I film sottili depositati mediante evaporazione a fascio di elettroni sono utilizzati principalmente in applicazioni ottiche come pannelli solari, occhiali e vetri architettonici. Questo metodo trova applicazione anche nell'industria aerospaziale e automobilistica, grazie alla sua capacità di produrre materiali resistenti alle alte temperature e all'usura.
Processo di evaporazione a fascio di elettroni:
Nel processo di evaporazione a fascio di elettroni, un fascio di elettroni altamente caricato viene utilizzato per far evaporare il materiale target. Il fascio di elettroni viene focalizzato sul materiale bersaglio attraverso l'uso di un campo magnetico e il bombardamento di elettroni genera un calore sufficiente a far evaporare un'ampia gamma di materiali, compresi quelli con punti di fusione molto elevati. Il materiale evaporato si deposita quindi sul substrato, formando il film sottile. Il processo viene condotto a bassa pressione in camera per evitare che i gas di fondo reagiscano chimicamente con il film.Applicazioni e materiali:
L'evaporazione a fascio di elettroni offre una vasta scelta di materiali, compresi quelli metallici e dielettrici. Questa tecnica è versatile e può essere utilizzata per vari scopi, come applicazioni lift-off, ohmiche, isolanti, conduttive e ottiche. Il processo è particolarmente apprezzato per la sua capacità di depositare strati multipli, facilitata da sorgenti come la sorgente a quattro tasche rotanti.
Vantaggi e controllo:
Uno dei vantaggi significativi dell'evaporazione a fascio di elettroni è la sua controllabilità e ripetibilità. Consente inoltre l'uso di una sorgente ionica per migliorare le caratteristiche prestazionali del film sottile. Il processo è altamente controllabile e consente una deposizione precisa dei materiali, fondamentale per le applicazioni che richiedono proprietà ottiche specifiche o un'elevata resistenza ai fattori ambientali.