L'alternativa alla XRF (fluorescenza a raggi X) per l'analisi degli elementi comprende tecniche come la spettrometria a emissione ottica (OES) e la spettrometria di ripartizione indotta da laser (LIBS). Questi metodi possono analizzare direttamente i pezzi in lavorazione senza una preparazione approfondita del campione, ma presentano delle limitazioni rispetto all'XRF. OES e LIBS possono lasciare segni visibili sui campioni, il che può essere uno svantaggio quando è fondamentale preservare l'integrità del pezzo.
Spettrometria di emissione ottica (OES):
L'OES è una tecnica che utilizza la luce emessa dagli atomi eccitati per determinare la composizione elementare di un materiale. È particolarmente utile per rilevare elementi con basso numero atomico e può fornire un'analisi quantitativa accurata. Tuttavia, l'OES richiede una scintilla per eccitare gli atomi, che può causare danni fisici al campione, rendendola meno adatta ai test non distruttivi.Spettrometria a ripartizione indotta da laser (LIBS):
La LIBS utilizza un impulso laser ad alta potenza per creare un microplasma sulla superficie del campione, che emette luce. Lo spettro di questa luce viene poi analizzato per determinare la composizione elementare. Il LIBS è vantaggioso per la sua capacità di analizzare solidi, liquidi e gas senza una significativa preparazione del campione. Tuttavia, come l'OES, può lasciare segni sul campione a causa dell'impatto del laser ad alta energia.
