La pressione massima per una pompa di diffusione è in genere compresa tra 10-2 e 10-10 Torr. Questo intervallo è determinato dalla capacità della pompa di produrre livelli di vuoto elevati, fondamentali per varie applicazioni industriali come la microscopia a fascio di elettroni, la deposizione sotto vuoto, i rivestimenti e i forni a vuoto.
La pompa di diffusione funziona secondo un principio semplice, senza parti in movimento, che la rende durevole e affidabile. È progettata per funzionare insieme a una pompa di mantenimento che mantiene la pressione interna durante le modalità di inattività. Quando la pompa di diffusione è operativa, la valvola della pompa di mantenimento è isolata e una pompa meccanica e una soffiante fungono da pompa di sostegno.
Per i clienti che non necessitano di pressioni di sistema estremamente basse, è possibile utilizzare un sistema a due stadi invece di un sistema a tre stadi che include una pompa di diffusione. In un sistema a due stadi, il livello di pressione può essere aumentato dalla pressione atmosferica a 4,5 x 10-2 Torr, rispetto agli 8,0 x 10-6 Torr ottenuti con un forno con pompa di diffusione. Questa flessibilità nella gestione della pressione consente di adattare le pompe a diffusione alle specifiche esigenze industriali, garantendo prestazioni ed efficienza ottimali.
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