Il principale svantaggio dei sistemi di evaporazione termica è rappresentato dagli elevati livelli di impurità e dai film a bassa densità che ne derivano. Questo problema può essere mitigato in una certa misura dall'uso di sorgenti ioniche, ma rimane una limitazione significativa.
Alti livelli di impurità:
I sistemi di evaporazione termica tendono a presentare i livelli di impurità più elevati tra i metodi di deposizione fisica da vapore (PVD). Ciò è dovuto principalmente al fatto che il processo prevede il riscaldamento del materiale di partenza a una temperatura elevata in una camera a vuoto. Durante il riscaldamento, le impurità o i contaminanti presenti nel materiale di partenza possono evaporare e diventare parte del film depositato. Questo può portare a film di qualità scadente, compromettendo le prestazioni in applicazioni che richiedono un'elevata purezza.Film a bassa densità:
I film prodotti per evaporazione termica hanno spesso una bassa densità, il che significa che potrebbero non aderire bene al substrato ed essere porosi. Questa porosità può influire sulle proprietà meccaniche ed elettriche del film, rendendolo meno adatto alle applicazioni in cui è richiesto un film denso e uniforme. La bassa densità contribuisce anche agli alti livelli di impurità, poiché i pori possono intrappolare le impurità o permettere loro di migrare attraverso il film.
Mitigazione con l'aggiunta di ioni:
