La pulizia di un target di sputtering è fondamentale per ottenere una deposizione di film sottile di alta qualità.
Ecco una guida passo passo per assicurarsi che il target di sputtering sia pulito e pronto all'uso.
Come si pulisce un target di sputtering? 4 fasi e precauzioni essenziali
Fase 1: Pulire con un panno morbido e privo di lanugine imbevuto di acetone.
Questo aiuterà a rimuovere la polvere o lo sporco eventualmente presenti sulla superficie del target.
Fase 2: pulizia con alcool
Questo passaggio aiuta ulteriormente a rimuovere eventuali contaminanti o residui sull'obiettivo.
Fase 3: pulizia con acqua deionizzata
L'acqua deionizzata viene utilizzata per garantire che le impurità o i residui rimanenti vengano rimossi completamente dal target.
Fase 4: asciugare il target in un forno
Dopo la pulizia con acqua deionizzata, posizionare il target nel forno e asciugarlo a 100 ℃ per 30 minuti.
Questa fase è importante per garantire che il target sia completamente asciutto prima di un ulteriore utilizzo.
Precauzioni durante il processo di sputtering
1. Preparazione dello sputtering
È importante mantenere puliti la camera da vuoto e il sistema di sputtering.
Eventuali residui o contaminanti possono aumentare la possibilità di rottura del film o di cortocircuiti del sistema.
2. Installazione del target
Assicurare una buona connessione termica tra il target e la parete di stabilizzazione della pistola sputtering.
Se la doga di raffreddamento o la piastra di supporto sono deformate, possono influire sulla conduttività termica e causare incrinature o piegature del target.
3. Mantenere la pulizia del gas di sputtering
Il gas di sputtering, come argon o ossigeno, deve essere pulito e asciugato per mantenere le caratteristiche di composizione del rivestimento.
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