La Physical Vapor Deposition (PVD) è un processo cruciale in diversi settori industriali e offre due tipi principali: occlusivo e funzionale.
Quali sono i due tipi di PVD? (Spiegato in 4 punti chiave)
1. PVD occlusivo
La PVD occlusiva prevede la creazione di uno strato molto sottile di materiale attraverso il processo di deposizione fisica del vapore.
Questa tecnica è ampia e comprende vari metodi specifici.
L'obiettivo principale della PVD occlusiva è creare una barriera o un sigillo sulla superficie di un materiale.
Questo tipo di rivestimento PVD è comunemente utilizzato per applicazioni che richiedono resistenza alla corrosione, all'usura o agli agenti chimici.
2. PVD funzionale
Anche il PVD funzionale prevede la creazione di un sottile strato di materiale attraverso la deposizione fisica di vapore.
Tuttavia, lo scopo della PVD funzionale è quello di migliorare la funzionalità o le prestazioni del materiale.
Ciò può includere il miglioramento della durezza, della lubrificazione o delle proprietà ottiche.
I rivestimenti PVD funzionali sono comunemente utilizzati in settori come quello automobilistico, aerospaziale ed elettronico.
3. PVD vs. CVD
È importante notare che PVD e CVD (Chemical Vapor Deposition) sono due metodi diversi per applicare rivestimenti alla superficie di un materiale.
La PVD si basa sulla deposizione fisica da vapore, mentre la CVD si basa sulla deposizione chimica da vapore.
I materiali che possono depositare, le condizioni di applicazione e le proprietà dei rivestimenti prodotti possono essere diversi.
4. Applicazioni e vantaggi
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