Prodotti Materiali e materiali di laboratorio Materiali di laboratorio Lega di alluminio silicio ittrio (AlSiY) Sputtering Target / polvere / filo / blocco / granulo
Attiva/disattiva categorie
Lega di alluminio silicio ittrio (AlSiY) Sputtering Target / polvere / filo / blocco / granulo

Materiali di laboratorio

Lega di alluminio silicio ittrio (AlSiY) Sputtering Target / polvere / filo / blocco / granulo

Numero articolo : LM-AlSiY

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Formula chimica
AlSiY
Purezza
3N
Rapporto comunemente utilizzato
Al:Si:Y=94,3:4,5:1,2 wt%
Forma
dischi / filo / blocco / polvere / piastre / bersagli a colonna / bersaglio a gradini / su misura
ISO & CE icon

Spedizione:

Contattaci per ottenere i dettagli sulla spedizione. Buon divertimento Garanzia di spedizione puntuale.

Offriamo materiali in lega di alluminio silicio ittrio (AlSiY) a prezzi ragionevoli. Siamo specializzati nella produzione e nella personalizzazione di materiali AlSiY di diversa purezza, forma e dimensione per soddisfare le vostre esigenze specifiche.

La nostra selezione comprende una varietà di bersagli per sputtering (circolari, quadrati, tubolari, irregolari), materiali di rivestimento, cilindri, coni, particelle, lamine, polveri, polveri per stampa 3D, polveri nanometriche, vergelle, lingotti, blocchi e altro ancora, con diverse specifiche e dimensioni disponibili.

Dettagli

Obiettivo di sputtering in lega di alluminio silicio ittrio (AlSiY)
Obiettivo di sputtering in lega di alluminio silicio ittrio (AlSiY)

Informazioni sulla lega di alluminio silicio ittrio (AlSiY)

L'AlSiY è un materiale versatile che può essere personalizzato per soddisfare esigenze specifiche, rendendolo ideale per scopi sperimentali e di ricerca. Inoltre, è una scelta eccellente per le applicazioni industriali grazie alla sua durata e resistenza alla corrosione.

Nel campo dell'elettronica e dell'optoelettronica, i target AlSiY sono ampiamente utilizzati per la loro eccellente conducibilità elettrica, che li rende adatti alla produzione di film di alta qualità.

Controllo qualità ingredienti

Analisi della composizione della materia prima
Attraverso l'utilizzo di apparecchiature quali ICP e GDMS, il contenuto di impurità metalliche viene rilevato e analizzato per garantire che soddisfi lo standard di purezza;

Le impurità non metalliche vengono rilevate da apparecchiature quali analizzatori di carbonio e zolfo, analizzatori di azoto e ossigeno.
Analisi di rilevamento difetti metallografici
Il materiale target viene ispezionato utilizzando apparecchiature di rilevamento dei difetti per garantire che non vi siano difetti o fori di ritiro all'interno del prodotto;

Attraverso i test metallografici, viene analizzata la struttura interna dei grani del materiale target per garantire che i grani siano fini e densi.
Controllo dell'aspetto e delle dimensioni
Le dimensioni del prodotto sono misurate utilizzando micrometri e calibri di precisione per garantire la conformità ai disegni;

La finitura superficiale e la pulizia del prodotto vengono misurate utilizzando un misuratore di pulizia della superficie.

Dimensioni target convenzionali dello sputtering

Processo di preparazione
pressatura isostatica a caldo, fusione sotto vuoto, ecc.
Forma bersaglio sputtering
sputtering piano bersaglio, bersaglio sputtering multi-arco, bersaglio sputtering a gradini, bersaglio sputtering a forma speciale
Dimensione target sputtering rotondo
Diametro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Spessore: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Le dimensioni possono essere personalizzate.
Dimensione target sputtering quadrato
50×50×3 mm / 100×100×4 mm / 300×300×5 mm, le dimensioni possono essere personalizzate

Forme metalliche disponibili

Dettagli forme metalliche

Produciamo quasi tutti i metalli elencati nella tavola periodica in un'ampia gamma di forme e purezze, nonché come misure e dimensioni standard. Possiamo anche produrre prodotti su misura per soddisfare le esigenze specifiche del cliente, come dimensioni, forma, superficie, composizione e altro. L'elenco seguente fornisce un esempio dei moduli che offriamo, ma non è esaustivo. Se hai bisogno di materiali di consumo per laboratorio, contattaci direttamente per richiedere un preventivo.

  • Forme piatte/planari: cartone, pellicola, lamina, microfoglio, microfoglio, carta, lastra, nastro, foglio, striscia, Nastro, Wafer
  • Forme preformate: Anodi, sfere, fasce, barre, barchette, bulloni, bricchette, catodi, cerchi, bobine, crogioli, cristalli, cubi, tazze, cilindri, dischi, elettrodi, fibre, filamenti , flange, griglie, lenti, mandrini, dadi, parti, prismi, dischi, anelli, aste, forme, scudi, manicotti, molle, quadrati, bersagli sputtering, bastoncini, tubi, rondelle, finestre, fili
  • Microdimensioni: Perle, Pezzetti, Capsule, Trucioli, Monete, Polvere, Scaglie, Grani, Granuli, Micropolvere, Aghi, Particelle, Ciottoli, Pellet, Spilli, Pillole, Polvere, Trucioli, Pallini, Lumache, Sfere, Compresse
  • < li>Macrodimensioni: Billette, Pezzi, Ritagli, Frammenti, Lingotti, Grumi, Nuggets, Pezzi, Tranciature, Rocce, Scarti, Segmenti, Torniture
  • Porosi e Semiporosi: Tessuto, Schiuma, Garza, Nido d'ape, Rete, spugna, lana
  • Nanoscala: nanoparticelle, nanopolveri, nanofogli, nanotubi, nanotubi, nanoprismi
  • Altro: concentrato, inchiostro, pasta, precipitato, residuo, campioni, campioni

KinTek è specializzata nella produzione di materiali di elevata e ultra-purezza con un intervallo di purezza del 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e in alcuni casi, fino al 99,99999% (7N). I nostri materiali sono disponibili in qualità specifiche, tra cui UP/UHP, semiconduttori, elettronica, deposizione, fibra ottica e MBE. I nostri metalli, ossidi e composti di elevata purezza sono realizzati appositamente per soddisfare le rigorose esigenze delle applicazioni ad alta tecnologia e sono ideali per l'uso come droganti e materiali precursori per la deposizione di film sottili, la crescita dei cristalli di semiconduttori e la sintesi di nanomateriali. Questi materiali trovano impiego nella microelettronica avanzata, nelle celle solari, nelle celle a combustibile, nei materiali ottici e in altre applicazioni all'avanguardia.

Imballaggio

Utilizziamo il vuoto imballaggio per i nostri materiali ad elevata purezza e ogni materiale ha un imballaggio specifico su misura per le sue caratteristiche uniche. Ad esempio, il nostro target sputter Hf è contrassegnato ed etichettato esternamente per facilitare l'identificazione e il controllo di qualità efficienti. Facciamo molta attenzione a prevenire eventuali danni che potrebbero verificarsi durante lo stoccaggio o il trasporto.

FAQ

Cosa sono i metalli ad alta purezza?

I metalli ad alta purezza sono materiali monoelemento con impurità minime, che li rendono ideali per la ricerca, lo sviluppo e la produzione di tecnologie avanzate. Questi metalli sono utilizzati nella creazione di ceramiche avanzate, sensori elettronici, lenti e ottiche di alta precisione, LED, laser, rivestimenti a barriera termica, schermi al plasma e altro ancora. KINTEK offre una vasta gamma di metalli di elevata purezza e di composti metallici binari e ternari in varie forme, composizioni, dispersioni, dimensioni e pesi delle particelle per applicazioni di ricerca e commerciali. I metalli speciali strategici sono utilizzati in applicazioni high-tech e possono essere costosi a causa della loro elaborata lavorazione.

Che cos'è un bersaglio sputtering?

Un bersaglio sputtering è un materiale utilizzato nel processo di deposizione sputtering, che prevede la frantumazione del materiale bersaglio in minuscole particelle che formano uno spray e rivestono un substrato, come un wafer di silicio. I target di sputtering sono in genere elementi metallici o leghe, anche se sono disponibili alcuni target in ceramica. Sono disponibili in una varietà di dimensioni e forme, con alcuni produttori che creano bersagli segmentati per le apparecchiature di sputtering più grandi. I bersagli sputtering hanno un'ampia gamma di applicazioni in campi quali la microelettronica, le celle solari a film sottile, l'optoelettronica e i rivestimenti decorativi, grazie alla loro capacità di depositare film sottili con elevata precisione e uniformità.

A cosa servono i metalli ad alta purezza?

I metalli ad alta purezza sono utilizzati in varie tecnologie avanzate che richiedono proprietà, prestazioni e qualità specifiche. Vengono utilizzati per creare illuminazione fluorescente, schermi al plasma, LED, lenti e ottiche di alta precisione, sensori elettronici, ceramiche avanzate, rivestimenti a barriera termica, laser e altro ancora. Questi metalli sono utilizzati anche nella produzione di materiali magnetici, termoelettrici, fosfori e semiconduttori di alta qualità. KINTEK offre un portafoglio diversificato di metalli di elevata purezza, composti metallici binari e ternari, leghe magnetiche, ossidi metallici, nanomateriali e precursori organometallici in varie forme, composizioni, dispersioni, dimensioni e pesi delle particelle per tutte le applicazioni di ricerca e commerciali.

Come vengono prodotti i bersagli sputtering?

I target sputtering sono realizzati con una serie di processi produttivi che dipendono dalle proprietà del materiale del target e dalla sua applicazione. Questi includono la fusione e la laminazione sotto vuoto, la pressatura a caldo, il processo speciale di sinterizzazione, la pressatura a caldo sotto vuoto e i metodi di forgiatura. La maggior parte dei materiali dei target di sputtering può essere fabbricata in un'ampia gamma di forme e dimensioni; le forme circolari o rettangolari sono le più comuni. I target sono solitamente realizzati con elementi o leghe metalliche, ma possono essere utilizzati anche target ceramici. Sono disponibili anche bersagli sputtering composti, realizzati con una varietà di composti tra cui ossidi, nitruri, boruri, solfuri, seleniuri, tellururi, carburi, cristalli e miscele composite.

Quali sono i vantaggi dell'utilizzo di metalli di elevata purezza?

L'utilizzo di metalli di elevata purezza offre diversi vantaggi. In primo luogo, garantisce prestazioni costanti e affidabili grazie all'assenza di impurità che possono causare variazioni nelle proprietà del materiale. In secondo luogo, i metalli di elevata purezza consentono la produzione di prodotti di alta qualità e ad alte prestazioni, garantendo una migliore funzionalità e durata. In terzo luogo, i loro bassi livelli di impurità riducono il rischio di contaminazione nelle applicazioni sensibili. I metalli di elevata purezza presentano anche una migliore conduttività elettrica, conduttività termica e resistenza alla corrosione. Inoltre, sono spesso preferiti per le loro migliori proprietà di adesione, che li rendono adatti a vari processi di rivestimento e di deposizione di film sottili.

A cosa servono i target sputtering?

I bersagli sputtering sono utilizzati in un processo chiamato sputtering per depositare film sottili di un materiale su un substrato utilizzando ioni per bombardare il bersaglio. Questi bersagli hanno un'ampia gamma di applicazioni in vari campi, tra cui la microelettronica, le celle solari a film sottile, l'optoelettronica e i rivestimenti decorativi. Consentono la deposizione di film sottili di materiali su una varietà di substrati con elevata precisione e uniformità, rendendoli uno strumento ideale per la produzione di prodotti di precisione. I target sputtering sono disponibili in varie forme e dimensioni e possono essere specializzati per soddisfare i requisiti specifici dell'applicazione.

Quali industrie utilizzano comunemente i metalli di elevata purezza?

I metalli di elevata purezza trovano applicazione in un'ampia gamma di settori. Le industrie dei semiconduttori e dell'elettronica utilizzano ampiamente i metalli di elevata purezza per i circuiti integrati, i microprocessori e altri componenti elettronici. L'industria aerospaziale si affida ai metalli di elevata purezza per le loro proprietà di leggerezza e resistenza. Le industrie dell'ottica e del fotovoltaico utilizzano metalli di elevata purezza per ottiche di precisione e celle solari. I metalli di elevata purezza svolgono un ruolo importante anche nei dispositivi medici, nei componenti automobilistici, nei laboratori di ricerca e nei processi produttivi avanzati.

Cosa sono i target sputtering per l'elettronica?

I bersagli sputtering per l'elettronica sono dischi o fogli sottili di materiali come alluminio, rame e titanio che vengono utilizzati per depositare film sottili su wafer di silicio per creare dispositivi elettronici come transistor, diodi e circuiti integrati. Questi target sono utilizzati in un processo chiamato sputtering, in cui gli atomi del materiale target vengono fisicamente espulsi dalla superficie e depositati su un substrato bombardando il target con ioni. I target di sputtering per l'elettronica sono essenziali nella produzione di microelettronica e in genere richiedono un'elevata precisione e uniformità per garantire dispositivi di qualità.

Qual è la durata di un target di sputtering?

La durata di un bersaglio sputtering dipende da fattori quali la composizione del materiale, la purezza e l'applicazione specifica per cui viene utilizzato. In genere, i target possono durare da alcune centinaia a qualche migliaio di ore di sputtering, ma la durata può variare notevolmente a seconda delle condizioni specifiche di ogni ciclo. Anche una corretta manipolazione e manutenzione può prolungare la durata di un target. Inoltre, l'uso di bersagli sputtering rotanti può aumentare i tempi di esecuzione e ridurre l'insorgenza di difetti, rendendoli un'opzione più conveniente per i processi ad alto volume.
Visualizza altre domande frequenti per questo prodotto

4.8

out of

5

KINTEK SOLUTION's AlSiY sputtering target exceeded our expectations. Its purity and uniformity resulted in superior thin film quality.

Dr. Steffi Gamboa

4.9

out of

5

The AlSiY sputtering target from KINTEK SOLUTION has been a game-changer for our research. It's reliable and consistent, leading to reproducible results.

Mr. Katsutoshi Miyoshi

4.7

out of

5

KINTEK SOLUTION's AlSiY sputtering target is remarkable. It delivers exceptional film quality, making it an indispensable tool for our advanced electronics research.

Dr. Noor Al-Saffar

4.8

out of

5

We've seen a significant improvement in our production efficiency since switching to KINTEK SOLUTION's AlSiY sputtering target. Highly recommended!

Ms. Ainhoa Martinez

4.7

out of

5

KINTEK SOLUTION's AlSiY sputtering target has proven to be an excellent choice for our industrial applications. Its durability and reliability are top-notch.

Mr. Valentin Dumitru

4.9

out of

5

The AlSiY sputtering target from KINTEK SOLUTION is a lifesaver for our research. Its exceptional quality ensures accurate and reliable data.

Dr. Anupriya Singh

4.8

out of

5

KINTEK SOLUTION's AlSiY sputtering target has transformed our manufacturing process. The superior quality of the target has resulted in enhanced product quality.

Mr. Keigo Takahashi

4.7

out of

5

We've been using KINTEK SOLUTION's AlSiY sputtering target for years, and it never disappoints. Its consistency and reliability are unmatched.

Dr. Ana Maria Soares

4.9

out of

5

KINTEK SOLUTION's AlSiY sputtering target has exceeded our expectations. Its exceptional purity and uniformity have led to remarkable improvements in our thin film performance.

Mr. Ivan Petrov

4.8

out of

5

We're thrilled with the performance of KINTEK SOLUTION's AlSiY sputtering target. It has significantly improved the efficiency and productivity of our manufacturing process.

Dr. Sabrina Patel

4.7

out of

5

KINTEK SOLUTION's AlSiY sputtering target is a game-changer for our research. Its high quality and reliability have enabled us to achieve groundbreaking results.

Mr. Guillaume Dubois

PDF - Lega di alluminio silicio ittrio (AlSiY) Sputtering Target / polvere / filo / blocco / granulo

Scarica

Catalogo di Materiali Di Laboratorio

Scarica

Catalogo di Metalli Altamente Puri

Scarica

Catalogo di Bersagli Di Sputtering

Scarica

RICHIEDI UN PREVENTIVO

Il nostro team professionale ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitare a contattarci!

Prodotti correlati

Obiettivo di sputtering in lega di zirconio e silicio (ZrSi) / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering in lega di zirconio e silicio (ZrSi) / polvere / filo / blocco / granulo

Scoprite i nostri materiali in lega di zirconio e silicio (ZrSi) per uso di laboratorio a prezzi accessibili. Produciamo materiali su misura per soddisfare le vostre esigenze specifiche, offrendo un'ampia gamma di specifiche e dimensioni per target di sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora.

Obiettivo di sputtering in alluminio (Al) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering in alluminio (Al) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Procuratevi materiali in alluminio (Al) di alta qualità per uso di laboratorio a prezzi accessibili. Offriamo soluzioni personalizzate che comprendono target per sputtering, polveri, lamine, lingotti e altro ancora per soddisfare le vostre esigenze specifiche. Ordinate ora!

Obiettivo di sputtering in lega di alluminio e litio (AlLi) / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering in lega di alluminio e litio (AlLi) / polvere / filo / blocco / granulo

Cercate materiali in lega litio-alluminio per il vostro laboratorio? I nostri materiali AlLi, prodotti con competenza e su misura, sono disponibili in varie purezza, forme e dimensioni, tra cui bersagli per sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora. Ottenete oggi stesso prezzi ragionevoli e soluzioni uniche.

Nichel in lega di alluminio (NiAl) Target sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Nichel in lega di alluminio (NiAl) Target sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Cercate materiali di alta qualità in lega di nichel e alluminio per il vostro laboratorio? I nostri esperti producono e personalizzano i materiali NiAl per soddisfare le vostre esigenze specifiche. Trovate un'ampia gamma di dimensioni e specifiche per i target di sputtering, i materiali di rivestimento e altro ancora a prezzi accessibili.

Lega di titanio e silicio (TiSi) Obiettivo di sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Lega di titanio e silicio (TiSi) Obiettivo di sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Scoprite i nostri materiali in lega di titanio e silicio (TiSi) a prezzi accessibili per uso di laboratorio. La nostra produzione personalizzata offre diverse purezza, forme e dimensioni per bersagli sputtering, rivestimenti, polveri e altro ancora. Trovate l'abbinamento perfetto per le vostre esigenze.

Alluminio lega di rame (AlCu) Sputtering Target / polvere / filo / blocco / granulo

Alluminio lega di rame (AlCu) Sputtering Target / polvere / filo / blocco / granulo

Ottenete materiali in lega di alluminio e rame (AlCu) di alta qualità per le vostre esigenze di laboratorio a prezzi accessibili. Sono disponibili purezza, forme e dimensioni personalizzate. Acquistate bersagli per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora.

Nichel in lega di silicio (NiSi) Target di sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Nichel in lega di silicio (NiSi) Target di sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo

Cercate materiali in lega di nichel e silicio per il vostro laboratorio? I nostri materiali, prodotti con competenza e su misura, sono disponibili in varie forme e dimensioni per soddisfare le vostre esigenze specifiche. Ottenete target di sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora a prezzi ragionevoli.

Obiettivo di sputtering di itterbio (Yb) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering di itterbio (Yb) di elevata purezza / polvere / filo / blocco / granulo

Cercate materiali di itterbio (Yb) per il vostro laboratorio? La nostra esperienza consiste nel produrre materiali Yb su misura di varie purezza, forme e dimensioni. Scegliete tra la nostra ampia gamma di specifiche e dimensioni, tra cui bersagli per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora. Prezzi convenienti.

Bersaglio/polvere/filo/blocco/granulo di sputtering di silicio (Si) di elevata purezza

Bersaglio/polvere/filo/blocco/granulo di sputtering di silicio (Si) di elevata purezza

Cercate materiali in silicio (Si) di alta qualità per il vostro laboratorio? Non cercate oltre! I nostri materiali di silicio (Si) prodotti su misura sono disponibili in varie purezza, forme e dimensioni per soddisfare le vostre esigenze specifiche. Sfogliate la nostra selezione di target per sputtering, polveri, lamine e altro ancora. Ordinate ora!

Obiettivo/polvere/filo/blocco/granulo di ossido di alluminio (Al2O3) di sputtering di elevata purezza

Obiettivo/polvere/filo/blocco/granulo di ossido di alluminio (Al2O3) di sputtering di elevata purezza

Cercate materiali all'ossido di alluminio per il vostro laboratorio? Offriamo prodotti Al2O3 di alta qualità a prezzi accessibili, con forme e dimensioni personalizzabili per soddisfare le vostre esigenze specifiche. Trovate bersagli per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora.

Target di sputtering/polvere/filo/blocco/granulo di boruro di alluminio (AlB2)

Target di sputtering/polvere/filo/blocco/granulo di boruro di alluminio (AlB2)

Cercate materiali di alta qualità a base di boruro di alluminio per il vostro laboratorio? I nostri prodotti AlB2 su misura sono disponibili in varie forme e dimensioni per soddisfare le vostre esigenze. Scoprite la nostra gamma di bersagli per sputtering, materiali di rivestimento, polveri e altro ancora.

Allumina (Al2O3) Ceramica Rod-Insulated

Allumina (Al2O3) Ceramica Rod-Insulated

La barretta di allumina isolata è un materiale ceramico fine. Le barre di allumina hanno eccellenti proprietà di isolamento elettrico, elevata resistenza chimica e bassa espansione termica.

Foglio di ceramica al nitruro di alluminio (AlN)

Foglio di ceramica al nitruro di alluminio (AlN)

Il nitruro di alluminio (AlN) ha le caratteristiche di una buona compatibilità con il silicio. Non solo viene utilizzato come coadiuvante di sinterizzazione o come fase di rinforzo per le ceramiche strutturali, ma le sue prestazioni superano di gran lunga quelle dell'allumina.

Obiettivo di sputtering in lega di zirconio e argento (ZrAg) / polvere / filo / blocco / granulo

Obiettivo di sputtering in lega di zirconio e argento (ZrAg) / polvere / filo / blocco / granulo

Scoprite i materiali in lega di zirconio e argento (ZrAg) a prezzi accessibili per uso di laboratorio. Le nostre soluzioni su misura soddisfano le vostre esigenze specifiche con purezza, forme e dimensioni diverse. Trovate bersagli per sputtering, rivestimenti, particelle, polveri e altro ancora.

Silicio a infrarossi / Silicio ad alta resistenza / Lente di silicio a cristallo singolo

Silicio a infrarossi / Silicio ad alta resistenza / Lente di silicio a cristallo singolo

Il silicio (Si) è ampiamente considerato uno dei materiali minerali e ottici più durevoli per le applicazioni nella gamma del vicino infrarosso (NIR), da circa 1 μm a 6 μm.

Allumina Zirconia Pezzi di forma speciale Elaborazione di piastre ceramiche su misura

Allumina Zirconia Pezzi di forma speciale Elaborazione di piastre ceramiche su misura

Le ceramiche di allumina hanno una buona conducibilità elettrica, resistenza meccanica e resistenza alle alte temperature, mentre le ceramiche di zirconio sono note per la loro elevata resistenza e tenacità e sono ampiamente utilizzate.

Nitruro di silicio (SiNi) Foglio ceramico Lavorazione di precisione in ceramica

Nitruro di silicio (SiNi) Foglio ceramico Lavorazione di precisione in ceramica

La lastra di nitruro di silicio è un materiale ceramico comunemente utilizzato nell'industria metallurgica grazie alle sue prestazioni uniformi alle alte temperature.

Vetro privo di alcali / Boro-alluminosilicato

Vetro privo di alcali / Boro-alluminosilicato

Il vetro boroaluminosilicato è altamente resistente all'espansione termica, il che lo rende adatto alle applicazioni che richiedono resistenza alle variazioni di temperatura, come la vetreria da laboratorio e gli utensili da cucina.

Piastra in allumina (Al2O3) isolante ad alta temperatura e resistente all'usura

Piastra in allumina (Al2O3) isolante ad alta temperatura e resistente all'usura

La piastra isolante in allumina resistente alle alte temperature ha eccellenti prestazioni di isolamento e resistenza alle alte temperature.