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Target di sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo di solfuro di molibdeno (MoS2)

Materiali di laboratorio

Target di sputtering / Polvere / Filo / Blocco / Granulo di solfuro di molibdeno (MoS2)

Numero articolo : LM-MoS2

Il prezzo varia in base a specifiche e personalizzazioni


Formula chimica
MoS2
Purezza
4N
Forma
dischi / filo / blocco / polvere / piastre / bersagli a colonna / bersaglio a gradini / su misura
ISO & CE icon

Spedizione:

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A prezzi accessibili, offriamo materiali di solfuro di molibdeno (MoS2) per uso di laboratorio. La nostra area di competenza consiste nella produzione e personalizzazione di materiali in solfuro di molibdeno (MoS2) con purezza, forme e dimensioni diverse per soddisfare le vostre esigenze specifiche.

Forniamo una vasta gamma di specifiche e dimensioni per bersagli per sputtering (circolari, quadrati, tubolari, irregolari), materiali di rivestimento, cilindri, coni, particelle, lamine, polveri, polveri per stampa 3D, polveri nanometriche, vergelle, lingotti e blocchi, tra gli altri.

Dettagli

Bersaglio sputtering in solfuro di molibdeno (MoS2)
Target di sputtering in solfuro di molibdeno (MoS2)
Bersaglio sputtering in solfuro di molibdeno (MoS2)
Bersaglio sputtering in solfuro di molibdeno (MoS2)
Target di sputtering in solfuro di molibdeno (MoS2)
Bersaglio sputtering in solfuro di molibdeno (MoS2)
Obiettivo di sputtering in solfuro di molibdeno (MoS2)
Obiettivo di sputtering in solfuro di molibdeno (MoS2)

Informazioni sul solfuro di molibdeno (MoS2)

Il solfuro di molibdeno (MoS2) o disolfuro di molibdeno è una fonte moderatamente solubile di molibdeno che può essere utilizzata nelle applicazioni con solfati. I composti solfati si formano sostituendo uno o entrambi gli idrogeni dell'acido solforico con un metallo. A differenza dei fluoruri e degli ossidi, la maggior parte dei composti di solfato metallico è solubile in acqua, il che li rende ideali per il trattamento delle acque.

Le forme organometalliche del solfuro di molibdeno sono solubili in soluzioni organiche e talvolta sia in soluzioni acquose che organiche. Gli ioni metallici possono anche essere dispersi utilizzando nanoparticelle sospese o rivestite e depositati utilizzando bersagli di sputtering e materiali di evaporazione. Tali applicazioni possono essere trovate nei materiali per l'energia solare e nelle celle a combustibile.

Il solfuro di molibdeno è facilmente disponibile nella maggior parte dei volumi e le composizioni ad alta purezza migliorano la qualità ottica e l'utilità come standard scientifici. Inoltre, per alcune applicazioni possono essere prese in considerazione polveri e sospensioni elementari in scala nanometrica, come forme alternative ad alta area superficiale.

Controllo qualità ingredienti

Analisi della composizione della materia prima
Attraverso l'utilizzo di apparecchiature quali ICP e GDMS, il contenuto di impurità metalliche viene rilevato e analizzato per garantire che soddisfi lo standard di purezza;

Le impurità non metalliche vengono rilevate da apparecchiature quali analizzatori di carbonio e zolfo, analizzatori di azoto e ossigeno.
Analisi di rilevamento difetti metallografici
Il materiale target viene ispezionato utilizzando apparecchiature di rilevamento dei difetti per garantire che non vi siano difetti o fori di ritiro all'interno del prodotto;

Attraverso i test metallografici, viene analizzata la struttura interna dei grani del materiale target per garantire che i grani siano fini e densi.
Controllo dell'aspetto e delle dimensioni
Le dimensioni del prodotto sono misurate utilizzando micrometri e calibri di precisione per garantire la conformità ai disegni;

La finitura superficiale e la pulizia del prodotto vengono misurate utilizzando un misuratore di pulizia della superficie.

Dimensioni target convenzionali dello sputtering

Processo di preparazione
pressatura isostatica a caldo, fusione sotto vuoto, ecc.
Forma bersaglio sputtering
sputtering piano bersaglio, bersaglio sputtering multi-arco, bersaglio sputtering a gradini, bersaglio sputtering a forma speciale
Dimensione target sputtering rotondo
Diametro: 25,4 mm / 50 mm / 50,8 mm / 60 mm / 76,2 mm / 80 mm / 100 mm / 101,6 mm / 152,4 mm
Spessore: 3 mm / 4 mm / 5 mm / 6 mm / 6,35 mm
Le dimensioni possono essere personalizzate.
Dimensione target sputtering quadrato
50×50×3 mm / 100×100×4 mm / 300×300×5 mm, le dimensioni possono essere personalizzate

Forme metalliche disponibili

Dettagli forme metalliche

Produciamo quasi tutti i metalli elencati nella tavola periodica in un'ampia gamma di forme e purezze, nonché come misure e dimensioni standard. Possiamo anche produrre prodotti su misura per soddisfare le esigenze specifiche del cliente, come dimensioni, forma, superficie, composizione e altro. L'elenco seguente fornisce un esempio dei moduli che offriamo, ma non è esaustivo. Se hai bisogno di materiali di consumo per laboratorio, contattaci direttamente per richiedere un preventivo.

  • Forme piatte/planari: cartone, pellicola, lamina, microfoglio, microfoglio, carta, lastra, nastro, foglio, striscia, Nastro, Wafer
  • Forme preformate: Anodi, sfere, fasce, barre, barchette, bulloni, bricchette, catodi, cerchi, bobine, crogioli, cristalli, cubi, tazze, cilindri, dischi, elettrodi, fibre, filamenti , flange, griglie, lenti, mandrini, dadi, parti, prismi, dischi, anelli, aste, forme, scudi, manicotti, molle, quadrati, bersagli sputtering, bastoncini, tubi, rondelle, finestre, fili
  • Microdimensioni: Perle, Pezzetti, Capsule, Trucioli, Monete, Polvere, Scaglie, Grani, Granuli, Micropolvere, Aghi, Particelle, Ciottoli, Pellet, Spilli, Pillole, Polvere, Trucioli, Pallini, Lumache, Sfere, Compresse
  • < li>Macrodimensioni: Billette, Pezzi, Ritagli, Frammenti, Lingotti, Grumi, Nuggets, Pezzi, Tranciature, Rocce, Scarti, Segmenti, Torniture
  • Porosi e Semiporosi: Tessuto, Schiuma, Garza, Nido d'ape, Rete, spugna, lana
  • Nanoscala: nanoparticelle, nanopolveri, nanofogli, nanotubi, nanotubi, nanoprismi
  • Altro: concentrato, inchiostro, pasta, precipitato, residuo, campioni, campioni

KinTek è specializzata nella produzione di materiali di elevata e ultra-purezza con un intervallo di purezza del 99,999% (5N), 99,9999% (6N), 99,99995% (6N5) e in alcuni casi, fino al 99,99999% (7N). I nostri materiali sono disponibili in qualità specifiche, tra cui UP/UHP, semiconduttori, elettronica, deposizione, fibra ottica e MBE. I nostri metalli, ossidi e composti di elevata purezza sono realizzati appositamente per soddisfare le rigorose esigenze delle applicazioni ad alta tecnologia e sono ideali per l'uso come droganti e materiali precursori per la deposizione di film sottili, la crescita dei cristalli di semiconduttori e la sintesi di nanomateriali. Questi materiali trovano impiego nella microelettronica avanzata, nelle celle solari, nelle celle a combustibile, nei materiali ottici e in altre applicazioni all'avanguardia.

Imballaggio

Utilizziamo il vuoto imballaggio per i nostri materiali ad elevata purezza e ogni materiale ha un imballaggio specifico su misura per le sue caratteristiche uniche. Ad esempio, il nostro target sputter Hf è contrassegnato ed etichettato esternamente per facilitare l'identificazione e il controllo di qualità efficienti. Facciamo molta attenzione a prevenire eventuali danni che potrebbero verificarsi durante lo stoccaggio o il trasporto.

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Imelda Hamilton

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Isabella Johnson

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