, il metodo di deposizione di vapore chimico al plasma a microonde utilizzato per la crescita di gemme e film di diamante nell'industria dei gioielli e dei semiconduttori. Scoprite i suoi vantaggi economici rispetto ai metodi tradizionali HPHT.

Sistema RF PECVD Deposizione di vapore chimico potenziata da plasma a radiofrequenza

Sistema RF PECVD Deposizione di vapore chimico potenziata da plasma a radiofrequenza

RF-PECVD è l'acronimo di "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition". Deposita DLC (film di carbonio simile al diamante) su substrati di germanio e silicio. Viene utilizzato nella gamma di lunghezze d'onda dell'infrarosso da 3 a 12um.

Macchina CVD versatile con forno a tubo CVD, realizzata dal cliente

Macchina CVD versatile con forno a tubo CVD, realizzata dal cliente

Ottenete il vostro forno CVD esclusivo con KT-CTF16 Customer Made Versatile Furnace. Funzioni di scorrimento, rotazione e inclinazione personalizzabili per reazioni precise. Ordinate ora!

Crogiolo di grafite per evaporazione a fascio di elettroni

Crogiolo di grafite per evaporazione a fascio di elettroni

Una tecnologia utilizzata principalmente nel campo dell'elettronica di potenza. Si tratta di un film di grafite realizzato con materiale di origine di carbonio mediante deposizione di materiale con tecnologia a fascio di elettroni.

Attrezzatura per il rivestimento di nano-diamante HFCVD con stampo di trafilatura

Attrezzatura per il rivestimento di nano-diamante HFCVD con stampo di trafilatura

Lo stampo di trafilatura con rivestimento composito di nano-diamante utilizza il carburo cementato (WC-Co) come substrato e utilizza il metodo della fase di vapore chimico (in breve, il metodo CVD) per rivestire il diamante convenzionale e il rivestimento composito di nano-diamante sulla superficie del foro interno dello stampo.

Crogiolo di evaporazione in grafite

Crogiolo di evaporazione in grafite

Vasche per applicazioni ad alta temperatura, dove i materiali vengono mantenuti a temperature estremamente elevate per evaporare, consentendo la deposizione di film sottili sui substrati.

Macchina diamantata MPCVD a 915 MHz

Macchina diamantata MPCVD a 915 MHz

La macchina diamantata MPCVD a 915MHz e la sua crescita multi-cristallo efficace, l'area massima può raggiungere 8 pollici, l'area massima di crescita efficace del cristallo singolo può raggiungere 5 pollici. Questa apparecchiatura è utilizzata principalmente per la produzione di pellicole di diamante policristallino di grandi dimensioni, per la crescita di lunghi diamanti a cristallo singolo, per la crescita a bassa temperatura di grafene di alta qualità e per altri materiali che richiedono energia fornita dal plasma a microonde per la crescita.

Grezzi per utensili da taglio

Grezzi per utensili da taglio

Utensili da taglio diamantati CVD: Resistenza all'usura superiore, basso attrito, elevata conducibilità termica per la lavorazione di materiali non ferrosi, ceramica e materiali compositi.


Lascia il tuo messaggio