L'evaporazione termica è un metodo utilizzato per preparare film sottili depositando materiali su un substrato in un ambiente ad alto vuoto.
4 fasi chiave della preparazione di film sottili mediante evaporazione termica
1. Riscaldamento del materiale di destinazione
Il materiale da depositare (il target) viene riscaldato ad alta temperatura.
In genere, si utilizza un riscaldamento resistivo o un fascio di elettroni.
Questo riscaldamento fa sì che il materiale sublimi o bolla, rilasciando vapore.
2. Trasporto del vapore
Il materiale vaporizzato viene quindi trasportato nella camera a vuoto.
L'ambiente sotto vuoto è fondamentale perché riduce al minimo la possibilità che il vapore si scontri con altre particelle.
Ciò garantisce un percorso diretto verso il substrato.
3. Condensazione sul substrato
Il vapore raggiunge il substrato e si condensa, formando un film sottile.
Lo spessore e l'uniformità del film dipendono da fattori quali la velocità di evaporazione, la distanza tra la sorgente e il substrato e la durata del processo.
4. Crescita e nucleazione del film
La ripetizione dei cicli di deposizione consente la crescita e la nucleazione del film sottile.
Questo è importante per ottenere le proprietà e lo spessore del film desiderati.
L'evaporazione termica è particolarmente utile in applicazioni come la creazione di strati di legame metallico in celle solari, transistor a film sottile, wafer di semiconduttori e OLED a base di carbonio.
Può depositare un singolo materiale o co-depositare strati di materiali diversi, a seconda dei requisiti specifici dell'applicazione.
Questo metodo è apprezzato per la sua semplicità e per i film di alta qualità che è in grado di produrre, rendendolo un punto fermo sia in laboratorio che in ambito industriale per la preparazione di film sottili.
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