La deposizione fisica da vapore (PVD) è un processo utilizzato per rivestire una superficie metallica con una sottile pellicola di un altro materiale.
Questo processo migliora le proprietà superficiali del metallo, rendendolo più duro e resistente.
Il PVD prevede la vaporizzazione di un materiale solido in un ambiente sotto vuoto.
Il materiale vaporizzato viene poi depositato su un substrato.
Il rivestimento non è uno strato spesso, ma piuttosto un minuscolo accumulo che si lega a livello di micron.
Questo legame altera le proprietà fisiche della superficie metallica.
Il PVD è ampiamente utilizzato in diversi settori e prodotti, tra cui chip per computer, dispositivi ottici, pannelli solari e dispositivi medici.
Migliora le prestazioni creando superfici più lisce e riducendo la rugosità.
4 punti chiave per comprendere la deposizione fisica da vapore
1. Miglioramento delle proprietà superficiali
La PVD rende la superficie del metallo più dura e resistente.
2. Ambiente sotto vuoto
Il processo prevede la vaporizzazione di un materiale solido nel vuoto.
3. Deposizione di film sottile
Il materiale vaporizzato viene depositato su un substrato in uno strato sottile, a livello di micron.
4. Ampia applicazione industriale
Il PVD viene utilizzato nei chip dei computer, nei dispositivi ottici, nei pannelli solari e nei dispositivi medici per migliorare le prestazioni.
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