Per pulire un bersaglio sputtering, procedere come segue:
Fase 1: pulire con un panno morbido e privo di lanugine imbevuto di acetone. Questo aiuterà a rimuovere la polvere o lo sporco eventualmente presenti sulla superficie del target.
Fase 2: pulire con l'alcol. Questo passaggio aiuta ulteriormente a rimuovere eventuali contaminanti o residui sull'obiettivo.
Fase 3: pulizia con acqua deionizzata. L'acqua deionizzata viene utilizzata per garantire che le impurità o i residui rimanenti vengano rimossi completamente dal target.
Fase 4: dopo la pulizia con acqua deionizzata, posizionare il target nel forno e asciugarlo a 100 ℃ per 30 minuti. Questa fase è importante per garantire che il target sia completamente asciutto prima di un ulteriore utilizzo.
Oltre alla pulizia del target di sputtering, è necessario prendere alcune precauzioni durante il processo di sputtering:
1. Preparazione dello sputtering: È importante mantenere puliti la camera da vuoto e il sistema di sputtering. Eventuali residui o contaminanti possono aumentare la possibilità di rottura del film o di cortocircuiti del sistema.
2. Installazione del target: Assicurare una buona connessione termica tra il target e la parete di stabilizzazione della pistola sputtering. Se la doga di raffreddamento o la piastra di supporto sono deformate, possono influire sulla conduttività termica e causare incrinature o piegature del target.
3. Mantenere la pulizia del gas di sputtering: Il gas di sputtering, come argon o ossigeno, deve essere pulito e asciugato per mantenere le caratteristiche di composizione del rivestimento.
In generale, la pulizia e la manutenzione del target di sputtering sono fondamentali per ottenere una deposizione di film sottile di alta qualità e per prevenire qualsiasi potenziale problema durante il processo di sputtering.
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